專利名稱：濺鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種濺鍍技術(shù)，尤其涉及一種濺鍍裝置。
背景技術(shù)：
濺鍍是一種物理氣相沉積技術(shù)，濺鍍?cè)硎窃谡婵窄h(huán)境下，利用輝光放電或離子束產(chǎn)生的高能等離子體撞擊耙材，以動(dòng)量轉(zhuǎn)移方式將耙材內(nèi)的原子從耙材上轟擊出來(lái)而沉積在基板上形成薄膜。由于濺鍍可以達(dá)成較佳的沉積效率、精確的成份控制，以及較低的制造成本，因此已廣泛應(yīng)用于工業(yè)中各種金屬和非金屬膜層的制作。在進(jìn)行反應(yīng)性濺鍍時(shí)，要向?yàn)R鍍腔體內(nèi)通入多種反應(yīng)性氣體，一般地，先將該多種反應(yīng)氣體通入一個(gè)腔體內(nèi)進(jìn)行混合，然后再通過(guò)一個(gè)氣體管道將混合后的反應(yīng)氣體通入濺鍍腔體內(nèi)，同時(shí)也需要不斷地從該濺鍍腔體中抽氣出來(lái)。而由于抽氣口設(shè)置的位置或抽氣速度過(guò)快等各種不同的因素容易導(dǎo)致反應(yīng)不完全情況發(fā)生，從而影響鍍膜品質(zhì)。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種能夠在反應(yīng)性濺鍍過(guò)程中使反應(yīng)氣體完全反應(yīng)的濺鍍
直ο一種濺鍍裝置，其包括一個(gè)濺鍍腔體、一個(gè)設(shè)置于該濺鍍腔體內(nèi)的固定架、多個(gè)設(shè)置于該固定架上且用于懸掛待鍍工件的料桿及一個(gè)位于該濺鍍腔體內(nèi)的進(jìn)氣裝置。該進(jìn)氣裝置包括一個(gè)進(jìn)氣管及與該多個(gè)料桿對(duì)應(yīng)設(shè)置的多個(gè)導(dǎo)氣管。每個(gè)導(dǎo)氣管包括一個(gè)與該進(jìn)氣管連通的進(jìn)氣端及一個(gè)與該進(jìn)氣端相對(duì)的封閉端。每個(gè)導(dǎo)氣管在該進(jìn)氣端和該封閉端之間設(shè)有多個(gè)氣孔。與現(xiàn)有技術(shù)相比，上述濺鍍裝置，通過(guò)進(jìn)氣裝置的導(dǎo)氣管將反應(yīng)性氣體通入到料桿附近，使濺鍍腔體內(nèi)未完全反應(yīng)的氣體與從該導(dǎo)氣管通入的氣體反應(yīng)完全，避免了由各種因素導(dǎo)致的反應(yīng)不完全情況的發(fā)生，使得反應(yīng)氣體能夠完全反應(yīng)，從而保證鍍膜品質(zhì)。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的濺鍍裝置的立體分解圖。圖2為圖1中的進(jìn)氣裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為圖1中的濺鍍裝置的部分組裝示意圖。圖4為圖1中的濺鍍裝置的立體組裝圖。主要元件符號(hào)說(shuō)明濺鍍裝置 10濺鍍腔體11進(jìn)氣口111出氣口112料桿12
懸掛架121
固定架13
上承載盤131
下承載盤132
支撐桿133
進(jìn)氣裝置14
固持架141
通氣管141a
支撐部141b
導(dǎo)氣管141c
進(jìn)氣端141d
封閉端141e
氣孔141f
側(cè)壁141g
進(jìn)氣管142
分流管14具體實(shí)施例方式為了對(duì)本發(fā)明的濺鍍裝置做進(jìn)一步的說(shuō)明，舉以下實(shí)施方式并配合附圖進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。請(qǐng)參閱圖1及圖4，為本發(fā)明提供的一種濺鍍裝置10包括一個(gè)濺鍍腔體11、四個(gè)料桿12、一個(gè)固定架13及一個(gè)進(jìn)氣裝置14。該濺鍍腔體11為空心圓柱體，其用來(lái)對(duì)待鍍工件(圖未示)進(jìn)行濺鍍。該濺鍍腔體11上設(shè)有一個(gè)用來(lái)通入反應(yīng)氣體的進(jìn)氣口 111和一個(gè)用來(lái)抽氣的出氣口 112。該料桿12為柱狀桿體，在該料桿12上間隔設(shè)有用于懸掛該待鍍工件的懸掛架 121。其中，該料桿12的數(shù)量可以根據(jù)具體情況而定。該固定架13包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)環(huán)狀上承載盤131及一個(gè)環(huán)狀下承載盤132，在該上承載盤131及該下承載盤132之間還設(shè)置有四個(gè)支撐桿133以對(duì)其進(jìn)行支撐固定，該多個(gè)料桿12間隔且可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于該上承載盤131和該下承載盤132之間。該料桿12設(shè)置于該上承載盤131和該下承載盤132之間的結(jié)構(gòu)可以任意，只要保證該料桿12可以相對(duì)于該上承載盤131和該下承載盤132轉(zhuǎn)動(dòng)即可。請(qǐng)結(jié)合圖2及圖3，該進(jìn)氣裝置14包括一個(gè)固持架141、一個(gè)進(jìn)氣管142及四個(gè)分流管143。該固持架141設(shè)置于該固定架13內(nèi)側(cè)，該固持架141包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)環(huán)狀通氣管141a、一個(gè)環(huán)狀支撐部141b及四個(gè)導(dǎo)氣管141c。該進(jìn)氣管142為中空管狀，其截面形狀不限。該進(jìn)氣管142通過(guò)該四個(gè)分流管143 與通氣管141a連通。該導(dǎo)氣管141c也為中空?qǐng)A管狀，設(shè)置于該通氣管141a與該支撐部141b之間且與該料桿12對(duì)應(yīng)。該導(dǎo)氣管141c包括一個(gè)與該分流管143對(duì)應(yīng)連通的進(jìn)氣端141d及一個(gè)與該進(jìn)氣端141d相對(duì)的封閉端141e。該封閉端141e固設(shè)于該支撐部141b。該導(dǎo)氣管141c 在該進(jìn)氣端141d和該封閉端141e之間設(shè)有多個(gè)氣孔141f。優(yōu)選地，該多個(gè)氣孔141f沿該導(dǎo)氣管141c中心軸等間隔設(shè)置于該進(jìn)氣端141d和該封閉端141e之間。更加優(yōu)選地，該多個(gè)氣孔141f的孔徑從該進(jìn)氣端141d至該封閉端141e依次增大。如此，可以使從該進(jìn)氣端 141d附近的氣孔141f溢出的氣體量與從該封閉端141e附近的氣孔141f溢出的氣體量相差不多。其中，該多個(gè)氣孔141f沿該導(dǎo)氣管141c的軸向排成一列且面向該料桿12設(shè)置于該導(dǎo)氣管141c的側(cè)壁141g。如此，有利于該濺鍍腔體11內(nèi)的氣體反應(yīng)完全后再濺鍍到該待鍍工件上。在其他實(shí)施方式中，該多個(gè)氣孔141f數(shù)量及排列方式可根據(jù)實(shí)際情況而定。在其他實(shí)施方式中，該導(dǎo)氣管141c也可以為錐形管。對(duì)應(yīng)地，該多個(gè)氣孔141f位于該導(dǎo)氣管141c的同一母線上，且沿該母線等間距。在其他實(shí)施方式中，該固持架141也可以設(shè)置于固定架13的其他位置，只要保證使該導(dǎo)氣管141c與該料桿12對(duì)應(yīng)即可。如此，可以使未完全反應(yīng)的氣體與從該導(dǎo)氣管141c 通入的氣體反應(yīng)完全。在其他實(shí)施方式中，該進(jìn)氣裝置14也可以不包括該通氣管141a及該支撐部141b， 而是在該上承載盤131上開(kāi)設(shè)有多個(gè)通孔(圖未示)，該導(dǎo)氣管141c穿過(guò)該多個(gè)通孔使該導(dǎo)氣管141c的封閉端141e與該下承載盤132抵持。在濺鍍過(guò)程中，驅(qū)動(dòng)該固定架13使其進(jìn)行公轉(zhuǎn)，并同時(shí)驅(qū)動(dòng)該料桿12使該其帶動(dòng)被鍍工件進(jìn)行自轉(zhuǎn)。同時(shí)，從該進(jìn)氣管142通入反應(yīng)氣體，使其從該多個(gè)氣孔141f溢出，與該濺鍍腔體11內(nèi)的氣體進(jìn)行反應(yīng)。優(yōu)選地，在固定架13進(jìn)行公轉(zhuǎn)的過(guò)程中，該進(jìn)氣裝置14 也同時(shí)進(jìn)行公轉(zhuǎn)，使設(shè)置于該固定架13上的料桿12與該進(jìn)氣裝置14上的導(dǎo)氣管141c始終保持對(duì)應(yīng)。如此，可以更有利于使反應(yīng)氣體完全反應(yīng)。上述濺鍍裝置，通過(guò)進(jìn)氣裝置的導(dǎo)氣管將反應(yīng)性氣體通入到料桿附近，使濺鍍腔體內(nèi)未完全反應(yīng)的氣體與從該導(dǎo)氣管通入的氣體反應(yīng)完全，避免了由各種因素導(dǎo)致的反應(yīng)不完全情況的發(fā)生，使得反應(yīng)氣體能夠完全反應(yīng)，從而保證鍍膜品質(zhì)?？梢岳斫獾氖牵瑢?duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形，而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種濺鍍裝置，其包括一個(gè)濺鍍腔體、一個(gè)設(shè)置于該濺鍍腔體內(nèi)的固定架及多個(gè)設(shè)置于該固定架上且用于懸掛待鍍工件的料桿，其特征在于該濺鍍裝置還包括一個(gè)位于該濺鍍腔體內(nèi)的進(jìn)氣裝置，該進(jìn)氣裝置包括一個(gè)進(jìn)氣管及與該多個(gè)料桿對(duì)應(yīng)設(shè)置的多個(gè)導(dǎo)氣管，每個(gè)導(dǎo)氣管包括一個(gè)與該進(jìn)氣管連通的進(jìn)氣端及一個(gè)與該進(jìn)氣端相對(duì)的封閉端，每個(gè)導(dǎo)氣管在該進(jìn)氣端和該封閉端之間設(shè)有多個(gè)氣孔。
2.如權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于該多個(gè)氣孔的孔徑從該進(jìn)氣端至該封閉端依次增大。
3.如權(quán)利要求2所述的濺鍍裝置，其特征在于該多個(gè)氣孔沿該導(dǎo)氣管中心軸等間隔設(shè)置于該進(jìn)氣端和該封閉端之間。
4.如權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于該導(dǎo)氣管為錐形管，該多個(gè)氣孔的孔徑相同且等間距設(shè)置。
5.如權(quán)利要求4所述的濺鍍裝置，其特征在于該多個(gè)氣孔位于該導(dǎo)氣管的同一母線上，且沿該母線等間距。
6.如權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于該多個(gè)氣孔設(shè)于該導(dǎo)氣管與該料桿對(duì)應(yīng)的一側(cè)。
7.如權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于該多個(gè)氣孔沿該導(dǎo)氣管的軸向呈至少一列設(shè)置于該導(dǎo)氣管的側(cè)壁。
8.如權(quán)利要求1所述的濺鍍裝置，其特征在于該固定架包括相對(duì)設(shè)置的一個(gè)環(huán)狀上承載盤及一個(gè)環(huán)狀下承載盤，在該上承載盤及該下承載盤之間還設(shè)置有若干支撐桿以支撐固定該上承載盤及該下承載盤，該多個(gè)料桿間隔且可轉(zhuǎn)動(dòng)地設(shè)置于該上承載盤和該下承載盤之間。
9.如權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其特征在于該進(jìn)氣裝置還包括一個(gè)進(jìn)氣管和一個(gè)設(shè)置于該固定架內(nèi)側(cè)的固持架，該固持架包括一個(gè)環(huán)狀通氣管、一個(gè)與該通氣管相對(duì)設(shè)置的環(huán)狀支撐部及多個(gè)設(shè)置于該通氣管與該支撐部之間且與該料桿對(duì)應(yīng)的導(dǎo)氣管，該導(dǎo)氣管的進(jìn)氣端通過(guò)該通氣管與該進(jìn)氣管連通，該導(dǎo)氣管的封閉端固設(shè)于該支撐部。
10.如權(quán)利要求8所述的濺鍍裝置，其特征在于該上承載盤上開(kāi)設(shè)有多個(gè)通孔，該導(dǎo)氣管穿過(guò)該多個(gè)通孔使該導(dǎo)氣管的封閉端與該下承載盤抵持。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種濺鍍裝置，其包括一個(gè)濺鍍腔體、一個(gè)設(shè)置于該濺鍍腔體內(nèi)的固定架、多個(gè)設(shè)置于該固定架上且用于懸掛待鍍工件的料桿及一個(gè)位于該濺鍍腔體內(nèi)的進(jìn)氣裝置。該進(jìn)氣裝置包括一個(gè)進(jìn)氣管及與該多個(gè)料桿對(duì)應(yīng)設(shè)置的多個(gè)導(dǎo)氣管。每個(gè)導(dǎo)氣管包括一個(gè)與該進(jìn)氣管連通的進(jìn)氣端及一個(gè)與該進(jìn)氣端相對(duì)的封閉端。每個(gè)導(dǎo)氣管在該進(jìn)氣端和該封閉端之間設(shè)有多個(gè)氣孔。通過(guò)進(jìn)氣裝置使濺鍍腔體內(nèi)未完全反應(yīng)的氣體與從該導(dǎo)氣管通入的氣體完全反應(yīng)，從而保證鍍膜品質(zhì)。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102242344SQ20101016938
公開(kāi)日2011年11月16日 申請(qǐng)日期2010年5月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月13日
發(fā)明者王仲培 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司