技術(shù)編號(hào):3362931
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種濺鍍技術(shù),尤其涉及一種濺鍍裝置。 背景技術(shù)濺鍍是一種物理氣相沉積技術(shù),濺鍍?cè)硎窃谡婵窄h(huán)境下,利用輝光放電或離子束產(chǎn)生的高能等離子體撞擊耙材,以動(dòng)量轉(zhuǎn)移方式將耙材內(nèi)的原子從耙材上轟擊出來(lái)而沉積在基板上形成薄膜。由于濺鍍可以達(dá)成較佳的沉積效率、精確的成份控制,以及較低的制造成本,因此已廣泛應(yīng)用于工業(yè)中各種金屬和非金屬膜層的制作。在進(jìn)行反應(yīng)性濺鍍時(shí),要向?yàn)R鍍腔體內(nèi)通入多種反應(yīng)性氣體,一般地,先將該多種反應(yīng)氣體通入一個(gè)腔體內(nèi)進(jìn)行混合,然后再通過(guò)一個(gè)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。