一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置的制造方法
【專利摘要】本實用新型實施例公開了一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置。該線性蒸發(fā)源包括：包括坩堝，還包括：位于所述坩堝上的一組噴嘴、至少一組備用噴嘴和位于坩堝內(nèi)可移動的擋板；其中：所述一組噴嘴由在所述坩堝上均勻分布的多個噴嘴組成；所述各組備用噴嘴由在所述一組噴嘴中各噴嘴的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴組成；所述擋板上具有僅露出所述一組噴嘴中各噴嘴或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴的多個開孔。該方案中，為一組噴嘴設(shè)置有至少一組備用噴嘴，在一組噴嘴發(fā)生堵塞時，可以通過移動擋板更換一組備用噴嘴，這樣，與現(xiàn)有技術(shù)的方案相比，就無需中斷蒸鍍過程降溫破真空進行清洗處理，從而提高了生產(chǎn)效率。
【專利說明】
一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示技術(shù)領(lǐng)域中，在顯示器的制作過程中，真空鍍膜是一種較成熟的成膜方式，將用于成膜的材料通過線性蒸發(fā)源加熱蒸鍍到基板上。但是，由于某些材料的特殊性，在蒸鍍的過程中，容易對線性蒸發(fā)源中的噴嘴造成堵塞，一旦發(fā)生堵塞就需要降溫破真空進行清洗處理，對設(shè)備的稼動率造成很大的影響，降低了生產(chǎn)效率。尤其，在有機發(fā)光二極管(Organic Light-emitting D1de，0LED)顯示器的制作過程中，有機材料的成膜過程中更加容易出現(xiàn)噴嘴堵塞的問題，生產(chǎn)效率很低。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型實施例的目的是提供一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中線性蒸發(fā)源因噴嘴堵塞導致生產(chǎn)效率降低的問題。
[0004]本實用新型實施例的目的是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
[0005]—種線性蒸發(fā)源，包括坩禍，還包括:位于所述坩禍上的一組噴嘴、至少一組備用噴嘴和位于坩禍內(nèi)可移動的擋板;其中:
[0006]所述一組噴嘴由在所述坩禍上均勻分布的多個噴嘴組成；
[0007]所述各組備用噴嘴由在所述一組噴嘴中各噴嘴的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴組成；
[0008]所述擋板上具有僅露出所述一組噴嘴中各噴嘴或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴的多個開孔。
[0009]較佳地，在所述擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制所述擋板移動的氣缸。
[0010]較佳地，在所述擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制所述擋板移動的電磁閥。
[0011]較佳地，所述開孔的大小不小于所述噴嘴或所述備用噴嘴的大小。
[0012]較佳地，所述噴嘴和所述備用噴嘴的形狀為圓形，所述開孔的形狀為矩形或者圓形。
[0013]較佳地，在各所述噴嘴與備用噴嘴之間的距離均相等。
[0014]較佳地，所有所述噴嘴和所述備用噴嘴在所述坩禍上均勻分布。
[0015]—種蒸鍍裝置，包括以上任一項所述的線性蒸發(fā)源。
[0016]本實用新型實施例的有益效果如下:
[0017]本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置中，為一組噴嘴設(shè)置有至少一組備用噴嘴，在一組噴嘴發(fā)生堵塞時，可以通過移動擋板更換一組備用噴嘴，這樣，與現(xiàn)有技術(shù)的方案相比，就無需中斷蒸鍍過程降溫破真空進行清洗處理，從而提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0018]圖1為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之一；
[0019]圖2為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之二；
[0020]圖3為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之三；
[0021]圖4為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源中擋板和噴嘴的俯視示意圖之 ，
[0022]圖5為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源中擋板和備用噴嘴的俯視示意圖之一；
[0023]圖6為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之四；
[0024]圖7為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源中擋板和噴嘴的俯視示意圖之-* *
[0025]圖8為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源中擋板和備用噴嘴的俯視示意圖之二；
[0026]圖9為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之五；
[0027]圖10為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之六；
[0028]圖11為本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源的結(jié)構(gòu)示意圖之七。
【具體實施方式】
[0029]下面結(jié)合附圖和實施例對本實用新型提供的一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置進行更詳細地說明。
[0030]本實用新型實施例提供一種線性蒸發(fā)源，包括坩禍，還包括:位于坩禍上的一組噴嘴、至少一組備用噴嘴和位于坩禍內(nèi)可移動的擋板;其中:
[0031]—組噴嘴由在坩禍上均勻分布的多個噴嘴組成；
[0032]各組備用噴嘴由在一組噴嘴中各噴嘴的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴組成；
[0033]擋板上具有僅露出一組噴嘴中各噴嘴或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴的多個開孔。
[0034]本實用新型實施例中，為一組噴嘴設(shè)置有至少一組備用噴嘴，在一組噴嘴發(fā)生堵塞時，可以通過移動擋板更換一組備用噴嘴，這樣，與現(xiàn)有技術(shù)的方案相比，就無需中斷蒸鍍過程降溫破真空進行清洗處理，從而提高了生產(chǎn)效率。
[0035]其中，一組噴嘴中的噴嘴數(shù)量和一組備用噴嘴中備用噴嘴的數(shù)量相同，且噴嘴和備用噴嘴的規(guī)格(包括尺寸、材料，等等)相同。
[0036]具體實施時，為了方便控制擋板的移動，較佳地，在擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制擋板移動的氣缸?；蛘撸趽醢宓囊粋?cè)設(shè)置有用于控制擋板移動的電磁閥。
[0037]具體實施時，為了保證所蒸鍍的材料能夠順利進入噴嘴，較佳地，開孔的大小不小于噴嘴或備用噴嘴的大小。
[0038]具體實施時，較佳地，噴嘴和備用噴嘴的形狀可以但不限于為圓形，開孔的形狀可以但不限于為矩形或者圓形。
[0039]具體實施時，較佳地，在各噴嘴與備用噴嘴之間的距離均相等。
[0040]具體實施時，較佳地，所有噴嘴和備用噴嘴在坩禍上均勻分布。這樣，可以進一步保證成膜均勻。
[0041]具體實施時，擋板上的開孔的數(shù)量可以與一組噴嘴或者一組備用噴嘴的數(shù)量相等，也可以大于一組噴嘴或者一組備用噴嘴的數(shù)量，只要保證能夠僅漏出一組噴嘴或者一組備用噴嘴即可。
[0042]具體實施時，可以根據(jù)實際需要靈活設(shè)置備用噴嘴的組數(shù)，例如，若所蒸鍍的材料發(fā)生堵塞的情況較多，可以設(shè)置一組或兩組備用噴嘴，若所蒸鍍的材料發(fā)生堵塞的情況非常多，則設(shè)置兩組以上備用噴嘴，當然還可以進一步考慮其它的影響因素，進而確定所設(shè)置的備用噴嘴的組數(shù)。
[0043]下面分別以設(shè)置一組備用噴嘴和兩組備用噴嘴的情況為例，對本實用新型實施例所提供的一種線性蒸發(fā)源進行更加詳細地描述。
[0044]參見圖1所示的線性蒸發(fā)源，為一組噴嘴設(shè)置一組備用噴嘴，該線性蒸發(fā)源包括坩禍1、位于坩禍I上的一組噴嘴、一組備用噴嘴和位于坩禍I內(nèi)可移動的擋板;其中:
[0045]—組噴嘴由在坩禍I上均勻分布的多個噴嘴2A組成；
[0046]一組備用噴嘴由在一組噴嘴中各噴嘴2A的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴2B組成；
[0047]擋板上具有僅露出一組噴嘴中各噴嘴2A或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴2B的多個開孔31。
[0048]其中，噴嘴2A和備用噴嘴2B的規(guī)格相同。
[0049]其中，噴嘴2A和備用噴嘴2B的形狀為圓形，開孔的形狀為矩形。
[0050]其中，在各噴嘴2A與備用噴嘴2B之間的距離均相等。
[0051]基于圖1所示的線性蒸發(fā)源，所有噴嘴2A和備用噴嘴2B在坩禍上均勻分布，參見圖2，所有噴嘴2A均勻分布，且備用噴嘴2B位于兩個噴嘴2A的間隔中部。
[0052]基于圖2所示的線性蒸發(fā)源，參見圖3，在擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制擋板3移動的氣缸4。
[0053]在蒸鍍的過程中，參見圖4，先使用噴嘴2A，當有噴嘴2A發(fā)生堵塞時，通過氣缸4控制擋板3向右移動，更換為備用噴嘴2B，參見圖5。在蒸鍍完成后，再對噴嘴2A進行清洗處理。在后續(xù)的蒸鍍過程中，若有噴嘴2B再發(fā)生堵塞，再通過氣缸4控制擋板3向左移動，更換為噴嘴2A。
[0054]圖1?圖3所示的線性蒸發(fā)源中，擋板3上的開孔31的數(shù)量與噴嘴2A或備用噴嘴2B的數(shù)量相等。也可以設(shè)置擋板3上的開孔31的數(shù)量比噴嘴2A或備用噴嘴2B的數(shù)量多一個，參見圖6;在僅漏出噴嘴2A時，在擋板3的最右端有一個剩余開孔31，參見圖7所示的俯視圖；通過氣缸4控制擋板3向左移動，僅漏出備用噴嘴2B時，在擋板3的最左端有一個剩余開孔31，參見圖8所示的俯視圖。
[0055]參見圖9所示的線性蒸發(fā)源，為一組噴嘴設(shè)置兩組備用噴嘴，該線性蒸發(fā)源包括坩禍1、位于坩禍I上的一組噴嘴、兩組備用噴嘴和位于坩禍I內(nèi)可移動的擋板3;其中:
[0056]一組噴嘴由在坩禍I上均勻分布的多個噴嘴2A組成；
[0057]兩組備用噴嘴中:一組備用噴嘴由在一組噴嘴中各噴嘴2A的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴2B組成;另一組備用噴嘴由在一組噴嘴中各噴嘴2A的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴2C組成；
[0058]擋板上具有僅露出一組噴嘴中各噴嘴2A，或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴2B，或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴2C的多個開孔31。
[0059]其中，噴嘴2A、備用噴嘴2B和備用噴嘴2C的形狀為圓形，開孔的形狀為矩形。
[0060]其中，在各噴嘴2A與備用噴嘴2B之間的距離均相等，各噴嘴2A與備用噴嘴2C之間的距離均相等。
[0061]其中，所有噴嘴2A、備用噴嘴2B和備用噴嘴2C在坩禍上均勻分布。從圖中可以看出，所有噴嘴2A均勻分布，且兩個噴嘴2A的間隔之間均勻分布有備用噴嘴2B和備用噴嘴2C。
[0062]基于圖9所示的線性蒸發(fā)源，參見圖10，在擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制擋板3移動的氣缸4。
[0063]在蒸鍍的過程中，先使用噴嘴2A，當有噴嘴2A發(fā)生堵塞時，通過氣缸4控制擋板3向右移動，更換為備用噴嘴2B，若在本次蒸鍍過程中，備用噴嘴2B也發(fā)生堵塞，再通過氣缸4控制擋板3向右移動，更換為備用噴嘴2C。在蒸鍍完成后，再對噴嘴2A和備用噴嘴2B進行清洗處理。在后續(xù)的蒸鍍過程中，若有備用噴嘴2C再發(fā)生堵塞，再通過氣缸4控制擋板3向左移動，更換為備用噴嘴2B或者噴嘴2A。
[0064]圖9和圖10所示的線性蒸發(fā)源中，擋板3上的開孔31的數(shù)量與噴嘴2A或備用噴嘴2B或備用噴嘴2C的數(shù)量相等。也可以設(shè)置擋板3上的開孔31的數(shù)量比噴嘴2A或備用噴嘴2B或備用噴嘴2C的數(shù)量多一個，參見圖11。
[0065]需要說明的是，在利用線性蒸發(fā)源進行蒸鍍的過程中，噴嘴發(fā)生堵塞時，都可以采用本實用新型實施例所提供的方案。例如，在OLED顯示器的制作過程中，某些有機材料成膜時，發(fā)生堵塞的情況較多，就可以設(shè)置至少一組備用噴嘴。
[0066]基于同樣的構(gòu)思，本實用新型實施例還提供一種蒸鍍裝置，包括以上任意實施例所述的線性蒸發(fā)源。
[0067]本實用新型實施例提供的一種線性蒸發(fā)源及蒸鍍裝置中，為一組噴嘴設(shè)置有至少一組備用噴嘴，在一組噴嘴發(fā)生堵塞時，可以通過移動擋板更換一組備用噴嘴，這樣，與現(xiàn)有技術(shù)的方案相比，就無需中斷蒸鍍過程降溫破真空進行清洗處理，從而提高了生產(chǎn)效率。
[0068]盡管已描述了本實用新型的優(yōu)選實施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對這些實施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實施例以及落入本實用新型范圍的所有變更和修改。
[0069]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種線性蒸發(fā)源，包括坩禍，其特征在于，還包括:位于所述坩禍上的一組噴嘴、至少一組備用噴嘴和位于坩禍內(nèi)可移動的擋板;其中: 所述一組噴嘴由在所述坩禍上均勻分布的多個噴嘴組成； 所述各組備用噴嘴由在所述一組噴嘴中各噴嘴的一側(cè)設(shè)置的備用噴嘴組成； 所述擋板上具有僅露出所述一組噴嘴中各噴嘴或者一組備用噴嘴中各備用噴嘴的多個開孔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，在所述擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制所述擋板移動的氣缸。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，在所述擋板的一側(cè)設(shè)置有用于控制所述擋板移動的電磁閥。4.根據(jù)權(quán)利要求1?3任一項所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述開孔的大小不小于所述噴嘴或所述備用噴嘴的大小。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述噴嘴和所述備用噴嘴的形狀為圓形，所述開孔的形狀為矩形或者圓形。6.根據(jù)權(quán)利要求1?3任一項所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，在各所述噴嘴與備用噴嘴之間的距離均相等。7.根據(jù)權(quán)利要求1?3任一項所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所有所述噴嘴和所述備用噴嘴在所述坩禍上均勻分布。8.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1?7任一項所述的線性蒸發(fā)源。
【文檔編號】C23C14/24GK205616946SQ201620445036
【公開日】2016年10月5日
【申請日】2016年5月16日
【發(fā)明人】王震, 林治明, 黃俊杰
【申請人】鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司, 京東方科技集團股份有限公司