相關(guān)申請的交叉引用

本申請要求于2016年3月23日向韓國專利局遞交的韓國專利申請第10-2016-0034766號的優(yōu)先權(quán)，其全部內(nèi)容通過引用合并于此。

本發(fā)明涉及一種激光晶化裝置。更具體地，本發(fā)明涉及一種激光晶化裝置和一種激光晶化方法。

背景技術(shù)：

包括半導(dǎo)體層的薄膜晶體管(tft)設(shè)置在有源矩陣顯示裝置的像素處。有源矩陣顯示裝置的示例包括有機發(fā)光二極管(oled)顯示裝置和液晶顯示(lcd)裝置。半導(dǎo)體層可包括非晶硅或多晶硅。多晶硅可具有高的遷移率并且可包含在oled顯示裝置中，以用于根據(jù)流過各oled的電流而控制各oled中發(fā)射層的亮度。

多晶硅可通過用激光束照射非晶硅層并且對非晶硅層進行退火處理而形成?？墒褂眉す饩Щb置來形成多晶硅。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，一種激光晶化裝置，包括：激光振蕩器、工作臺和反射單元。工作臺被配置為支撐基底，基底上設(shè)置有目標膜。激光振蕩器被配置為將入射激光束照射到目標膜上。工作臺被配置為移動基底，使得入射激光束掃描目標膜。入射激光束從目標膜反射以生成反射激光束。反射單元包括定位在反射激光束的路徑處的至少兩個反射鏡。反射單元被配置為經(jīng)由與入射激光束的路徑不同的多條路徑將反射激光束兩次或更多次地重新照射到目標膜上。

根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，一種激光晶化方法，包括：通過經(jīng)由第一路經(jīng)將激光束照射到目標膜上而晶化目標膜；在激光束反射出目標膜之后，通過使用反射單元、經(jīng)由與第一路徑不同的第二路徑通過將激光束一次或多次地照射回目標膜而晶化目標膜；以及，通過工作臺移動目標膜，使得激光束掃描目標膜。

根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，一種激光晶化裝置，包括：激光振蕩器；工作臺，配置為支撐基底，基底上設(shè)置有目標膜，其中激光振蕩器將入射激光束照射到目標膜上，其中工作臺被配置為移動基底，使得入射激光束掃描目標膜，并且其中入射激光束從目標膜反射以生成反射激光束；反射單元，包括定位在反射激光束的路徑上的至少兩個反射單元，并且其中反射單元被配置為經(jīng)由與入射激光束的路徑不同的路徑將反射激光束一次或多次地重新照射到目標膜上；以及激光消除器，被配置為在反射激光束已經(jīng)經(jīng)過反射單元并且接著從目標膜反射之后，捕獲并消除反射激光束。

根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例，一種激光晶化方法，包括：通過將激光束照射到目標膜上而晶化目標膜；在激光束已經(jīng)從目標膜反射之后，使用反射單元、通過將激光束一次或多次地重新照射回目標膜上而晶化目標膜，其中重新照射的激光束經(jīng)由與入射激光束的路徑不同的路徑朝著目標膜行進；通過在重新照射的激光束的路徑處設(shè)置激光消除器，在重新照射的激光束從目標膜最后反射之后，消除激光束；以及通過工作臺移動目標膜，使得入射激光束掃描目標膜。

附圖說明

通過結(jié)合附圖對本發(fā)明的示例性實施例的詳細描述，本發(fā)明的上述及其它特征將變得更加明顯，其中：

圖1a和圖1b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖2a和圖2b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的圖1a中所示的激光晶化裝置的一部分的放大視圖；

圖3是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖4a和圖4b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖5是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖6a和圖6b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖7是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖8是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化方法的流程圖；

圖9是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖10是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖11是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；

圖12是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖；以及

圖13是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化方法的流程圖。

具體實施方式

在下文中將參照附圖更全面地描述本發(fā)明的各示例性實施例。然而，本發(fā)明可以以不同的形式實施并且不應(yīng)被解釋為受本文提出的各實施例的限制。貫穿說明書，相同的附圖標記可指代相同的元件。為清楚起見，附圖中圖示的各元件的尺寸和比例可被放大。

應(yīng)理解，當(dāng)諸如層或基底之類的元件被稱為是在另一元件“上”時，其可直接在該另一元件上，或者也可在它們之間存在中間元件。

圖1a和圖1b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。圖2a和2b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的圖1a中所示的激光晶化裝置的一部分的放大視圖。

參照圖1a和圖1b，激光晶化裝置101包括激光振蕩器10、用于支撐基底22的工作臺20以及反射單元30。目標膜21可設(shè)置在基底22上?？赏ㄟ^從激光振蕩器10發(fā)射的入射激光束lb照射目標膜21。反射單元30可設(shè)置在從目標膜21反射的第一反射激光束l1的路徑上。

從激光振蕩器10發(fā)射的入射激光束lb可以是準分子激光束等。入射激光束lb可使目標膜21晶化。目標膜21可以是非晶硅薄膜，其可通過化學(xué)氣相沉積法、濺射法或者真空沉積法形成。

可在激光振蕩器10與目標膜21之間設(shè)置用于改變?nèi)肷浼す馐鴏b的方向的入射鏡11和用于會聚入射激光束lb的聚光透鏡12。激光振蕩器10、入射鏡11以及聚光透鏡12的位置可以是固定的。通過使工作臺20移動基底22，入射激光束lb可掃描目標膜21。

由于目標膜21的硅表面被入射激光束lb熔融并轉(zhuǎn)化為金屬結(jié)構(gòu)，因此目標膜21的反射增加。因此，在激光晶化過程期間，生成第一反射激光束l1，并且第一反射激光束l1的能量是入射激光束lb的能量的約60％。例如，入射激光束lb的能量的約40％用于目標膜21的晶化，而入射激光束lb的剩余能量被反射。

入射激光束lb相對于目標膜21的入射角θ1和第一反射激光束l1相對于目標膜21的反射角θ2相同。入射角θ1可表示入射激光束lb相對于基底22的第一法線y1的傾斜角。應(yīng)理解，第一法線y1與基底22和/或目標膜21的表面正交(例如，垂直)。反射角θ2可表示第一反射激光束l1相對于第一法線y1的傾斜角。

反射單元30用于反射第一反射激光束l1，以重新照射目標膜21。反射單元30包括彼此間隔開的第一反射鏡31和第二反射鏡32。第一反射鏡31和第二反射鏡32的每一個可包括平面鏡。

第一反射鏡31定位在第一反射激光束l1的路徑處，并且向上方反射第一反射激光束l1，以生成遠離目標膜21的第二反射激光束l2。

第一反射激光束l1相對于第一反射鏡31的入射角θ3和第二反射激光束l2相對于第一反射鏡31的反射角θ4彼此相等。入射角θ3可表示第一反射激光束l1相對于第二法線y2的傾斜角，第二法線y2垂直于第一反射鏡31的表面，并且反射角θ4可表示第二反射激光束l2相對于第二法線y2的傾斜角。

第二反射鏡32定位在第二反射激光束l2的路徑處，并且朝著目標膜21反射第二反射激光束l2，以生成第三反射激光束l3。第三反射激光束l3可重新照射到目標膜21。第三反射激光束l3是沿垂直于目標膜21的方向入射的激光束，并且第三反射激光束l3的行進路徑可平行于第一法線y1。

第二反射激光束l2相對于第二反射鏡32的入射角θ5和第三反射激光束l3相對于第二反射鏡32的反射角θ6彼此相等。入射角θ5可表示第二反射激光束l2相對于第三法線y3的傾斜角，第三法線y3垂直于第二反射鏡32的表面。反射角θ6可表示第三反射激光束l3相對于第三法線y3的傾斜角。

當(dāng)?shù)谌瓷浼す馐鴏3入射到目標膜21上時，第三反射激光束l3的一部分被反射而變?yōu)榈谒姆瓷浼す馐鴏4。第四反射激光束l4的能量是第三反射激光束l3的能量的約60％，并且第四反射激光束l4的路徑可平行于第一法線y1。

第二反射鏡32朝著第一反射鏡31反射第四反射激光束l4，以生成第五反射激光束l5。第五反射激光束l5的行進路徑可與第二反射激光束l2的行進路徑相同。第一反射鏡31朝著目標膜21反射第五反射激光束l5，以生成第六反射激光束l6。第六反射激光束l6可照射到目標膜21上。第六反射激光束l6的行進路徑可與第一反射激光束l1的行進路徑相同。

當(dāng)?shù)诹瓷浼す馐鴏6入射到目標膜21上時，第六反射激光束l6的一部分被反射而變?yōu)榈谄叻瓷浼す馐鴏7。第七反射激光束l7的能量是第六反射激光束l6的能量的約60％，并且第七反射激光束l7的行進路徑可與入射激光束lb的行進路徑相同。

照此，反射單元30控制第三反射激光束l3和第六反射激光束l6，以順序照射到目標膜21的入射激光束lb所照射的位置上。在此情況下，第三反射激光束l3和第六反射激光束l6經(jīng)由不同的行進路徑照射到目標膜21上。

因此，目標膜21的晶化區(qū)域(ca)通過入射激光束lb晶化，并且其額外通過第三反射激光束l3和第六反射激光束l6晶化。其結(jié)果是，根據(jù)本發(fā)明示例性實施例的激光晶化裝置101可增加目標膜21的晶化率，并且可減少目標膜21的晶化時間。

當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，在不使用反射激光的傳統(tǒng)激光晶化裝置中，入射激光束lb的能量的約40％用于晶化。然而，在激光晶化裝置101中，入射激光束lb的能量的約78.4％用于晶化。激光晶化裝置101提高了入射激光束lb的能量利用率。因此，可降低激光振蕩器10的輸出，并且可降低激光晶化裝置101的操作成本。

第七反射激光束l7經(jīng)由聚光透鏡12和入射鏡11行進到激光振蕩器10。當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，第七反射激光束l7的能量是入射激光束lb的能量的約21.6％，其是低水平的能量。因此，在激光晶化裝置101中，可降低因第七反射激光束l7的照射而對聚光透鏡12造成的損害。此外，通過減少進入激光振蕩器10的反射激光束的能量，可最小化從激光振蕩器10發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

在本發(fā)明的前述示例性實施例中，第三反射激光束l3和第六反射激光束l6的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同或者與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。圖2a圖示第三反射激光束l3和第六反射激光束l6的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同時的示例。圖2b圖示第三反射激光束l3和第六反射激光束l6的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊時的示例。

當(dāng)?shù)谒姆瓷浼す馐鴏4、第五反射激光束l5和第六反射激光束l6的行進路徑分別與第三反射激光束l3、第二反射激光束l2和第一反射激光束l1的行進路徑相同時，如圖2a中所示，第三反射激光束l3的照射區(qū)域和第六反射激光束l6的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同。

第一反射鏡31和/或第二反射鏡32可相對于參考位置具有約0.5°或更小的傾斜角。參考位置表示第三反射激光束l3的照射區(qū)域和第六反射激光束l6的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同的位置。在此情況下，第四反射激光束l4、第五反射激光束l5和第六反射激光束l6的路徑分別偏離第三反射激光束l3、第二反射激光束l2和第一反射激光束l1的路徑。

在此情況下，如圖2b中所示，第三反射激光束l3的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊，并且第六反射激光束l6的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。在圖2b的情況中，照射到目標膜21上的激光束的寬度(w)(例如，寬度(w)可指入射激光束lb、第三反射激光束l3和第六反射激光束l6的組合寬度)可增加(例如，寬度(w)可變得大于目標膜21上的入射激光束lb的寬度)。

圖3是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖3，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置102中，第一反射鏡31和/或第二反射鏡32包括凹面鏡。例如，第一反射鏡31和第二反射鏡32兩者可分別包括凹面鏡，并且定位在多個反射激光束的行徑路徑中的最后一條路徑處的鏡子可以是凹面反射鏡。

在圖3中，反射激光束l1-l7順序通過第一反射鏡31、第二反射鏡32、目標膜21、第二反射鏡32、第一反射鏡31以及目標膜21。因此，第一反射鏡31可包括凹面鏡，而第二反射鏡32可包括平面鏡。在圖3中，示例性地圖示了第一反射鏡31和第二反射鏡32兩者分別包括凹面鏡。

入射激光束lb通過聚光透鏡12聚焦在目標膜21的表面，并且入射激光束lb可變暗，因為其在被反射單元30反射多次的同時被散射。包括凹面鏡的第一反射鏡31和第二反射鏡32中的至少一個聚焦反射激光束。因此，重新照射到目標膜21的第三反射激光束l3和第六反射激光束l6可通過凹面鏡而聚焦到目標膜21的表面。

除了反射單元30的第一反射鏡31和第二反射鏡32的凹面之外，激光晶化裝置102的配置可與激光晶化裝置101的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖4a和圖4b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖4a和圖4b，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置103中，反射單元30包括第一反射鏡31、第二反射鏡32和第三反射鏡33。第一反射鏡31、第二反射鏡32和第三反射鏡33可分別包括平面鏡。

第一反射鏡31定位在第一反射激光束l1的行進路徑處，并且沿水平方向反射第一反射激光束l1，以生成第二反射激光束l2。第二反射激光束l2可具有平行于目標膜21的表面的行進路徑。

第一反射激光束l1相對于第一反射鏡31的入射角θ3和第二反射激光束l2相對于第一反射鏡31的反射角θ4相同。入射角θ3可表示第一反射激光束l1相對于第二法線y2的傾斜角，第二法線y2垂直于第一反射鏡31的表面。反射角θ4可表示第二反射激光束l2相對于第二法線y2的傾斜角。

第二反射鏡32定位在第二反射激光束l2的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第二反射激光束l2，以生成重新照射到目標膜21的第三反射激光束l3。第一反射鏡31和第二反射鏡32沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開。

第二反射激光束l2相對于第二反射鏡32的入射角θ5和第三反射激光束l3相對于第二反射鏡32的反射角θ6相同。入射角θ5可表示第二反射激光束l2相對于第三法線y3的傾斜角，第三法線y3垂直于第二反射鏡32的表面。反射角θ6可表示第三反射激光束l3相對于第三法線y3的傾斜角。

當(dāng)?shù)谌瓷浼す馐鴏3入射到目標膜21上時，第三反射激光束l3的一部分被反射而變?yōu)榈谒姆瓷浼す馐鴏4。第四反射激光束l4的能量是第三反射激光束l3的能量的約60％。

第三反射激光束l3相對于目標膜21的入射角θ7和第四反射激光束l4相對于目標膜21的反射角θ8相同。入射角θ7可表示第三反射激光束l3相對于第一法線y1的傾斜角，第一法線y1垂直于基底22的表面。反射角θ8可表示第四反射激光束l4相對于第一法線y1的傾斜角。

在此情況下，第三反射激光束l3的入射角θ7大于入射激光束lb的入射角θ1，并且第四反射激光束l4的反射角θ8大于第一反射激光束l1的反射角θ2。

第三反射鏡33設(shè)置在第四反射激光束l4的行進路徑處，并且其將第四反射激光束l4反射到目標膜21，以生成第五反射激光束l5。第五反射激光束l5可重新照射到目標膜21上。第三反射鏡33比第一反射鏡31更靠近目標膜21定位。第五反射激光束l5的行進路徑可與第四反射激光束l4的行進路徑相同。為實現(xiàn)這一點，第三反射鏡33被安裝在使得垂直于第三反射鏡33的表面的第四法線y4與第四反射激光束l4的行進路徑相同的位置處。

當(dāng)?shù)谖宸瓷浼す馐鴏5入射到目標膜21上時，第五反射激光束l5的一部分變?yōu)榈诹瓷浼す馐鴏6。第六反射激光束l6的能量是第五反射激光束l5的能量的約60％，并且第六反射激光束l6的行進路徑可與第三反射激光束l3的行進路徑相同。

第二反射鏡32沿水平方向反射第六反射激光束l6，以生成第七反射激光束l7。第七反射激光束l7的行進路徑可與第二反射激光束l2的行進路徑相同。第一反射鏡31朝著目標膜21反射第七反射激光束l7，以生成第八反射激光束l8。第八反射激光束l8可重新照射到目標膜21上。第八反射激光束l8的行進路徑可與第一反射激光束l1的行進路徑相同。

當(dāng)?shù)诎朔瓷浼す馐鴏8入射到目標膜21上時，第八反射激光束l8的一部分被反射而變?yōu)榈诰欧瓷浼す馐鴏9。第九反射激光束l9的能量是第八反射激光束l8的能量的約60％，并且第九反射激光束l9的行進路徑可與入射激光束lb的行進路徑相同。

反射單元30控制第三反射激光束l3、第五反射激光束l5和第八反射激光束l8以順序照射到目標膜21的入射激光束lb所照射的位置上。在此情況下，第三反射激光束l3、第五反射激光束l5和第八反射激光束l8經(jīng)由不同的行進路徑照射到目標膜21。

目標膜21的晶化區(qū)域(ca)通過入射激光束lb晶化，并且其額外通過第三反射激光束l3、第五反射激光束l5和第八反射激光束l8晶化。當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，當(dāng)被反射單元30反射時，入射激光束lb的能量的約87.7％用于晶化。

朝向激光振蕩器10的第九反射激光束l9的能量是入射激光束lb的能量的約12.3％，其是低水平的能量。因此，在激光晶化裝置103中，可降低因第九反射激光束l9的照射而對聚光透鏡12造成的損害。此外，通過減少進入激光振蕩器10的反射激光束的能量，可最小化從激光振蕩器10發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

在本發(fā)明的前述示例性實施例中，第三反射激光束l3、第五反射激光束l5和第八反射激光束l8的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同或者與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

當(dāng)?shù)谖宸瓷浼す馐?、第六反射激光束、第七反射激光束和第八反射激光束l5、l6、l7和l8的行進路徑分別與第四反射激光束、第三反射激光束、第二反射激光束和第一反射激光束l4、l3、l2和l1的行進路徑相同時，第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第五反射激光束l5的照射區(qū)域和第八反射激光束l8的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同。

第一反射鏡31、第二反射鏡32和/或第三反射鏡33可相對于參考位置具有約0.5°或更小的傾斜角。參考位置表示第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第五反射激光束l5的照射區(qū)域和第八反射激光束l8的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同的位置。

在此情況下，第五反射激光束、第六反射激光束、第七反射激光束和第八反射激光束l5、l6、l7和l8的行進路徑分別偏離第四反射激光束、第三反射激光束、第二反射激光束和第一反射激光束l4、l3、l2和l1的行進路徑。因此，第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第五反射激光束l5的照射區(qū)域和第八反射激光束l8的照射區(qū)域中的每一個可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

除了反射單元30的配置之外，激光晶化裝置103的配置可與激光晶化裝置101的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖5是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖5，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置104中，第一反射鏡31、第二反射鏡32和/或第三反射鏡33包括凹面鏡。例如，第一反射鏡至第三反射鏡31、32和33可全部分別包括凹面鏡，并且定位在多個反射激光束的行進路徑中的最后一個行進路徑處的鏡子可包括凹面反射鏡。

在圖5中，反射激光束l1-l9順序通過第一反射鏡31、第二反射鏡32、目標膜21、第三反射鏡33、目標膜21、第二反射鏡32、第一反射鏡31以及目標膜21。第一反射鏡31可包括凹面鏡，而第二反射鏡32和第三反射鏡33可分別包括平面鏡。在圖5中，示例性地圖示了第一反射鏡至第三反射鏡31、32和33分別包括凹面鏡。

包括凹面鏡的第一反射鏡31、第二反射鏡32和/或第三反射鏡33聚焦反射激光束。因此，重新照射到目標膜21上的第三反射激光束l3、第五反射激光束l5和第八反射激光束l8可被聚焦到目標膜21的表面。

除了反射單元30的配置之外，激光晶化裝置104的配置可與激光晶化裝置103的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖6a和圖6b是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖6a和圖6b，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置105中，反射單元30包括第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33、第四反射鏡34和第五反射鏡35。第一反射鏡至第五反射鏡31、32、33、34和35中的每一個可包括平面鏡。

第一反射鏡31定位在第一反射激光束l1的行進路徑處，并且沿水平方向反射第一反射激光束l1，以生成第二反射激光束l2。第二反射激光束l2可具有平行于目標膜21的表面的行進路徑。

第一反射激光束l1相對于第一反射鏡31的入射角θ3和第二反射激光束l2相對于第一反射鏡31的反射角θ4相同。入射角θ3可表示第一反射激光束l1相對于第二法線y2的傾斜角，第二法線y2垂直于第一反射鏡31的表面。反射角θ4可表示第二反射激光束l2相對于第二法線y2的傾斜角。

第二反射鏡32定位在第二反射激光束l2的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第二反射激光束l2，以生成第三反射激光束l3。第三反射激光束l3可重新照射到目標膜21。第一反射鏡31和第二反射鏡32沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開。

第二反射激光束l2相對于第二反射鏡32的入射角θ5和第三反射激光束l3相對于第二反射鏡32的反射角θ6相同。入射角θ5可表示第二反射激光束l2相對于第三法線y3的傾斜角，第三法線y3垂直于第二反射鏡32的表面。反射角θ6可表示第三反射激光束l3相對于第三法線y3的傾斜角。

當(dāng)?shù)谌瓷浼す馐鴏3入射到目標膜21上時，第三反射激光束l3的一部分被反射而變?yōu)榈谒姆瓷浼す馐鴏4。第四反射激光束l4的能量是第三反射激光束l3的能量的約60％。

第三反射激光束l3相對于目標膜21的入射角θ7和第四反射激光束l4相對于目標膜21的反射角θ8相同。入射角θ7可表示第三反射激光束l3相對于第一法線y1的傾斜角，第一法線y1垂直于基底22的表面。反射角θ8可表示第四反射激光束l4相對于第一法線y1的傾斜角。在此情況下，第三反射激光束l3的入射角θ7大于入射激光束lb的入射角θ1，并且第四反射激光束l4的反射角θ8大于第一反射激光束l1的反射角θ2。

第三反射鏡33定位在第四反射激光束l4的行進路徑處，并且沿水平方向反射第四反射激光束l4，以生成第五反射激光束l5。第五反射激光束l5可具有平行于目標膜21的表面的行進路徑。

第四反射激光束l4相對于第三反射鏡33的入射角θ9和第五反射激光束l5相對于第三反射鏡33的反射角θ10相同。入射角θ9可表示第四反射激光束l4相對于第四法線y4的傾斜角，第四法線y4垂直于第三反射鏡33的表面。反射角θ10可表示第五反射激光束l5相對于第四法線y4的傾斜角。

第四反射鏡34定位在第五反射激光束l5的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第五反射激光束l5，以生成第六反射激光束l6。第六反射激光束l6可重新照射到目標膜21上。第三反射鏡33和第四反射鏡34沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開，并且比第一反射鏡31和第二反射鏡32更靠近目標膜21定位。

第五反射激光束l5相對于第四反射鏡34的入射角θ11和第六反射激光束l6相對于第四反射鏡34的反射角θ12相同。入射角θ11可表示第五反射激光束l5相對于第五法線y5的傾斜角，第五法線y5垂直于第四反射鏡34。反射角θ12可表示第六反射激光束l6相對于第五法線y5的傾斜角。

當(dāng)?shù)诹瓷浼す馐鴏6入射到目標膜21上時，第六反射激光束l6的一部分被反射而變?yōu)榈谄叻瓷浼す馐鴏7。第七反射激光束l7的能量是第六反射激光束l6的能量的約60％。

第六反射激光束l6相對于目標膜21的入射角θ13和第七反射激光束l7相對于目標膜21的反射角θ14相同。入射角θ13可表示第六反射激光束l6相對于第一法線y1的傾斜角，而反射角θ14可表示第七反射激光束l7相對于第一法線y1的傾斜角。在此情況下，第六反射激光束l6的入射角θ13大于第三反射激光束l3的入射角θ7，并且第七反射激光束l7的反射角θ14大于第四反射激光束l4的反射角θ8。

第五反射鏡35定位在第七反射激光束l7的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第七反射激光束l7，以生成第八反射激光束l8。第八反射激光束l8可重新照射到目標膜21。第五反射鏡35比第三反射鏡33更靠近目標膜21定位。第八反射激光束l8的行進路徑可與第七反射激光束l7的行進路徑相同。為實現(xiàn)這一點，第五反射鏡35可被安裝為使得垂直于第五反射鏡35的表面的第六法線y6與第七反射激光束l7的行進路徑相同。

當(dāng)?shù)诎朔瓷浼す馐鴏8入射到目標膜21上時，第八反射激光束l8的一部分被反射而變?yōu)榈诰欧瓷浼す馐鴏9。第九反射激光束l9的能量是第八反射激光束l8的能量的約60％，并且第九反射激光束l9的行進路徑可與第六反射激光束l6的行進路徑相同。

第四反射鏡34沿水平方向反射第九反射激光束l9，以生成第十反射激光束l10。第十反射激光束l10的行進路徑可與第五反射激光束l5的行進路徑相同。第三反射鏡33朝著目標膜21反射第十反射激光束l10，以生成第十一反射激光束l11。第十一反射激光束l11可重新照射到目標膜21。

當(dāng)?shù)谑环瓷浼す馐鴏11入射到目標膜21上時，第十一反射激光束l11的一部分被反射而變?yōu)榈谑瓷浼す馐鴏12。第十二反射激光束l12的能量是第十一反射激光束l11的能量的約60％，并且第十二反射激光束l12的行進路徑可與第三反射激光束l3的行進路徑相同。

第二反射鏡32沿水平方向反射第十二反射激光束l12，以生成第十三反射激光束l13。第十三反射激光束l13的行進路徑可與第二反射激光束l2的行進路徑相同。第一反射鏡31朝著目標膜21反射第十三反射激光束l13，以生成第十四反射激光束l14。第十四反射激光束l14可重新照射到目標膜21上。

當(dāng)?shù)谑姆瓷浼す馐鴏14入射到目標膜21上時，第十四反射激光束l14的一部分被反射而變?yōu)榈谑宸瓷浼す馐鴏15。第十五反射激光束l15的能量是第十四反射激光束l14的能量的約60％，并且第十五反射激光束l15的行進路徑可與入射激光束lb的行進路徑相同。

因此，反射單元30控制第三反射激光束l3、第六反射激光束l6、第八反射激光束l8、第十一反射激光束l11和第十四反射激光束l14，以順序照射到目標膜21的入射激光束lb所照射的位置上。在此情況下，第三反射激光束l3、第六反射激光束l6、第八反射激光束l8、第十一反射激光束l11和第十四反射激光束l14經(jīng)由不同的行進路徑照射到目標膜21上。

目標膜21的晶化區(qū)域(ca)通過入射激光束lb晶化，并且其額外通過第三反射激光束l3、第六反射激光束l6、第八反射激光束l8、第十一反射激光束l11和第十四反射激光束l14晶化。當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，入射激光束lb的能量的約95.4％用于目標膜21的晶化。

朝向激光振蕩器10的第十五反射激光束l15的能量是入射激光束lb的能量的約4.6％，其是低水平的能量。因此，在激光晶化裝置105中，可降低因第十五反射激光束l15的照射而對聚光透鏡12造成的損害。此外，通過減少進入激光振蕩器10的反射激光束的能量，可最小化從激光振蕩器10發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

在前述示例性實施例中，第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第六反射激光束l6的照射區(qū)域、第八反射激光束l8的照射區(qū)域、第十一反射激光束l11的照射區(qū)域和第十四反射激光束l14的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同或者與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

當(dāng)?shù)诎朔瓷浼す馐鴏8、第九反射激光束l9、第十反射激光束l10、第十一反射激光束l11、第十二反射激光束l12、第十三反射激光束l13和第十四反射激光束l14的行進路徑分別與第七反射激光束l7、第六反射激光束l6、第五反射激光束l5、第四反射激光束l4、第三反射激光束l3、第二反射激光束l2和第一反射激光束l1的行進路徑相同時，第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第六反射激光束l6的照射區(qū)域、第八反射激光束l8的照射區(qū)域、第十一反射激光束l11的照射區(qū)域和第十四反射激光束l14的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同。

第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33、第四反射鏡34和/或第五反射鏡35可相對于參考位置具有約0.5°或更小的傾斜角。參考位置表示第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第六反射激光束l6的照射區(qū)域、第八反射激光束l8的照射區(qū)域、第十一反射激光束l11的照射區(qū)域和第十四反射激光束l14的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同的位置。

在此情況下，第八反射激光束l8、第九反射激光束l9、第十反射激光束l10、第十一反射激光束l11、第十二反射激光束l12、第十三反射激光束l13和第十四反射激光束l14的行進路徑分別偏離第七反射激光束l7、第六反射激光束l6、第五反射激光束l5、第四反射激光束l4、第三反射激光束l3、第二反射激光束l2和第一反射激光束l1的行進路徑。第三反射激光束l3的照射區(qū)域、第六反射激光束l6的照射區(qū)域、第八反射激光束l8的照射區(qū)域、第十一反射激光束l11的照射區(qū)域和第十四反射激光束l14的照射區(qū)域中的每一個可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

除了反射單元30的配置之外，激光晶化裝置105的配置可與激光晶化裝置101配置的相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖7是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖7，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置106中，第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33、第四反射鏡34和/或第五反射鏡35包括凹面鏡。例如，第一反射鏡至第五反射鏡31、32、33、34和35可全部分別包括凹面鏡，并且定位在多個反射激光束的行進路徑處的最后一個行進路徑上的鏡子可包括凹面反射鏡。

在圖7中，反射激光束l1-l15順序通過第一反射鏡31、第二反射鏡32、目標膜21、第三反射鏡33、第四反射鏡34、目標膜21、第五反射鏡35、目標膜21、第四反射鏡34、第三反射鏡33、目標膜21、第二反射鏡32、第一反射鏡31以及目標膜21。第一反射鏡31可包括凹面鏡，而第二反射鏡至第五反射鏡32、33、34和35可分別包括平面鏡。在圖7中，示例性地圖示了第一反射鏡至第五反射鏡31、32、33、34和35都分別包括凹面鏡。

包括凹面鏡的第一反射鏡至第五反射鏡31、32、33、34和35中的至少一個聚焦反射激光束。因此，重新照射到目標膜21上的第三反射激光束l3、第六反射激光束l6、第八反射激光束l8、第十一反射激光束l11和第十四反射激光束l14中的至少一個可聚焦到目標膜21的表面上。

除了反射單元30的第一反射鏡至第五反射鏡31、32、33、34和35的凹面之外，激光晶化裝置106的配置可與激光晶化裝置105的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略重復(fù)的描述。

圖8是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化方法的流程圖。圖8的激光晶化方法可通過使用激光晶化裝置101、102、103、104、105或106執(zhí)行。

參照圖8，激光晶化方法包括：通過將激光束照射到目標膜上而晶化目標膜的第一操作s10；通過經(jīng)由不同行進路徑將反射激光束兩次或更多次地重新照射到目標膜上而晶化目標膜的第二操作s20；以及移動目標膜的第三操作s30。

在第一操作s10中，從激光振蕩器10發(fā)射的入射激光束lb照射到目標膜21，使得目標膜21的預(yù)定部分被晶化。在此情況下，入射激光束lb的能量的約40％用于晶化，而入射激光束lb的剩余能量被反射。

在第二操作s20中，包括至少兩個反射鏡的反射單元30定位在反射激光束的行進路徑處。反射單元30經(jīng)由不同行進路徑將入射激光束lb的從目標膜21反射的部分兩次或更多次地重新照射回目標膜21。第二次晶化可表示通過重新照射的激光束(例如，入射激光束lb的從目標膜21反射的部分)執(zhí)行的額外的晶化過程。重新照射的激光束的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同或與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

在第三操作s30中，工作臺20移動基底22和目標膜21，使得入射激光束lb和重新照射的激光束可以掃描目標膜21。

根據(jù)圖8的激光晶化方法，由于用于晶化過程的能量的利用率增加了，因此可降低激光振蕩器10的輸出。此外，通過減少進入激光振蕩器10的反射激光束的能量，可最小化聚光透鏡12的損害以及激光束的振蕩失穩(wěn)。

圖9是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖9，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置108中，反射單元30包括第一反射鏡31和第二反射鏡32。第一反射鏡31和第二反射鏡32可以是平面鏡。激光晶化裝置108包括激光消除器40。

第一反射鏡31定位在第一反射激光束l1的行進路徑處，并且沿水平方向反射第一反射激光束l1，以生成第二反射激光束l2。第二反射激光束l2可具有平行于目標膜21的表面的行進路徑。

第一反射激光束l1相對于第一反射鏡31的入射角θ3和第二反射激光束l2相對于第一反射鏡31的反射角θ4相同。入射角θ3可表示第一反射激光束l1相對于第二法線y2的傾斜角，第二法線y2垂直于第一反射鏡31的表面。反射角θ4可表示第二反射激光束l2相對于第二法線y2的傾斜角。

第二反射鏡32定位在第二反射激光束l2的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第二反射激光束l2，以生成第三反射激光束l3。第三反射激光束l3可重新照射到目標膜21。第一反射鏡31和第二反射鏡32沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開。

第二反射激光束l2相對于第二反射鏡32的入射角θ5和第三反射激光束l3相對于第二反射鏡32的反射角θ6相同。入射角θ5可表示第二反射激光束l2相對于第三法線y3的傾斜角，第三法線y3垂直于第二反射鏡32的表面。反射角θ6可表示第三反射激光束l3相對于第三法線y3的傾斜角。

當(dāng)?shù)谌瓷浼す馐鴏3入射到目標膜21上時，第三反射激光束l3的一部分被反射而變?yōu)榈谒姆瓷浼す馐鴏4。第四反射激光束l4的能量是第三反射激光束l3的能量的約60％。

第三反射激光束l3相對于目標膜21的入射角θ7和第四反射激光束l4相對于目標膜21的反射角θ8相同。入射角θ7可表示第三反射激光束l3相對于第一法線y1的傾斜角，第一法線y1垂直于基底22的表面。反射角θ8可表示第四反射激光束l4相對于第一法線y1的傾斜角。在此情況下，第三反射激光束l3的入射角θ7大于入射激光束lb的入射角θ1，并且第四反射激光束l4的反射角θ8大于第一反射激光束l1的反射角θ2。

激光消除器40定位在第四反射激光束l4的行進路徑處，并且捕獲并消除其內(nèi)的第四反射激光束l4。激光消除器40可包括主體41和反射膜42，主體41具有開口，反射膜42形成在主體41的開口中(例如，在開口的內(nèi)表面上)?？砂ㄖT如鋁(al)、銅(cu)之類的金屬的反射膜42不受激光束的損害。反射膜42包括用于引起激光束的漫反射的表面凸起和凹陷。

第四反射激光束l4通過激光消除器40的入口而入射到主體41的內(nèi)側(cè)上，并且然后撞擊反射膜42并且持續(xù)地經(jīng)歷漫反射。在此過程期間，第四反射激光束l4的能量被轉(zhuǎn)化為熱能。因此，第四反射激光束l4逐漸消失。

反射單元30將第三反射激光束l3重新照射到目標膜21的入射激光束lb所照射的位置處。在此情況下，第三反射激光束l3經(jīng)由與入射激光束lb的行進路徑和第一反射激光束l1的行進路徑不同的行進路徑照射到目標膜21。目標膜21的晶化區(qū)域(ca)通過入射激光束lb晶化，并且其額外通過第三反射激光束l3晶化。當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，入射激光束lb的能量的約64％用于晶化。

激光消除器40消除第四反射激光束l4，并且防止反射激光束進入激光振蕩器10。例如，在本發(fā)明的示例性實施例中，由于沒有反射激光束再次進入入射激光束lb的行進路徑，因此可防止聚光透鏡12的損害以及從激光晶化裝置108發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

在參照圖9描述的示例性實施例中，第三反射激光束l3的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同。第一反射鏡31和第二反射鏡32可相對于參考位置具有約0.5°或更小的傾斜角。參考位置可對應(yīng)于目標膜21的第三反射激光束l3的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同的位置。在此情況下，第三反射激光束l3的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

除了反射單元30和激光消除器40之外，激光晶化裝置108的配置與激光晶化裝置101的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖10是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖10，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置109中，第一反射鏡31和/或第二反射鏡32包括凹面鏡。例如，第一反射鏡31和第二反射鏡32兩者可分別包括凹面鏡，并且定位在多個反射激光束的行進路徑中的最后一個行進路徑處的鏡子可包括凹面反射鏡。

在圖10中，反射激光束l1-l4順序通過第一反射鏡31、第二反射鏡32以及目標膜21。第二反射鏡32可包括凹面鏡，而第一反射鏡31可包括平面鏡。在圖10中，示例性地圖示了第一反射鏡31和第二反射鏡32兩者分別包括凹面鏡。

第一反射鏡31和/或第二反射鏡32可包括凹面鏡并且可聚焦反射激光束。因此，重新照射到目標膜21上的第三反射激光束l3可聚焦到目標膜21的表面上。

除了反射單元30的第一反射鏡31和第二反射鏡32的凹面之外，激光晶化裝置109的配置可與激光晶化裝置108的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖11是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖11，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置110中，反射單元30包括第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33和第四反射鏡34。第一反射鏡至第四反射鏡31、32、33和34中的每一個可以是平面鏡。激光晶化裝置110進一步包括激光消除器40。

第一反射鏡31定位在第一反射激光束l1的行進路徑處，并且沿水平方向反射第一反射激光束l1，以生成第二反射激光束l2。第二反射激光束l2可具有平行于目標膜21的表面的行進路徑。

第一反射激光束l1相對于第一反射鏡31的入射角θ3和第二反射激光束l2相對于第一反射鏡31的反射角θ4相同。入射角θ3可表示第一反射激光束l1相對于第二法線y2的傾斜角，第二法線y2垂直于第一反射鏡31的表面。反射角θ4可表示第二反射激光束l2相對于第二法線y2的傾斜角。

第二反射鏡32定位在第二反射激光束l2的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第二反射激光束l2，以生成第三反射激光束l3。第三反射激光束l3重新照射到目標膜21上。第一反射鏡31和第二反射鏡32沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開。

第二反射激光束l2相對于第二反射鏡32的入射角θ5和第三反射激光束l3相對于第二反射鏡32的反射角θ6相同。入射角θ5可表示第二反射激光束l2相對于第三法線y3的傾斜角，第三法線y3垂直于第二反射鏡32的表面。反射角θ6可表示第三反射激光束l3相對于第三法線y3的傾斜角。

當(dāng)?shù)谌瓷浼す馐鴏3入射到目標膜21上時，第三反射激光束l3的一部分被反射而變?yōu)榈谒姆瓷浼す馐鴏4。第四反射激光束l4的能量是第三反射激光束l3的能量的約60％。

第三反射激光束l3相對于目標膜21的入射角θ7和第四反射激光束l4相對于目標膜21的反射角θ8相同。入射角θ7可表示第三反射激光束l3相對于第一法線y1的傾斜角，第一法線y1垂直于基底22的表面。反射角θ8可表示第四反射激光束l4相對于第一法線y1的傾斜角。在此情況下，第三反射激光束l3的入射角θ7大于入射激光束lb的入射角θ1，并且第四反射激光束l4的反射角θ8大于第一反射激光束l1的反射角θ2。

第三反射鏡33定位在第四反射激光束l4的行進路徑處，并且沿水平方向反射第四反射激光束l4，以生成具有平行于目標膜21的表面的行進路徑的第五反射激光束l5。

第四反射激光束l4相對于第三反射鏡33的入射角θ9和第五反射激光束l5相對于第三反射鏡33的反射角θ10相同。入射角θ9可表示第四反射激光束l4相對于第四法線y4的傾斜角，第四法線y4垂直于第三反射鏡33的表面。反射角θ10可表示第五反射激光束l5相對于第四法線y4的傾斜角。

第四反射鏡34定位在第五反射激光束l5的行進路徑處，并且朝著目標膜21反射第五反射激光束l5，以生成第六反射激光束l6。第六反射激光束l6重新照射到目標膜21上。第三反射鏡33和第四反射鏡34沿著平行于目標膜21的表面的方向彼此間隔開。第三反射鏡33和第四反射鏡34比第一反射鏡31和第二反射鏡32更靠近目標膜21定位。

第五反射激光束l5相對于第四反射鏡34的入射角θ11和第六反射激光束l6相對于第四反射鏡34的反射角θ12相同。入射角θ11可表示第五反射激光束l5相對于第五法線y5的傾斜角，第五法線y5垂直于第四反射鏡34。反射角θ12可表示第六反射激光束l6相對于第五法線y5的傾斜角。

當(dāng)?shù)诹瓷浼す馐鴏6入射到目標膜21上時，第六反射激光束l6的一部分被反射而變?yōu)榈谄叻瓷浼す馐鴏7。第七反射激光束l7的能量是第六反射激光束l6的能量的約60％。

第六反射激光束l6相對于目標膜21的入射角θ13和第七反射激光束l7相對于目標膜21的反射角θ14相同。入射角θ13可表示第六反射激光束l6相對于第一法線y1的傾斜角，而反射角θ14可表示第七反射激光束l7相對于第一法線y1的傾斜角。在此情況下，第六反射激光束l6的入射角θ13大于第三反射激光束l3的入射角θ7，并且第七反射激光束l7的反射角θ14大于第四反射激光束l4的反射角θ8。

激光消除器40定位在第七反射激光束l7的行進路徑處，并且捕獲并消除其內(nèi)的第七反射激光束l7。激光消除器40可包括主體41和反射膜42，主體41中形成有與激光消除器40的入口連接的內(nèi)部空間，并且反射膜42形成在主體41的內(nèi)表面處。反射膜42可包括諸如鋁(al)、銅(cu)之類的金屬。反射膜42不受激光束的損害。反射膜42包括用于引起激光束的漫反射的表面凸起和凹陷。

第七反射激光束l7通過激光消除器40的入口而入射到主體41的內(nèi)側(cè)上，并且然后撞擊反射膜42并且持續(xù)地經(jīng)歷漫反射。在此過程期間，第七反射激光束l7的能量被轉(zhuǎn)化為熱能。因此，第七反射激光束l7逐漸消失。

反射單元30控制第三反射激光束l3和第六反射激光束l6，第三反射激光束l3和第六反射激光束l6順序照射到目標膜21的入射激光束lb所照射的相同位置上。在此情況下，第三反射激光束l3和第六反射激光束l6經(jīng)由與入射激光束lb的行進路徑和第一反射激光束l1的行進路徑不同的行進路徑照射到目標膜21上。目標膜21的晶化區(qū)域(ca)通過入射激光束lb晶化，并且其額外通過重新照射的第三反射激光束l3和重新照射的第六反射激光束l6晶化。當(dāng)假設(shè)目標膜21的激光反射率是約60％時，入射激光束lb的能量的約78.4％用于晶化。

激光消除器40消除第七反射激光束l7，從而防止反射激光束進入激光振蕩器10。由于沒有反射激光束再次進入入射激光束lb的行進路徑，因此可防止聚光透鏡12的損害。此外，由于沒有反射激光束再次進入入射激光束lb的行進路徑，因此可防止從激光振蕩器10發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

在激光晶化裝置110中，第三反射激光束l3的照射區(qū)域和第六反射激光束l6的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同。第一反射鏡至第四反射鏡31、32、33和34可相對于參考位置具有約0.5°或更小的傾斜角。參考位置表示第三反射激光束l3的照射區(qū)域和第六反射激光束l6的照射區(qū)域與入射激光束lb的照射區(qū)域相同的位置。在此情況下，第三反射激光束l3的照射區(qū)域和第六反射激光束l6的照射區(qū)域中的每一個可與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

除了反射單元30和激光消除器40的配置之外，激光晶化裝置110的配置可與激光晶化裝置101的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖12是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置的示意圖。

參照圖12，在根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化裝置111中，第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33和/或第四反射鏡34包括凹面鏡。例如，第一反射鏡至第四反射鏡31、32、33和34可全部分別包括凹面鏡，并且定位在多個反射激光束的行進路徑中的最后一個行進路徑處的鏡子可以是凹面反射鏡。

在圖12中，反射激光束l1-l7順序通過第一反射鏡31、第二反射鏡32、目標膜21、第三反射鏡33、第四反射鏡34以及目標膜21。第四反射鏡34可包括凹面鏡，而第一反射鏡至第三反射鏡31、32和33可分別包括平面鏡。在圖12中，示例性地圖示了第一反射鏡至第四反射鏡31、32、33和34全部分別包括凹面鏡。

包括凹面鏡的第一反射鏡至第四反射鏡31、32、33和34中的至少一個聚焦反射激光束。因此，重新照射到目標膜21上的第三反射激光束l3和/或第六反射激光束l6可被聚焦到目標膜21的表面上。

除了反射單元30的第一反射鏡31、第二反射鏡32、第三反射鏡33和第四反射鏡34的凹面之外，激光晶化裝置111的配置可與激光晶化裝置110的配置相同。因此，為了簡潔起見，將省略其重復(fù)描述。

圖13是圖示根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的激光晶化方法的流程圖。圖13的激光晶化方法可通過使用激光晶化裝置108、109、110或111執(zhí)行。

參照圖13，激光晶化方法包括：通過將激光束照射到目標膜而晶化目標膜的第一操作s110；通過使用反射單元、經(jīng)由與入射激光束的行進路徑不同的行進路徑將反射激光束一次或多次地重新照射到目標膜上而晶化目標膜的第二操作s120；消除通過使用反射單元而從目標膜的表面反射的最后的激光束的第三操作s130；以及移動目標膜的第四操作s140。

在第一操作s110中，從激光振蕩器10發(fā)射的入射激光束lb照射到目標膜21上，使得目標膜21的預(yù)定部分被晶化。在此情況下，入射激光束lb的能量的約40％用于晶化，而入射激光束lb的剩余能量被反射。

在第二操作s120中，反射單元30包括至少兩個反射鏡，并且定位在反射激光束的行進路徑處。反射單元30經(jīng)由與入射激光束lb的行進路徑不同的行進路徑將反射激光束一次或多次地重新照射到目標膜21上。

因此，在操作s120中，通過重新照射到目標膜21上的激光束而在目標膜21上執(zhí)行額外的晶化過程。重新照射的激光束的照射區(qū)域可與入射激光束lb的照射區(qū)域相同或與入射激光束lb的照射區(qū)域部分地重疊。

在第三操作s130中，激光消除器40捕獲并消除通過使用反射單元30而從目標膜21最后反射的激光束。從目標膜21最后反射的激光束入射到激光消除器40上，撞擊反射膜42并且持續(xù)地經(jīng)歷漫反射。在此過程中，最后一次反射的激光束的能量被轉(zhuǎn)化為熱能。因此，從目標膜21最后反射的激光束逐漸消失。

在圖13的激光晶化方法中，由于用于晶化過程的能量的利用率增加了，因此可降低激光振蕩器10的輸出，并且可減少或防止聚光透鏡12的損害。此外，由于沒有反射激光束再次進入入射激光束lb的行進路徑，因此可防止從激光振蕩器10發(fā)射的激光束的振蕩失穩(wěn)。

雖然已參照本發(fā)明的示例性實施例具體地示出并描述了本發(fā)明，但對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員顯而易見的是，可在不脫離如隨附權(quán)利要求書限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下做出形式和細節(jié)上的各種修改。