專利名稱：用于減輕口臭的二氧化硅材料的制作方法
用于減輕口臭的二氧化娃材料相關(guān)申請的交叉引用本申請要求2010年2月19日提交的美國臨時申請61/305，998的優(yōu)先權(quán)，所述申請的全部內(nèi)容通過弓I用并入本文。背景嘴的口腔中的細(xì)菌性腐敗可導(dǎo)致惡臭氣味揮發(fā)性硫化合物(VSC)的形成，所述硫化合物產(chǎn)生口臭或產(chǎn)生被稱為口氣的令人不愉快的氣味。諸如硫化氫、甲硫醇及甲硫醚的VSC被認(rèn)為是源自嘴的腐敗氣味的最常見來源。當(dāng)微生物菌群從大多數(shù)為革蘭氏陽性轉(zhuǎn)變成大多數(shù)為革蘭氏陰性厭氧菌群時，在口腔中出現(xiàn)VSC生成。
轉(zhuǎn)變成革蘭氏陰性細(xì)菌的轉(zhuǎn)變通常伴隨著碳水化合物的消耗及唾液pH水平從低于約6. 5升高到約7. 2。隨著碳水化合物的消耗，革蘭氏陽性菌群開始失去燃料來源且因此受到抑制，而革蘭氏陰性菌群逐漸地變得更加占優(yōu)勢。與革蘭氏陽性菌群不同，革蘭氏陰性菌群能夠使蛋白質(zhì)通過蛋白質(zhì)水解分解成短肽和氨基酸。一些蛋白質(zhì)，諸如包含半胱氨酸和蛋氨酸殘基的那些蛋白質(zhì)，可被進(jìn)一步分解成VSC?？诔舻慕鉀Q方案包括漱口液、口香糖、呼吸條(breath strip)、錠劑、薄荷及牙膏。不幸地是，這些產(chǎn)品中很多不能在延長的時間段減輕或防止口臭。此外，這些產(chǎn)品中的一些幾乎不能防止腐敗VSC的呼出。因此，存在對用于減輕口臭的新組合物和方法的需要。本發(fā)明滿足這些需要及其它需要。概述本文公開了包含存在于其表面的至少一部分上的加合物的二氧化硅材料。該二氧化硅材料能夠結(jié)合揮發(fā)性硫化合物(VSC)且因此減輕口臭。還公開了包含所述二氧化硅材料的牙粉組合物、口腔護理組合物及制備和應(yīng)用所述二氧化硅材料的方法。本發(fā)明的優(yōu)勢在某種程度上將陳述在以下的說明書中，且在某種程度上從說明書將是明顯的，或可通過下文描述的方面的實施而得知。下文描述的優(yōu)勢將通過以下說明書中特別指出的元素和組合來實現(xiàn)和獲得。將理解，前面的概述和以下的詳述僅僅是示例性和解釋性而非限制性的。附圖簡述圖I為用于測量用公開的二氧化硅材料對硫醇吸收的測試裝置的圖。圖2為用比較實施例得到的甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖3為從用比較實施例的重復(fù)時間研究中得到的圖，其包括了異常點。該圖顯示了甲硫醇峰面積與時間； 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖4為來自用比較實施例的重復(fù)時間研究的圖，其不包括異常點。該圖顯示了甲硫醇峰面積與時間； 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖5為用實施例IA得到的甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖6為來自用實施例IA的重復(fù)時間研究的圖。該圖顯示了甲硫醇峰面積與時間； 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖7為用實施例IB得到的顯示了甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖8為用實施例IC得到的顯示了甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖9為用實施例ID得到的顯示了甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。

圖10為用實施例IE得到的顯示了甲硫醇峰面積與時間的圖。 表示剩下的百分?jǐn)?shù)且·表示減少的百分?jǐn)?shù)。圖11為顯示了在實施例IA-E和比較實施例的多劑量研究中的頂部空間回收率的圖，如下所描述的。頂部空間回收率如下■-實施例IA ； -實施例IB ；▲-實施例IC ； X-實施例ID ；>K-比較實施例；+-實施例1Ε。圖12為實施例IA-E的可溶濃度與pH的圖。樣品如下■-實施例IA -實施例IB ；▲-實施例IC ；X-實施例ID ；+-實施例1E。詳述在公開和描述本發(fā)明的化合物、組合物、復(fù)合材料、物品、設(shè)備和/或方法之前，應(yīng)理解的是，以下描述的各方面不限于具體化合物、組合物、復(fù)合材料、物品、設(shè)備、方法或用途，因為這些當(dāng)然可以變化。還應(yīng)理解的是，本文使用的術(shù)語僅是為了描述具體方面的目的，不意為限制。在本說明書中，將提及被定義成具有以下含義的許多術(shù)語在整個說明書中，除非上下文另外要求，否則詞語“包括(comprise)”或變化形式諸如“包括(comprises) ”或“包括(comprising) ”將被理解為暗示包含所指整數(shù)或步驟或整數(shù)或步驟的組，但不排除任何其他整數(shù)或步驟或整數(shù)或步驟的組。必須注意的是，如說明書中所使用的，除非上下文另外清楚地指明，否則單數(shù)形式“一(a)”、“一(an)”和“該(the) ”包括復(fù)數(shù)的指代物。因此，例如，提及“一種二氧化硅材料”包括兩種或更多種這樣的材料的混合物，諸如此類?！叭芜x的”或“任選地”是指隨后描述的事件或情況可發(fā)生或可不發(fā)生，且該描述包括其中發(fā)生該事件或情況的情形和其中不發(fā)生該事件或情況的情形。范圍在本文中可表示為從“約” 一個特定值和/或到“約”另一個特定值。當(dāng)表示這種范圍時，另一方面包括從一個特定值和/或到另一個特定值。類似地，當(dāng)值通過使用先行詞“約”表示為近似值時，應(yīng)理解的是，該特定值形成另一方面。應(yīng)進(jìn)一步理解的是，每個范圍的端點在與另一端點相關(guān)和獨立于另一端點的兩方面是有意義的。公開了可用于本公開方法和組合物的產(chǎn)品、可與本公開方法和組合物的產(chǎn)品結(jié)合使用、可用于制備本公開方法和組合物的產(chǎn)品、或者是本公開方法和組合物的產(chǎn)品的化合物、組合物和組分。本文公開了這些和其他材料，并要理解，當(dāng)公開這些材料的組合、子集、相互作用、組等時，雖然可能沒有明確公開這些化合物的每個不同的個體和集體組合和排列的具體參考，但每一個在本文被明確涵蓋和描述。例如，如果公開和討論了許多不同的酸化劑和堿金屬硅酸鹽，除非明確指明相反，則酸化劑和金屬硅酸鹽的每一個組合和排列被明確涵蓋。因此，如果公開了一類物質(zhì)A、B和C以及一類物質(zhì)D、E和F，并且公開了 A-D的物質(zhì)組合實例，那么即使沒有明確列舉每一個，也在個體上和集體上涵蓋每一個。因此，在該例中，組合A-E、A-F、B-D、B-E、B_F、C_D、C-E和C-F的每一個被明確涵蓋并且應(yīng)被認(rèn)為由以下的公開而公開A、B和C ;D、E和F ;和A-D的示例組合。同樣，這些的任何子集或組合也被明確涵蓋和公開。因此，例如，A-E、B-F和C-E的亞組被明確涵蓋并且應(yīng)被認(rèn)為由以下的公開而公開A、B和C ;D、E和F ;和A-D的示例組合。這一觀念適用于本公開的所有方面，包括但不限于制備和使用本公開組合物的方法中的步驟。因此， 如果有許多可以進(jìn)行的附加步驟，要理解，這些附加步驟的每一個可與所公開方法的任何具體實施方案或?qū)嵤┓桨傅慕M合一起進(jìn)行，并且每個這種組合被明確涵蓋并且應(yīng)被認(rèn)為是公開的。如本文所使用的，“平均粒度”是指按數(shù)量計50%的樣品具有更小尺寸且按數(shù)量計50%的樣品具有更大尺寸的粒度。本發(fā)明涉及包含諸如過渡金屬的加合物的二氧化硅材料，其能夠吸收VSC且因此對于減輕口臭是有用的。本發(fā)明的二氧化硅材料可被保留在嘴的口腔中，其能夠在延長的時間段內(nèi)吸收VSC。在一方面，二氧化硅材料具有I至15微米的平均粒度且具有存在于它的至少一部分表面上的加合物。加合物存在于二氧化硅材料中的二氧化硅顆粒的表面上，使得加合物可用于與VSC相互作用，即，使加合物暴露。在另一方面，二氧化硅材料的漿體在VSC吸收測試(即在下文的實施例部分在標(biāo)題“VSC吸收測試”和“多劑量研究”下描述的測試)中表現(xiàn)出頂部空間的至少35%減少、45%減少或50%減少。用于測定％頂部空間減少(也稱作“回收率”)的特定測試是在下文中在標(biāo)題“多劑量研究”下描述的含水測試。通常，本發(fā)明的二氧化硅材料具有I至15微米的平均粒度。在另一方面，二氧化硅材料具有大于5微米至15微米或例如8至15微米的平均粒度。優(yōu)選地，少于約2%的本發(fā)明的二氧化硅材料具有大于44微米的粒度。存在于二氧化硅材料上的加合物優(yōu)選地為諸如過渡金屬或后過渡金屬的金屬加合物。合適的金屬加合物的非限制性實例包括鋅、錫、銅、鍶、鋁及其混合物。通過在沉淀二氧化硅材料的形成過程中添加以水溶性金屬鹽的形式的加合物，制備二氧化硅材料。可溶于酸性條件的任意金屬鹽將是合適的，比如金屬硝酸鹽、金屬氯化物、金屬硫酸鹽及類似物。在另一方面，本發(fā)明的二氧化硅材料具有I至15微米的平均粒度且具有存在于它的至少一部分表面上的第一和第二加合物，其中第一和第二加合物是不同的。這樣的二氧化娃材料可具有I至5微米,從大于5微米至15微米或8至15微米的平均粒度。此類二氧化硅材料的實例包括但不限于具有存在于二氧化硅的至少一部分表面上的鋁和鋅、鋁和銅、鋅和錫、鍶和銅、或錫和鍶加合物兩者的那些二氧化硅材料。在另一方面，本發(fā)明的二氧化硅材料具有I至15微米的平均粒度且具有存在于它的至少一部分表面上的加合物，其中加合物按重量計以相對于作為整體的二氧化硅材料的O. 025%至10%的范圍內(nèi)的量存在，即金屬加合物重量/(金屬加合物重量+ 二氧化硅重量)。在另一方面，加合物按重量計以相對于二氧化硅材料的O. 025%至5%、0. 025%至3%>0. 025%至2%或O. 025%至I %的范圍內(nèi)的量存在。在另外的方面，加合物按重量計以二氧化硅材料的O. 1%至10%、0. 35%至5%或I %至3%的范圍內(nèi)的量存在。
二氧化硅材料可包括各種類型的二氧化硅，包括沉淀二氧化硅、熱解法二氧化硅、硅膠及類似物。在一個特定方面，二氧化硅材料包含沉淀二氧化硅且根據(jù)以下方法來制備。將諸如硅酸鈉的堿性硅酸鹽的水溶液裝入配備有足以保證均質(zhì)混合物的混合工具的反應(yīng)器中。反應(yīng)器中的堿性硅酸鹽溶液被預(yù)先加熱至在約環(huán)境溫度和130°C之間的溫度，優(yōu)選地約50至100°C，且更優(yōu)選地約65°C至約100°C，或約60°C至約90°C。堿性硅酸鹽溶液可具有約8. O至35wt%，比如約8. O至約20wt%的堿性硅酸鹽濃度。堿性硅酸鹽可以為具有約I至約3. 5，比如約2. 4至約3. 4的Si02:Na20比例的硅酸鈉。裝入反應(yīng)器中的堿性硅酸鹽的量為用于一批的總的硅酸鹽的約5￥丨％至IOOwt%。任選地，諸如硫酸鈉溶液或硫酸鋁(Alum)溶液的電解質(zhì)可被添加到反應(yīng)介質(zhì)中。此外，如果需要，這種混合可在高剪切條件下進(jìn)行。然后，向反應(yīng)器同時添加⑴諸如硫酸的酸化劑或酸的水溶液；⑵包含與反應(yīng)器中的堿性硅酸鹽的種類相同的堿性硅酸鹽的額外量的水溶液，這樣的水溶液被預(yù)先加熱至約65°C至約100°C的溫度。在酸化劑溶液被引入到反應(yīng)器之前，將加合物化合物添加到 酸化劑溶液中。以加合物化合物的摩爾數(shù)相對于酸化劑溶液升數(shù)的約O. 002至約O. 185，優(yōu)選地約O. 074至約O. 150的濃度，預(yù)先混合加合物化合物與酸化劑溶液。任選地，如果在加合物處理過的沉淀二氧化硅材料中需要更高的加合物濃度，可用加合物化合物的水溶液來代替酸。加合物化合物可以為各種金屬化合物，包括諸如鋅(II)鹽、錫(II)鹽、鐵(III)鹽、銅(II)鹽及Alum的金屬鹽。特定實例包括氯化鋅(II)、氯化錫(II)、硝酸鐵(III)、硝酸銅(II)及水合硫酸鋁鉀。酸化劑溶液優(yōu)選地具有約6至35wt%，比如約9. O至20wt%的酸化劑濃度。一段時間后，停止堿性二氧化硅溶液的流入，且允許酸化劑溶液的流入直到達(dá)到期望的pH。允許反應(yīng)器批在設(shè)定的消化溫度下老化或“消化”5分鐘至30分鐘，同時使反應(yīng)器批維持在恒定的PH下。消化完全后，過濾反應(yīng)批且用水洗滌以除去過量的副產(chǎn)物無機鹽，直到二氧化硅濾餅的洗滌水獲得小于約2000 μ mho的電導(dǎo)率。由于二氧化硅濾液的電導(dǎo)率與濾餅中的無機鹽副產(chǎn)物濃度成比例，那么通過維持濾液的電導(dǎo)率小于2000 μ mho，可得到諸如在濾餅中的Na2SO4的無機鹽的期望的低濃度。使二氧化硅濾餅在水中變成泥漿，且然后通過諸如噴霧干燥的任意傳統(tǒng)的干燥技術(shù)干燥，以生產(chǎn)包含約3wt%至約50wt%的水分的加合物處理過的沉淀二氧化硅材料。然后，可研磨加合物處理過的沉淀二氧化硅材料，以得到在約I μ m至15 μ m之間，I μ m至5 μ m,從大于5μηι至15μηι,或8μηι至15μηι的期望的粒度。本發(fā)明還涉及包含公開的二氧化硅材料的牙粉。如本文所使用的，“牙粉組合物”是指可用于例如通過清潔牙齒的可及表面維持口腔衛(wèi)生的組合物。實例包括牙膏、液體牙粉、糊劑牙粉、粉末牙粉及類似物。牙粉的實例為除了本發(fā)明的二氧化硅材料以外包含以下作為成分的那些牙粉水、洗滌劑、濕潤劑、粘合劑、芳香劑、粉末狀磨料或其組合。牙粉制劑還可包含必須在加入牙粉制劑之前溶解的成分(例如，抗齲齒劑比如氟化鈉、磷酸鈉，芳香劑比如糖精)。本發(fā)明的二氧化硅材料可以按重量計以相對于整個牙粉組合物的O. 01至50%，
O.01至30%或O. 01至25%的范圍內(nèi)的量存在于牙粉組合物中。如果本發(fā)明的二氧化硅材料事實上是磨料，量可以為按重量計O. 05至約15%。如果加合物處理過的沉淀二氧化硅材料為粘度改進(jìn)劑(增稠劑)，量可以為按重量計O. 05至約10%。然而，本發(fā)明的二氧化硅材料可作為對減輕口臭有用的劑存在。同樣地，在牙粉制劑中的量可以在上述范圍之內(nèi)，但材料可以不向牙粉提供任意明顯的增稠度或耐磨性，但將提供減輕口臭的益處。如果需要，此類制劑還可包含硝酸鉀鹽，作為其它合適的脫敏材料的一個實例。在另一方面，牙粉組合物包含至少一種其它組分，例如非加合物處理過的沉淀二氧化硅材料的磨料、非加合物處理過的沉淀二氧化硅材料的至少一種增稠劑、至少一種溶齊U、至少一種防腐劑、至少一種表面活性劑或其組合；其中本發(fā)明的二氧化硅材料作為研磨劑(abrasive agent)、增稠劑或兩者存在于牙粉內(nèi)。在一方面，公開的二氧化硅材料可作為磨料單獨用于牙粉組合物中，或與本文所討論的或本領(lǐng)域已知的其它研磨材料一起作為添加劑或聯(lián)合磨料(co-abrasive)。許多其它傳統(tǒng)類型的磨料添加劑可存在于本發(fā)明的牙粉組合物中。其它此類磨料顆粒包括例如沉淀碳酸鈣(PCC)、磨碎的碳酸鈣(GCC)、白堊、膨潤土、磷酸二鈣或它的二水合物形式、硅膠(單獨的，和任意結(jié)構(gòu)的)、沉淀二氧化硅、無定形沉淀二氧化硅(單獨的，和任意結(jié)構(gòu)的)、 珍珠巖、二氧化鈦、磷酸二鈣、焦磷酸鈣、氧化鋁、水合氧化鋁、煅燒氧化鋁、硅酸鋁、不溶性偏磷酸鈉、不溶性偏磷酸鉀、不溶性碳酸鎂、硅酸鋯、顆粒熱固性樹脂和其它合適的研磨材料。這樣的材料可引入到牙粉組合物中，以調(diào)整目標(biāo)制劑的拋光特性。除了磨料組分外，牙粉還可包含一種或更多種感官增強劑。感官增強劑包括濕潤齊 、甜味劑、表面活性劑、芳香劑、著色劑和增稠劑(有時也被稱為粘合劑、樹膠或穩(wěn)定劑)。濕潤劑起到將身體或“嘴的質(zhì)地(mouth texture)”添加到牙粉中及防止牙粉干燥的作用。合適的濕潤劑包括聚乙二醇(在各種各樣的不同分子量下的)、丙二醇、丙三醇(甘油)、赤蘚醇、木糖醇、山梨醇、甘露醇、乳糖醇及氫化淀粉水解產(chǎn)物，及其混合物。在特定的實施中，濕潤劑以牙粉組合物的約20wt%至約50被％的量存在，例如40重量％。甜味劑可添加到牙粉組合物(例如牙膏)中，以給予產(chǎn)品令人愉快的味道。合適的甜味劑包括糖精(作為糖精鈉、糖精鉀或糖精鈣)、環(huán)己基氨基磺酸鹽(作為鈉、鉀或鈣鹽)、乙?；前匪徕?acesulfame-K)、奇異果甜蛋白、新橙皮苷二氫查耳酮、氨化甘草甜素、右旋糖、果糖、蔗糖、甘露糖及葡萄糖。表面活性劑可用于本發(fā)明的牙粉組合物中，以制備美容上更加可接受的組合物。表面活性劑優(yōu)選地為清潔材料，其給予組合物清潔性能和泡沫性能。合適的表面活性劑為安全且有效量的陰離子、陽離子、非離子、兩性離子、兩性及甜菜堿表面活性劑，比如月桂基硫酸鈉，十二烷基苯磺酸鈉，月桂酰肌氨酸、肉豆蘧酰肌氨酸、棕櫚酰肌氨酸、硬脂酰肌氨酸及油酰肌氨酸的堿金屬鹽或銨鹽，聚氧乙烯失水山梨糖醇單硬脂酸酯、異硬脂酸酯和月桂酸酯，月桂基磺基乙酸鈉，N-月桂?；“彼?，N-月桂?；?、N-肉豆蘧酰基或N-棕櫚酸肌氨酸的鈉鹽、鉀鹽和乙醇胺鹽，烷基酚的聚氧化乙烯縮合物，椰油酰胺丙基甜菜堿(cocoamidopropyl betaine)、月桂酰胺丙基甜菜堿、棕櫚基甜菜堿及類似物。月桂基硫酸鈉是優(yōu)選的表面活性劑。表面活性劑通常以按重量計約0. I至約15%，優(yōu)選地按重量計約
0.3%至約5%，比如按重量計約0. 3%至約2. 5%的量存在于本發(fā)明的口腔護理組合物中。芳香劑還可被添加到牙粉組合物中。合適的芳香劑包括但不限于冬綠樹的油、薄荷的油、綠薄荷(spearmint)的油、黃樟的油，及丁香、肉桂、茴香腦、薄荷腦、百里酹、丁香酚、桉油精、檸檬、橙子的油，及其它此類芳香化合物，以添加水果氣味(note)、香料氣味等。這些芳香劑通常包括醛、酮、酯、酚、酸及脂肪族、芳香族和其它的醇的混合物?？商砑又珓?，以增強產(chǎn)品的美學(xué)外觀。合適的著色劑包括但不限于由諸如FDA的合適的管理部門批準(zhǔn)的那些著色劑及在歐洲食品和藥品法規(guī)中列出的那些，且包括諸如TiO2的色素及諸如FD&C和D&C染料的色料。增稠劑在牙粉組合物中是有用的，以提供穩(wěn)定牙膏使其抗相分離的凝膠狀結(jié)構(gòu)。合適的增稠劑包括二氧化硅增稠劑；淀粉；淀粉的甘油溶液；樹膠，比如刺梧桐膠(蘋婆膠)、黃蓍膠、阿拉伯膠、印度樹膠、金合歡膠、黃原膠、瓜耳膠及纖維素膠；硅酸鎂鋁(Veegum);角叉菜膠；海藻酸鈉；瓊脂；果膠；明膠；纖維素化合物，比如纖維素、羧甲基纖維素、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、羥甲基纖維素、羥甲基羧丙基纖維素、甲基纖維素、乙基纖維素及硫酸化纖維素；天然和合成的粘土，比如鋰蒙脫石粘土 ；及其混合物。增稠劑或粘合劑的典型水平為牙膏組合物的約0wt%至約15wt%。
例如，對于用于牙膏組合物內(nèi)有用的二氧化硅增稠劑包括作為非限制性實例的諸如ZE0DENT 165 二氧化硅的無定形沉淀二氧化硅。其它優(yōu)選的(但非限制性的)二氧化硅增稠劑為ZE0DENT 153、163和/或167及ZE0FREE、177和/或265 二氧化硅，所有都能從J. M. Huber Corporation 購得。治療劑還可用于組合物中，以提供齲齒、牙周病和溫度敏感性的預(yù)防和治療。并非意在限制的治療劑的實例為氟化物來源，比如氟化鈉、單氟磷酸鈉、單氟磷酸鉀、氟化亞錫、氟化鉀、氟硅酸鈉、氟硅酸鋁及類似物；縮合磷酸鹽，比如焦磷酸四鈉、焦磷酸四鉀、焦磷酸二氫二鈉、焦磷酸一氫三鈉；三聚磷酸鹽、六偏磷酸鹽、三偏磷酸鹽及焦磷酸鹽；抗菌劑比如三氯生、雙胍(bisguanides)比如阿來西定、氯己定和氯己定葡糖酸鹽；酶，比如木瓜蛋白酶、菠蘿蛋白酶、葡糖淀粉酶、淀粉酶、葡聚糖酶、變聚糖酶(mutanase)、脂酶、果膠酶、鞣酸酶及蛋白酶；季銨化合物，比如苯扎氯銨(BZK)、芐索氯銨(BZT)、西吡氯銨(CPC)及度米芬；金屬鹽，比如檸檬酸鋅、氯化鋅及氟化亞錫；血根草提取物及血根堿；揮發(fā)油，比如桉油精、薄荷腦、百里酚及水楊酸甲酯；胺氟化物；過氧化物及類似物。治療劑可以治療上安全且有效的水平單獨或組合用于牙粉制劑。防腐劑還可被添加到本發(fā)明的組合物中，以防止細(xì)菌生長。批準(zhǔn)用于口腔組合物的合適的防腐劑，比如對羥苯甲酸甲酯、對羥苯甲酸丙酯及苯甲酸鈉，可以以安全且有效的量添加。本文所公開的牙粉還可包含各種額外的成分，比如脫敏劑、愈合劑、其它齲齒預(yù)防齊U、螯合/掩蔽劑、維生素、氨基酸、蛋白質(zhì)、其它抗齒菌斑/抗結(jié)石劑、遮光劑、抗生素、抗酶、酶、PH控制劑、氧化劑、抗氧化劑及類似物。除了上述添加劑外，水通常提供組合物的平衡。水優(yōu)選地為去離子的且不含雜質(zhì)的。牙粉通常將包含約5wt%至約70wt%的水,例如5wt%至35wt%,比如llwt%的水。本發(fā)明的二氧化硅材料還可合并到各種其它口腔護理組合物中，包括呼吸條、樹膠，比如口香糖、漱口液、口腔沖洗液(mouth rinse)、糖膏劑(例如,錠劑、壓片、硬糖等)、可食用膜、口腔噴劑(mouthspray)及牙齒增白條。還公開了用于減少在諸如口腔的包含VSC的氣氛中的諸如硫醇的VSC的量的方法，所述方法通過使含VSC的氣氛與公開的二氧化硅材料或牙粉組合物接觸，從而較少氣氛中的VSC的水平。特定實例為減輕諸如人的受試者的口臭的方法，所述方法通過將二氧化硅材料或牙粉施用到受試者的口腔中，從而減輕受試者的口臭。如上所討論的，鑒于VSC引起口臭，公開的材料和牙粉有效地減少氣氛中的VSC水平(參見下面的實施例)并因此有效地減輕了口臭。在一方面，接受了本發(fā)明的二氧化硅材料或牙粉的受試者(例如人)有治療需要，即，受試者患有口臭。在另外的方面，二氧化硅材料或牙粉可用于預(yù)防性治療，即給予在施用時不一定遭受口臭的受試者，諸如人。為了測試受試者口臭的減輕，在標(biāo)題為“在含水條件下的多劑量研究”的以下測試可用于顯示這樣的減輕，即用從受試者的口腔收集的蒸汽樣品?？蛇x擇地，還可使用諸如氣味測試(smell test)法的本領(lǐng)域已知的方法，其中評估施用前和施用后的來自受試者的口腔蒸汽樣品，以顯示口臭的減輕。在另一方面，公開了用于減輕口臭的方法，包括以下步驟a)提供包含所公開的二氧化硅材料的適合于口腔施用的組合物；及13)將組合物施用給VSC存在于他們的口腔中的受試者，從而允許組合物的二氧化硅材料吸收VSC且轉(zhuǎn)而減輕受試者的口臭。 實施例提出以下的實施例，以為本領(lǐng)域的技術(shù)人員提供如何制備和評估本文所要求保護的化合物、組合物、物品、設(shè)備和/或方法的完整公開和描述，且僅意在示例本發(fā)明且并非意在限制發(fā)明人當(dāng)做他們的發(fā)明的范圍。已經(jīng)作出努力，以保證關(guān)于數(shù)值(例如，量、溫度等)的準(zhǔn)確性，但應(yīng)考慮一些誤差和偏差。除非另外說明，否則，份為重量份，溫度以。C計或是在環(huán)境溫度下，且壓力為在大氣壓力下或接近大氣壓力。二氧化硅材料實施例IA將410mL的硅酸鹽(13. 3%，1. 112g/mL,3. 32MR)添加到2加侖的反應(yīng)器中，且在300RPM下的攪拌下加熱至85°C。然后，分別以82. 4mL/min和24. 8mL/min同時添加硅酸鹽(13. 3%, I. 112g/mL，3. 32MR)和硫酸 / 氯化鋅(II)溶液(11. 4%，I. 078g/mL硫酸，包含
O.077mol ZnCl2/L酸)，持續(xù)47分鐘。47分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將pH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后從反應(yīng)器排出。過濾且用兩份排出量的去離子水洗滌。樣品在105°C下干燥過夜。一式三份制備上面的批，合并且空氣研磨(air-mill)至約3. O μ m的平均粒度。用實施例IA的材料來獲得圖5和圖6。實施例IB將410mL的硅酸鹽(13. 3%，1. 112g/mL,3. 32MR)添加到2加侖的反應(yīng)器中，且在300RPM下的攪拌下加熱至85°C。然后，分別以82. 4mL/min和24. 8mL/min同時添加硅酸鹽(13. 3%, I. 112g/mL，3. 32MR)和硫酸 / 氯化錫(II)溶液(11. 4%，I. 078g/mL硫酸，包含
O.042molSnCl2-2H20/L酸)，持續(xù)47分鐘。47分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將PH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后從反應(yīng)器排出。過濾且用兩份排出量的去離子水洗滌。樣品在105°C下干燥過夜。一式三份制備上面的批，合并且空氣研磨至約3. Ομπι的平均粒度。用實施例IB的材料來獲得圖7。實施例IC
將410mL的硅酸鹽(13. 3%, I. 112g/mL，3. 32MR)添加到2加侖的反應(yīng)器中，且在300RPM下的攪拌下加熱至85°C。然后，分別以82. 4mL/min和24. 8mL/min同時添加硅酸鹽(13. 3%, I. 112g/mL，3. 32MR)和硫酸 / 硝酸鐵(II)溶液(11. 4%，I. 078g/mL硫酸，包含
O.089molFe (NO3) 3_9H20/L酸)，持續(xù)47分鐘。47分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將pH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后從反應(yīng)器排出。過濾且用兩份排出量的去離子水洗滌。樣品在105°C下干燥過夜。一式三份制備上面的批，合并且空氣研磨至約3. Ομπι的平均粒度。用實施例IC的材料來獲得圖8。實施例ID將410mL的硅酸鹽(13. 3%，1. 112g/mL,3. 32MR)添加到2加侖的反應(yīng)器中，且在300RPM下的攪拌下加熱至85°C。然后，分別以82. 4mL/min和24. 8mL/min同時添加硅酸 鹽(13. 3%, I. 112g/mL，3. 32MR)和硫酸 / 硝酸銅(II)溶液(11. 4%，I. 078g/mL硫酸，包含
0.077molCu (NO3) 2_2. 5H20/L酸)，持續(xù)47分鐘。47分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將pH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后從反應(yīng)器排出。過濾且用兩份排出量的去離子水洗滌。樣品在105°C下干燥過夜。一式三份制備上面的批，合并且空氣研磨至約3. Ομπι的平均粒度。用實施例ID的材料來獲得圖9。實施例IE將67L的硅酸鹽(19. 5%, I. 180g/mL，3. 32MR)和167L的水添加到400加侖的反應(yīng)器中，且在30HZ的循環(huán)下和在60RPM的攪拌下加熱至87°C。然后，分別以12. 8L/min和 3. 9L/min 同時添加硅酸鹽(19. 5 %，I. 180g/mL，3. 32MR)和硫酸/alum 溶液(17.1%，
1.12g/mL硫酸，包含O. 22mol Alum/L酸)，持續(xù)47分鐘。47分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將pH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后排出。過濾且洗滌至 1500 μ S的電導(dǎo)率，且噴霧干燥。然后，將該批的一部分空氣研磨至 3. O μ m的平均粒度。用實施例IE的材料來獲得圖10。比較實施例(無金屬加合物的二氧化硅)將410mL的硅酸鹽(13. 3%，1. 112g/mL,3. 32MR)添加到2加侖的反應(yīng)器中，且在300RPM下的攪拌下加熱至85 °C。然后，分別以82. 4mL/min和24. 8mL/min同時添加硅酸鹽(13. 3%, I. 112g/mL,3. 32MR)和硫酸(11. 4%，I. 078g/mL)，持續(xù) 47 分鐘。47 分鐘后，停止硅酸鹽的流動，且用連續(xù)流動的酸將PH調(diào)節(jié)至5. 5。一旦pH到達(dá)5. 5，允許批在90°C下消化10分鐘，且然后排出。過濾且用兩份排出量的去離子水洗滌。樣品在105°C下干燥過夜。一式三份制備上面的批，合并且空氣研磨至約3. O μ m的平均粒度。用比較實施例的材料來獲得圖2-圖4。用可購自Horiba Instruments, Boothwyn, Pa 的型號 LA-930 (或 LA-300 或等價物)激光散射儀器來測定中值粒度。通過元素分析，分析實施例1A-1E和比較實施例的金屬含量。結(jié)果顯示在表I中。表I.實施例1A-1E的金屬分析。
樣品Al(% ) Fe(% ) Cu(% ) Zn(% ) Sn(% )
實施例 IA1761
權(quán)利要求
1.一種用于減輕口臭的方法，包括向哺乳動物的口腔施用有效量的沉淀二氧化硅材料，從而減輕口臭，所述沉淀二氧化硅材料具有I至15微米的平均粒度且包含存在于它的至少一部分表面上的金屬加合物。
2.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述沉淀二氧化硅材料在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少35%頂部空間減少。
3.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述沉淀二氧化硅材料在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少50%頂部空間減少。
4.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述金屬加合物包含鋁、鋅、錫、鍶、鐵、銅或其混合物。
5.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述金屬加合物為鋅或銅加合物。
6.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述金屬加合物按重量計以所述沉淀二氧化硅材料的約1%至約3%的范圍內(nèi)的量存在。
7.如權(quán)利要求I所述的方法，其中所述哺乳動物為人。
8.一種牙粉，包含(a)具有I至15微米的平均粒度且包含存在于它的至少一部分表面上的金屬加合物的沉淀二氧化硅材料；其中所述沉淀二氧化硅材料在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少35%頂部空間減少；和(b)任選地，選自非所述沉淀二氧化硅材料的至少一種磨料、非所述沉淀二氧化硅的至少一種增稠劑、至少一種溶劑、至少一種防腐劑及至少一種表面活性劑的至少一種其它組分，其中所述沉淀二氧化硅材料作為研磨齊U、增稠劑或兩者存在于所述牙粉中。
9.如權(quán)利要求8所述的牙粉，其中所述沉淀二氧化硅材料在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少50%頂部空間減少。
10.如權(quán)利要求8所述的牙粉，其中所述金屬加合物包含選自鋁、鋅、錫、鍶、鐵、銅及其混合物的金屬。
11.如權(quán)利要求8所述的牙粉，其中所述金屬加合物包括鋅或銅加合物。
12.如權(quán)利要求8所述的牙粉，其中所述金屬加合物按重量計以所述沉淀二氧化硅材料的約I %至約3%的范圍內(nèi)的量存在。
13.—種通過包括以下的方法制備的沉淀二氧化硅材料在液體介質(zhì)中，在從約環(huán)境溫度至約130°C的溫度下，使硅酸鹽與酸化劑和金屬鹽反應(yīng)，以提供在所述液體介質(zhì)中的反應(yīng)產(chǎn)物；和降低所述液體介質(zhì)的PH，以使所述二氧化硅材料從所述液體介質(zhì)中沉淀出來；其中所述金屬鹽包括鋅(II)鹽、錫(II)鹽、鐵(III)鹽、銅(II)鹽或其混合物。
14.如權(quán)利要求13所述的沉淀二氧化硅材料，其中所述金屬鹽包括氯化鋅(II)、氯化錫(II)、硝酸鐵(III)、硝酸銅(II)或其混合物。
15.如權(quán)利要求13所述的沉淀二氧化硅材料，其中所述金屬鹽包括氯化鋅(II)、硝酸銅(II)或其混合物。
16.一種沉淀二氧化硅材料，其具有I至15微米的平均粒度且包含存在于它的至少一部分表面上的金屬加合物；其中所述沉淀二氧化硅材料在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少35%頂部空間減少。
17.如權(quán)利要求16所述的沉淀二氧化硅材料，其在揮發(fā)性硫化合物(VSC)吸收測試中表現(xiàn)出至少50%頂部空間減少。
18.如權(quán)利要求16所述的沉淀二氧化硅材料，其中所述金屬加合物包含鋁、鋅、錫、鍶、鐵、銅或其混合物。
19.如權(quán)利要求16所述的沉淀二氧化硅材料，其中所述金屬加合物包括鋅或銅加合物。
20.如權(quán)利要求16所述的沉淀二氧化硅材料，其中所述金屬加合物按重量計以所述沉淀二氧化硅材料的約1%至約3%的范圍內(nèi)的量存在。
全文摘要
本文公開了包含存在于其至少一部分表面上的加合物的二氧化硅材料。該二氧化硅材料能夠結(jié)合揮發(fā)性硫化合物(VSC)且因此減輕口臭。還公開了包含所述二氧化硅材料的牙粉組合物、口腔護理組合物及制備和應(yīng)用所述二氧化硅材料的方法。
文檔編號C01B33/187GK102821740SQ201180008848
公開日2012年12月12日 申請日期2011年2月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年2月19日
發(fā)明者卡爾·W·加里斯, 特里·W·納斯維拉, 威廉·H·皮特考克 申請人:J.M.休伯有限公司