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受激輻射損耗顯微方法及顯微裝置與流程

文檔序號(hào):12656926閱讀:來源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種受激輻射損耗顯微方法,其特征在于,包括如下步驟:

步驟S1,將初始激光光束分為第一激光光束和第二激光光束;

步驟S2,調(diào)節(jié)所述第一激光光束的能量,并將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上,所述晶體光纖能夠被激光激發(fā),輸出具有連續(xù)光譜的激發(fā)光;

步驟S3,調(diào)制所述激發(fā)光為紅色光斑,調(diào)制所述第二激光光束為環(huán)形的STED光;

步驟S4,將所述激發(fā)光和所述STED光重疊為同軸光線,并聚焦于熒光樣品上;

步驟S5,通過調(diào)節(jié)所述第一激光光束的能量,使熒光樣品發(fā)出熒光;

步驟S6,采集熒光樣品發(fā)出的熒光,獲得圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的受激輻射損耗顯微方法,其特征在于,

步驟S1中,所述初始激光光束通過飛秒激光器獲得;并使所述初始激光光束透過偏振分光棱鏡,從而獲得相互垂直的所述第一激光光束和所述第二激光光束。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的受激輻射損耗顯微方法,其特征在于,

步驟S2中,先將所述第一激光光束的能量降到預(yù)設(shè)值以下,再將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上,使晶體光纖發(fā)出的激發(fā)光透過起偏鏡,所述晶體光纖的偏振方向與所述起偏鏡的方向一致。

4.一種受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,包括:飛秒激光器、偏振分光棱鏡、晶體光纖和熒光探測(cè)器,飛秒激光器發(fā)出的激光透過所述偏振分光棱鏡后分為第一激光光束和第二激光光束,所述第一激光光束進(jìn)入第一光路,所述第二激光光束進(jìn)入第二光路,所述晶體光纖設(shè)在所述第一光路中;所述第一激光光路中設(shè)有位于所述晶體光纖之前的第二半波片和第一凸透鏡;所述第二光路中設(shè)有第三凸透鏡和相位板;

所述第一激光光束依次透過第二半波片和第一凸透鏡后,進(jìn)入所述晶體光纖,激發(fā)所述晶體光纖輸出激發(fā)光;所述第二半波片用于使所述第一激光光束與所述晶體光纖的偏振性一致,所述第一凸透鏡用于將所述第一激光光束聚焦在晶體光纖上;

所述第二激光光束依次透過所述第三凸透鏡和所述相位板后,形成環(huán)形的STED光;所述第三凸透鏡用于對(duì)所述第二激光光束擴(kuò)束;

所述激發(fā)光和所述STED光經(jīng)反光鏡重疊為同軸光線后進(jìn)入第三光路,所述第三光路的末端設(shè)有載物臺(tái);

所述熒光探測(cè)器用于經(jīng)第四光路探測(cè)位于載物臺(tái)上熒光樣品發(fā)出的熒光。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述第一光路和/或所述第二光路中還設(shè)有光程調(diào)節(jié)器。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述飛秒激光器和所述偏振分光鏡之間設(shè)有第一半波片。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述第一光路中,位于所述晶體光纖后方,還依次設(shè)有第二凸透鏡、第一起偏鏡和第三半波片。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述第二光路中設(shè)有脈沖拉寬裝置,所述脈沖拉寬裝置設(shè)于所述相位板的前方。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述第二光路中還設(shè)有位于所述相位板前方的第二起偏鏡。

10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的受激輻射損耗顯微裝置,其特征在于,所述第一光路和第四光路中均設(shè)有濾鏡。

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