本發(fā)明涉及顯微成像,特別涉及一種受激輻射損耗顯微方法及顯微裝置。
背景技術(shù):
光學(xué)顯微鏡在生物學(xué)領(lǐng)域起著舉足輕重的作用,但是由于光的衍射效應(yīng),光學(xué)成像系統(tǒng)都有一個分辨率極限。1873年,德國物理學(xué)家Ernst Abbe提出遠(yuǎn)場光學(xué)顯微鏡的橫向分辨率極限的數(shù)值約為λ/2NA,其中λ是光波波長,NA為透鏡數(shù)值孔徑且小于1,因此在可見光波段內(nèi),遠(yuǎn)場光學(xué)顯微鏡分辨率極限僅有200納米。由于細(xì)胞的細(xì)微結(jié)構(gòu),調(diào)節(jié)細(xì)胞增殖﹑分化﹑凋亡以及信號傳遞等體系的特征尺度都在納米量級,所以光學(xué)顯微鏡分辨率的提高就成為一個亟需解決的難題。美國專利公開的專利號為US5731588的受激輻射損耗顯微鏡(STED)是第一個突破衍射限制的超分辨顯微鏡,在2006年被Science雜志評選為科學(xué)界十大突破之一,其基本原理是使用兩束激光,第一束脈沖激發(fā)光將熒光材料從基態(tài)S0激發(fā)到第一單重激發(fā)態(tài)較高振動能級S1*,電子會快速弛豫到激發(fā)態(tài)最低振動能級S1,與此同時,使用另一束波長較長的激光(通常位于發(fā)光材料發(fā)射光譜的紅外末端),稱為退激光或STED光,將處于S1態(tài)的電子以受激發(fā)射損耗方式退激發(fā)至基態(tài),并發(fā)出一個與STED光波長相同的光子。由于STED光是經(jīng)過相位調(diào)制的中心為零點的甜面包圈形狀光斑,因此STED光中心沒有退激發(fā)效果,通過重疊激發(fā)光與退激發(fā)光斑,只允許位于STED零點的激發(fā)光激發(fā)的熒光物質(zhì)發(fā)光,從而提高分辨率。目前,受激發(fā)射損耗顯微鏡應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域所達到的分辨率約為50納米。
通常,受激輻射損耗顯微鏡的激發(fā)光源需要使用皮秒脈沖激光,而STED光則可選用高能量的脈沖激光或連續(xù)激光光源。但是,由于各種發(fā)光材料的吸收及發(fā)射波長差別很大,因此為了能適用于盡可能多的發(fā)光材料,理想的受激發(fā)射損耗顯微鏡需要能連續(xù)調(diào)節(jié)激發(fā)光和STED光的波長。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
針對現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷,本發(fā)明提供一種高分辨率的受激輻射損耗顯微方法及顯微裝置,能夠連續(xù)調(diào)節(jié)STED光的波長。
第一方面,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微方法,包括如下步驟:
步驟S1,將初始激光光束分為第一激光光束和第二激光光束;
步驟S2,調(diào)節(jié)所述第一激光光束的能量,并將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上,所述晶體光纖能夠被激光激發(fā),輸出具有連續(xù)光譜的激發(fā)光;
步驟S3,調(diào)制所述激發(fā)光為紅色光斑,調(diào)制所述第二激光光束為環(huán)形的STED光;
步驟S4,將所述激發(fā)光和所述STED光重疊為同軸光線,并聚焦于熒光樣品上;
步驟S5,通過調(diào)節(jié)所述第一激光光束的能量,使熒光樣品發(fā)出熒光;
步驟S6,采集熒光樣品發(fā)出的熒光,獲得圖像。
進一步地,步驟S1中,所述初始激光光束通過飛秒激光器獲得;并使所述初始激光光束透過偏振分光棱鏡,從而獲得相互垂直的所述第一激光光束和所述第二激光光束。
進一步地,步驟S2中,先將所述第一激光光束的能量降到預(yù)設(shè)值以下,再將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上,使晶體光纖發(fā)出的激發(fā)光透過起偏鏡,所述晶體光纖的偏振方向與所述起偏鏡的方向一致。
本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微方法,將初始激光光束分成第一激光光束和第二激光光束,第二激光光束作為STED光源,第一激光光束用來激發(fā)晶體光纖,得到能夠連續(xù)調(diào)節(jié)光譜的激發(fā)光。然后將激發(fā)光和STED光重疊后聚焦到待測樣品上,采集產(chǎn)生的熒光獲得成像。
本發(fā)明使用的晶體光纖可被激光激發(fā),改變激光的波長,即改變STED光的波長,但并不會對激發(fā)光造成太大影響。而且由于STED光和激發(fā)光都來源于初始激光光束,因此他們的脈沖頻率從本質(zhì)上是同步的,無需使用額外的電子元器件。
進入晶體光纖的激光能量會影響激發(fā)光的光譜范圍,通過調(diào)節(jié)第一激光束的激光能量,獲得具有超連續(xù)光譜的激發(fā)光,能夠使多種熒光樣品發(fā)光。
因此,本發(fā)明提供受激輻射損耗顯微方法,能夠連續(xù)調(diào)節(jié)激發(fā)光和STED光的波長,從而適用于多種熒光材料。
第二方面,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微裝置,包括:飛秒激光器、偏振分光棱鏡、晶體光纖和熒光探測器,飛秒激光器發(fā)出的激光透過所述偏振分光棱鏡后分為第一激光光束和第二激光光束,所述第一激光光束進入第一光路,所述第二激光光束進入第二光路,所述晶體光纖設(shè)在所述第一光路中;所述第一激光光路中設(shè)有位于所述晶體光纖之前的第二半波片和第一凸透鏡;所述第二光路中設(shè)有第三凸透鏡和相位板;
所述第一激光光束依次透過第二半波片和第一凸透鏡后,進入所述晶體光纖,激發(fā)所述晶體光纖輸出激發(fā)光;所述第二半波片用于使所述第一激光光束與所述晶體光纖的偏振性一致,所述第一凸透鏡用于將所述第一激光光束聚焦在晶體光纖上;
所述第二激光光束依次透過所述第三凸透鏡和所述相位板后,形成環(huán)形的STED光;所述第三凸透鏡用于對所述第二激光光束擴束;
所述激發(fā)光和所述STED光經(jīng)反光鏡重疊為同軸光線后進入第三光路,所述第三光路的末端設(shè)有載物臺;
所述熒光探測器用于經(jīng)第四光路探測位于載物臺上熒光樣品發(fā)出的熒光。
進一步地,所述第一光路和/或所述第二光路中還設(shè)有光程調(diào)節(jié)器。
進一步地,所述飛秒激光器和所述偏振分光鏡之間設(shè)有第一半波片。
進一步地,所述第一光路中,位于所述晶體光纖后方,還依次設(shè)有第二凸透鏡、第一起偏鏡和第三半波片。
進一步地,所述第二光路中設(shè)有脈沖拉寬裝置,所述脈沖拉寬裝置設(shè)于所述相位板的前方。
進一步地,所述第二光路中還設(shè)有位于所述相位板前方的第二起偏鏡。
進一步地,所述第一光路和第四光路中均設(shè)有濾鏡。
本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微裝置,包括:飛秒激光器、偏振分光棱鏡、晶體光纖和熒光探測器。飛秒激光器發(fā)出的激光透過所述偏振分光棱鏡后分為第一激光光束和第二激光光束。所述晶體光纖能夠被激光激發(fā),改變飛秒激光器發(fā)出的激光的波長,即改變STED光的波長,但并不會對激發(fā)光造成太大影響。而且由于STED光和激發(fā)光都來源于初始的激光光束,因此他們的脈沖頻率從本質(zhì)上是同步的,無需使用額外的電子元器件。
進入晶體光纖的激光能量會影響激發(fā)光的光譜范圍,通過調(diào)節(jié)第一激光束的激光能量,獲得具有超連續(xù)光譜的激發(fā)光,能夠使多種熒光樣品發(fā)光。
因此,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微裝置,能夠連續(xù)調(diào)節(jié)激發(fā)光和STED光的波長,從而適用于多種熒光材料。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹。在所有附圖中,類似的元件或部分一般由類似的附圖標(biāo)記標(biāo)識。附圖中,各元件或部分并不一定按照實際的比例繪制。
圖1為實施例一提供的受激輻射損耗顯微方法的原理示意圖;
圖2為實施例二提供的受激輻射損耗顯微裝置的原理示意圖;
圖3為本發(fā)明中晶體光纖在不同能量和不同波長激發(fā)下的發(fā)射光譜圖;
圖4為實施例二提供的受激輻射損耗顯微裝置的成像示意圖;
圖5為實施例三提供的受激輻射損耗顯微裝置的原理示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明技術(shù)方案的實施例進行詳細(xì)的描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案,因此只作為示例,而不能以此來限制本發(fā)明的保護范圍。
需要注意的是,除非另有說明,本申請使用的技術(shù)術(shù)語或者科學(xué)術(shù)語應(yīng)當(dāng)為本發(fā)明所屬領(lǐng)域技術(shù)人員所理解的通常意義。
參照圖1,實施例一中,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微方法,包括如下步驟:
步驟S1,將初始激光光束分為第一激光光束和第二激光光束;
摻鈦藍(lán)寶石激光的能量高,且性能穩(wěn)定,而且波長在690-1040納米之間可調(diào),因此作為STED光源,同時,摻鈦藍(lán)寶石激光器的脈沖頻率為80MHz,數(shù)據(jù)采集速度快,能夠觀測快速變化的信號。在本實施例中,通過飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器獲得初始激光光束,調(diào)節(jié)輸出波長為800納米(也可選擇其他波長);并使所述初始激光光束透過偏振分光棱鏡,從而獲得相互垂直的所述第一激光光束和所述第二激光光束。
步驟S2,調(diào)節(jié)所述第一激光光束的能量,并將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上;
參照圖3,所述晶體光纖能夠被飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器任一波長的激光激發(fā),輸出具有連續(xù)光譜的激發(fā)光;進入晶體光纖的能量在100毫瓦以上時,能夠獲得很強的超連續(xù)光譜,輸出光的能量與激發(fā)晶體光纖的波長和強度有關(guān),通常約為0.5mW/nm。
為了防止激光能量太大,燒毀晶體光纖,先將所述第一激光光束的能量降到50毫瓦,再將所述第一激光光速聚焦在晶體光纖上,使晶體光纖發(fā)出的激發(fā)光透過起偏鏡,所述晶體光纖的偏振方向與所述起偏鏡的方向一致。
步驟S3,調(diào)制所述激發(fā)光為紅色光斑,調(diào)制所述第二激光光束為環(huán)形的STED光;本實施例中使用的STED光是飛秒激光,因此為了達到更好的退激發(fā)效果,先把脈沖寬度拉寬到200到300皮秒,之后將STED光導(dǎo)入100米長的保偏單模光纖進一步拉寬到300皮秒左右。
步驟S4,將所述激發(fā)光和所述STED光重疊為同軸光線,并聚焦于熒光樣品上;
步驟S5,使所述第一激光光束的能量為100毫瓦以上,從而調(diào)節(jié)激發(fā)光的光譜,獲得具有超連續(xù)光譜的激發(fā)光,使熒光樣品發(fā)出熒光。
步驟S6,采集熒光樣品發(fā)出的熒光,獲得圖像。
本實施例提供的受激輻射損耗顯微方法,將初始激光光束分成第一激光光束和第二激光光束,第二激光光束作為STED光源,第一激光光束用來激發(fā)晶體光纖,得到能夠連續(xù)調(diào)節(jié)光譜的激發(fā)光。然后將激發(fā)光和STED光重疊后聚焦到待測樣品上,采集產(chǎn)生的熒光獲得成像。
本實施例使用的晶體光纖可被飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器任一波長激發(fā),因此改變激光的波長,即改變STED光的波長,但并不會對激發(fā)光造成太大影響。而且由于STED光和激發(fā)光都來源于初始激光光束,因此他們的脈沖頻率從本質(zhì)上是同步的,無需使用額外的電子元器件。
進入晶體光纖的激光能量會影響激發(fā)光的光譜范圍,通過調(diào)節(jié)第一激光束的激光能量,獲得具有超連續(xù)光譜的激發(fā)光,能夠使多種熒光樣品發(fā)光。
因此,本發(fā)明提供受激輻射損耗顯微方法,能夠連續(xù)調(diào)節(jié)激發(fā)光和STED光的波長,從而適用于多種熒光材料。
參照圖2,實施例二中,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微裝置,包括:飛秒激光器T、偏振分光棱鏡B、晶體光纖C和熒光探測器A,飛秒激光器T發(fā)出的激光透過所述偏振分光棱鏡B后分為第一激光光束和第二激光光束,所述第一激光光束進入第一光路,所述第二激光光束進入第二光路,所述晶體光纖C設(shè)在所述第一光路中;所述第一激光光路中設(shè)有位于所述晶體光纖C之前的第二半波片H2和第一凸透鏡L1;所述第二光路中設(shè)有第三凸透鏡L3和相位板PP;
所述第一激光光束依次透過第二半波片H2和第一凸透鏡L1后,進入所述晶體光纖C,激發(fā)所述晶體光纖C輸出激發(fā)光;所述第二半波片H2用于使所述第一激光光束與所述晶體光纖C的偏振性一致,所述第一凸透鏡L1用于將所述第一激光光束聚焦在晶體光纖C上;
所述第二激光光束依次透過所述第三凸透鏡L3和所述相位板PP后,形成環(huán)形的STED光;所述第三凸透鏡L3用于對所述第二激光光束擴束;
所述激發(fā)光和所述STED光經(jīng)反光鏡重疊為同軸光線后進入第三光路,所述第三光路的末端設(shè)有載物臺;
所述熒光探測器A用于經(jīng)第四光路探測位于載物臺上熒光樣品發(fā)出的熒光。
其中,飛秒激光器T為飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器,所述晶體光纖C可以在飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器發(fā)射光譜范圍內(nèi)連續(xù)激發(fā),當(dāng)激發(fā)光能量較小時,發(fā)射光譜范圍較窄,但是當(dāng)激發(fā)光能量大于100毫瓦時可產(chǎn)生超連續(xù)光譜。
飛秒激光器T發(fā)出的激光透過所述偏振分光棱鏡B后分為第一激光光束和第二激光光束。所述晶體光纖C能夠被任意波長的激光激發(fā),因此改變飛秒激光器T發(fā)出的激光的波長,即改變STED光的波長,但并不會對激發(fā)光造成太大影響。而且由于STED光和激發(fā)光都來源于初始的激光光束,因此他們的脈沖頻率從本質(zhì)上是同步的,無需使用額外的電子元器件。
進入晶體光纖C的激光能量會影響激發(fā)光的光譜范圍,通過調(diào)節(jié)第一激光束的激光能量,獲得具有超連續(xù)光譜的激發(fā)光,能夠使多種熒光樣品發(fā)光。
因此,本發(fā)明提供的受激輻射損耗顯微裝置,能夠連續(xù)調(diào)節(jié)激發(fā)光和STED光的波長,從而適用于多種熒光材料。
進一步地,所述第一光路和/或所述第二光路中還設(shè)有光程調(diào)節(jié)器。
進一步地,所述飛秒激光器T和所述偏振分光棱鏡B之間設(shè)有第一半波片H1,用于調(diào)節(jié)初始激光光束進入分光棱鏡的能量。
進一步地,所述第一光路中,位于所述晶體光纖C后方,還依次設(shè)有第二凸透鏡L2、第一起偏鏡P1和第三半波片H3。從晶體光纖C出來的激發(fā)光是發(fā)散光譜,經(jīng)過第二凸透鏡L2L2變?yōu)槠叫泄?,然后進過濾鏡F1、反射鏡M2和雙色鏡D1后與經(jīng)凸透鏡L3擴束和相位板PP調(diào)控的STED光重疊為同軸光線。然后通過D2將激發(fā)光和STED光發(fā)射到物鏡O,聚焦于樣品上。
進一步地,所述第二光路中設(shè)有脈沖拉寬裝置,所述脈沖拉寬裝置設(shè)于所述相位板PP的前方。本實施例中使用的STED光是飛秒激光,因此為了達到更好的退激發(fā)效果,需要把脈沖寬度拉寬到200到300皮秒。本實施例中,脈沖拉寬裝置裝置使用30厘米長的高折射率玻璃棒G和100米長的保偏單模光纖R,高折射率玻璃棒G將脈沖寬度先拉寬到皮秒級,之后將STED光導(dǎo)入100米長的保偏單模光纖R進一步拉寬到300皮秒左右。
進一步地,所述第二光路中還設(shè)有位于所述相位板PP前方的第二起偏鏡P2。
其中,所述第一光路中設(shè)有第一濾鏡F1和第一四分之一玻片Q1,第四光路設(shè)有第二濾鏡F2和第二四分之一玻片Q2,第三光路中設(shè)置有第四半波片H4。
本實施例提供的受激輻射損耗顯微裝置的工作原理如下:從飛秒摻鈦藍(lán)寶石激光器T中出來的激光被偏振分光棱鏡B分為相互垂直的第一激光光束和第二激光光束,兩束光的能量可由第一半波片H1來調(diào)控。第一激光光束通過第一反射鏡M1和第一凸透鏡L1聚焦到晶體光纖C的中心,然后通過調(diào)節(jié)第二半波片H2來調(diào)整第一激光光束的偏振性使其與晶體光纖C的偏振性一致,仔細(xì)調(diào)節(jié)偏振分光棱鏡B、第一反射鏡M1和第二半波片H2的角度以及第一凸透鏡L1的位置得到超連續(xù)發(fā)射光譜作為本實施例的激發(fā)光。
為了避免高能量脈沖激光在晶體光纖C內(nèi)產(chǎn)生非線性效應(yīng),需將第二激光光束先通過高折射率脈沖拉寬玻璃棒G拉寬脈沖后,再導(dǎo)入100米的單模保偏光纖SF,得到脈沖寬度約為300皮秒的激光作為STED光。
從晶體光纖C出來的超連續(xù)光譜是發(fā)散光譜,經(jīng)過第二透鏡L2變?yōu)槠叫泄?,然后?jīng)過第一濾鏡F1、第二反射鏡M2和第一雙色鏡D1后與經(jīng)第三凸透鏡L3擴束和相位板PP調(diào)控的STED光重疊為同軸光線;然后通過第二雙色鏡D2將激發(fā)光和STED光發(fā)射到物鏡O,聚焦于熒光樣品上。
熒光樣品發(fā)出的熒光經(jīng)過物鏡O后變?yōu)槠叫泄?,通過第二濾鏡Q2和第二雙色鏡D2后,由第三反光鏡M3反射和第四凸透鏡L4聚焦,導(dǎo)入多模光纖MF,本實施例中,多模光纖MF的直徑為50微米,相當(dāng)于共聚焦顯微鏡中的光孔,可以分離背景光或非焦點位置發(fā)出的熒光。最后得到的熒光由光子探測器A采集。
通過選擇合適的第一濾鏡F1、第二濾鏡F2、第一雙色鏡D1和第二雙色鏡D2,即可實現(xiàn)激發(fā)光和STED光波長連續(xù)可調(diào)。
本實施例中,激發(fā)光的偏振性通過第一起偏鏡P1、第三半波片H3和第一四分之一玻片Q1調(diào)節(jié),可使用線偏振光或圓偏振光來激發(fā)樣品。為了更好的實現(xiàn)相位板PP相位調(diào)控STED光,則需要使用第二起偏鏡P2、第四半波片H4和第二四分之一玻片Q2調(diào)節(jié)為圓偏振光。
激發(fā)光和STED光為頻率的80MHz脈沖激光,為了使激發(fā)光和STED脈沖同時到達樣品,設(shè)置光程調(diào)節(jié)軌道R來調(diào)節(jié)兩束光的光程差。光程調(diào)節(jié)軌道R可以放置在STED光路上也可以放置于激發(fā)光光路上,本實施例中,設(shè)置在第二光路中。由于激光在光纖中的傳播速度約為20cm/ns,在空氣中的傳播速度為30cm/ns,因此可以通過改變光纖的長度或激光在空氣中的光程來使激發(fā)光和STED光脈沖同時到達樣品。
圖4為本實施例受激輻射損耗顯微裝置的成像示意圖,其中左圖為傳統(tǒng)的共聚焦顯微鏡測試圖,右圖為本實施例提供的受激輻射損耗顯微裝置的測試圖。采用本實施例提供的受激輻射損耗顯微裝置,其中第一濾鏡F1為633/10窄帶濾光鏡,第一雙色鏡D1為650SPXR雙色鏡,第二雙色鏡D2為750SP,第二濾鏡F2為680/70寬帶濾光鏡,STED波長選為770納米,樣品使用大小為20納米的熒光顆粒。在STED光能量為240毫瓦時,分辨率可達到53納米。圖中標(biāo)尺為1微米。
本發(fā)明無需使用額外的激光即可實現(xiàn)雙色或多色受激發(fā)射損耗顯微術(shù)。如圖5所示,實施例三中,從晶體光纖C中出來的超連續(xù)光譜先用第三雙色鏡D3分為兩個波段的光譜,分別進入第一子光路和第二子光路,然后再分別使用第一子光路中設(shè)置的第一濾鏡F1和第二子光路中設(shè)置的第三濾鏡F3選取合適的激發(fā)波長。第二子光路中的激發(fā)光經(jīng)第二反射鏡M2和第四雙色鏡D4反射后,與第一子光路中的激發(fā)光和第二光路中的STED光重疊成同軸光束,它的偏振性可由第三起偏鏡P3、第五半波片H5和第三四分之一玻片Q3調(diào)節(jié)。樣品的熒光穿過第二四分之一玻片Q2、第二雙色鏡D2和第四雙色鏡D4,由第三反射鏡M3發(fā)射到第五雙色鏡D5上,D5可將按不同的激發(fā)類別,將熒光分為兩部分一部分經(jīng)第二濾鏡F2、第四凸透鏡L4、第一多模光纖MF1后,由第一探測器A1采集,另一部分經(jīng)第四濾鏡F4、第五凸透鏡L5、第二多模光纖MF2后,由第二探測器A2采集。
對于不同的發(fā)光材料可以通過選擇合適的雙色鏡和濾鏡來達到最佳效果。
在本申請的描述中,需要理解的是,術(shù)語“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“水平”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
此外,術(shù)語“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。在本發(fā)明的描述中,“多個”的含義是兩個以上,除非另有明確具體的限定。
本發(fā)明的說明書中,說明了大量具體細(xì)節(jié)。然而,能夠理解,本發(fā)明的實施例可以在沒有這些具體細(xì)節(jié)的情況下實踐。在一些實例中,并未詳細(xì)示出公知的方法、結(jié)構(gòu)和技術(shù),以便不模糊對本說明書的理解。
在本說明書的描述中,具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。此外,在不相互矛盾的情況下,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以將本說明書中描述的不同實施例或示例以及不同實施例或示例的特征進行結(jié)合和組合。
最后應(yīng)說明的是:以上各實施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案,而非對其限制;盡管參照前述各實施例對本發(fā)明進行了詳細(xì)的說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進行修改,或者對其中部分或者全部技術(shù)特征進行等同替換;而這些修改或者替換,并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實施例技術(shù)方案的范圍,其均應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的權(quán)利要求和說明書的范圍當(dāng)中。