專利名稱：廢氣處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對從鍋爐等排出的廢氣中所含有的汞進行氧化處理的廢氣處理裝置。
背景技術(shù)：
在燃煤廢氣或燃燒重質(zhì)油時產(chǎn)生的廢氣中，除了含有煤塵、硫氧化物(SOx)、氮氧化物(NOx)以外，有時還含有金屬汞(Hg°)。近年來，對于將還原NOx的脫硝裝置、及將堿吸收液作為SOx吸收劑的濕式脫硫裝置組合而處理該金屬汞的方法或裝置提出了各種方案。作為處理廢氣中的金屬汞的方法，提出了如下系統(tǒng)在煙道中、在高溫的脫硝裝置的上游側(cè)，噴出霧狀氨(NH3)溶液并進行還原脫硝，并且噴出霧狀鹽酸(HCl)溶液等氧化助齊IJ，在脫硝催化劑上使汞氧化(氯化)，在形成水溶性的氯化汞之后，通過設(shè)置在下游側(cè)的濕式的脫硫裝置而除去汞(例如，參照專利文獻1)。此外，作為供給HCl的方法具有如下方法使用氯化氫(HCl)氣化器將鹽酸(HCl) 溶液氣化，形成氯化氫(HCl)氣體，在調(diào)整為包含規(guī)定濃度的HCl的混合氣體之后，使混合氣體分散到煙道內(nèi)，向含有汞的廢氣中均勻地噴霧(例如，參照專利文獻2)。此外，作為其它供給HCl的方法具有如下的方法在脫硝裝置的上游側(cè)的煙道內(nèi)添加粉體狀的氯化氨(NH4Cl),利用廢氣的高溫氣氛溫度使NH4Cl升華，并分別使HC1、氨 (NH3)氣化，將氣化后的HCl氣體、NH3氣體混合到廢氣中(例如，參照專利文獻3)。在如上述的處理廢氣中的金屬汞的方法中，在使用鹽酸溶液的情況下，由于鹽酸是危險物，因此存在輸送、處置等需要花費時間及成本的問題。此外，在使用HCl氣化器的情況下，作為熱源需要蒸汽等，且存在HCl氣化器等設(shè)備、運轉(zhuǎn)、維護等需要費用的問題。進而，在使用NH4Cl粉末的情況下，需要減小粒徑使其分散，因此存在處理困難、噴霧量的控制不容易的問題。專利文獻專利文獻1特開平10-230137號公報專利文獻2特開2007-167743號公報專利文獻3特開2008-221087號公報因此，近年來，為了利用脫硝催化劑使Hg°氧化，研究在脫硝裝置的上游側(cè)噴出霧狀氯化氨(NH4Cl)溶液的方法。如以往那樣，與使用鹽酸溶液的方法相比，NH4Cl溶液的危險性小，因此輸送、處置容易，并且不需要用于噴出霧狀液體的氣化器等設(shè)備，成本得以降低。圖34表示從鍋爐排出的廢氣的廢氣處理系統(tǒng)的示意圖。如圖34所示，廢氣處理系統(tǒng)100具備=NH4Cl噴霧裝置105、還原脫硝裝置106和脫硫裝置107，所述NH4Cl噴霧裝置105向從鍋爐101排出的含有NOx、Hg0的廢氣102，將NH4Cl溶液103向煙道104內(nèi)噴霧，且所述鍋爐中供給煤作為燃料，所述還原脫硝裝置106具備還原NOx并且將Hg°氧化的脫硝催化劑，所述脫硫裝置107將廢氣102中被氧化后的HgCl除去。利用噴霧噴嘴109，從 NH4Cl溶液罐108將NH4Cl溶液103向從鍋爐101排出的廢氣102中噴霧，NH4Cl溶液103 氣化，NH3氣體、HCl氣體與廢氣102混合。然后，廢氣102供給到還原脫硝裝置106，利用還原脫硝裝置106內(nèi)的脫硝催化劑進行NOx的還原，并將Hg°氧化。然后，除去NOx后的廢氣102在空氣預(yù)熱器(空氣加熱器)110中與空氣111熱交換并熱回收，之后，供給到電集塵器112，除去熱回收后的廢氣102中的煤塵。廢氣102供給到脫硫裝置107，并與供給到脫硫裝置107的石膏石漿料113氣液接觸，除去S0x、Hg，并作為凈化氣體114從煙囪115排出到外部。此外，利用在煙道104內(nèi)的還原脫硝裝置106的上游側(cè)設(shè)置的NOx測定計116來測定廢氣102中的NOx濃度，并利用在脫硫裝置107的下游側(cè)設(shè)置的Hg濃度計117來測定 Hg的濃度。根據(jù)測定得到的NOx濃度、Hg濃度的測定值，利用運算部118算出從NH4Cl溶液罐108供給的NH4Cl溶液103的供給量、濃度。根據(jù)算出的NH4Cl溶液103的供給量、濃度，利用控制機構(gòu)119來控制向煙道104內(nèi)供給的NH4Cl溶液103的供給量。此外，利用在脫硫裝置107的塔底部設(shè)置的氧化還原電位測定裝置120來測定氧化還原電位，并調(diào)整空氣121的供給量，防止氧化汞的還原和擴散。如此，通過向廢氣102中供給NH4Cl溶液103，能夠除去廢氣102中的NOx，并將Hg 氧化。在此，在圖34所示的廢氣處理系統(tǒng)100中，在將NH4Cl溶液103噴霧時，若NH4Cl溶液103在氣化之前附著在煙道104的壁面或煙道104中的構(gòu)造物上，則有可能產(chǎn)生腐蝕、灰的堆積、熱沖擊所導(dǎo)致的破損等。因此，如圖35所示，噴霧噴嘴109需要設(shè)置在距煙道104 的壁面的端部離開一定距離的位置上。但是，若使噴霧噴嘴109從距煙道104壁離開某種程度的位置噴霧，則存在不能使 NH4Cl溶液103均勻地向煙道104內(nèi)噴霧，由NH4Cl溶液103產(chǎn)生的NH3、HC1氣化之后的NH3 濃度變得不均勻，脫硝性能降低的問題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問題，本發(fā)明目的在于提供一種廢氣處理裝置，其沒有濃度不均地向煙道內(nèi)均勻地供給還原劑、汞氯化劑，并能夠維持汞的除去性能、氮氧化物的還原性能。為了解決上述問題，可以采用下述結(jié)構(gòu)。1)本發(fā)明的第1發(fā)明的廢氣處理裝置，其將從鍋爐排出的廢氣中所包含的氮氧化物、汞除去，所述廢氣處理裝置的特征在于，具備還原氧化助劑供給機構(gòu)，其利用噴霧噴嘴向所述鍋爐的下游的煙道內(nèi)以液體狀來噴霧還原氧化助劑，且所述還原氧化助劑在氣化時生成氧化性氣體和還原性氣體；混合機構(gòu)，其設(shè)置在所述還原氧化助劑氣化的區(qū)域的下游側(cè)，并促進所述還原氧化助劑氣化時所生成的所述氧化性氣體及所述還原性氣體與所述廢氣混合；還原脫硝機構(gòu)，其具有脫硝催化劑，所述脫硝催化劑利用所述還原性氣體將所述廢氣中的氮氧化物還原，并且在所述氧化性氣體共存下將汞氧化；濕式脫硫機構(gòu)，其使用堿吸收液將在所述還原脫硝機構(gòu)中被氧化后的汞除去。2)第2發(fā)明是在第1發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述還原氧化助劑是氯化氨。3)第3發(fā)明是在第1或2發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述混合機構(gòu)是如下單元，即以與所述廢氣的流動方向正交的方式配置多個使所述廢氣產(chǎn)生回旋流的回旋流誘發(fā)部件而成的單兀。4)第4發(fā)明是在第3發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述單元沿所述廢氣的流動方向設(shè)置多級而構(gòu)成所述混合機構(gòu)。5)第5發(fā)明是在第3或4發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述回旋流誘發(fā)部件具有在所述廢氣的入口側(cè)具有相對面的一對第一回旋流誘發(fā)板；在所述廢氣的排出側(cè)具有相對面的一對第二回旋流誘發(fā)板，兩者的相對面錯開地分別連結(jié)于連結(jié)部，該連結(jié)部連結(jié)所述第一回旋流誘發(fā)板和所述第二回旋流誘發(fā)板。6)第6發(fā)明是在第5發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述回旋流誘發(fā)部件的寬度L、高度D在下述式的范圍內(nèi)，MIN (B、H)/10 ≤L ≤MIN (B、H)... (1)MIN(B、H)/10 ≤D ≤5XMIN(B、H)... (2)其中，B是設(shè)置位置處的煙道的剖面的一邊的長度，H是煙道的剖面的另一邊的長度，MIN(B、H)是煙道的剖面的一邊的長度B、煙道的剖面的另一邊的長度H中的任一短邊側(cè)的長度的值。7)第7發(fā)明是在第1或2發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述混合機構(gòu)是擴散回旋板，所述擴散回旋板配設(shè)在所述煙道內(nèi)，且在所述煙道內(nèi)的所述廢氣的氣體流動的上游側(cè)形成為平板狀， 并且隨著朝向所述廢氣的氣體流動的下游側(cè)而形成為波形，且所述混合機構(gòu)形成為隨著朝向所述廢氣的氣體流動的下游側(cè)而使所述波形的振幅變大。8)第8發(fā)明是在第1至7的任一項發(fā)明的基礎(chǔ)上，所述廢氣處理裝置具有設(shè)置在所述還原氧化助劑供給機構(gòu)與所述還原脫硝機構(gòu)之間且向所述煙道中供給氨氣體的氨氣體供給部及/或向所述煙道內(nèi)供給氯化氫氣體的氯化氫氣體供給部。 此外，為了解決上述問題，還可以采用下述結(jié)構(gòu)。9)即，也可使噴霧噴嘴供給所述還原氧化助劑，且不使所述還原氧化助劑附著于所述廢氣流通的煙道的內(nèi)壁。10)也可根據(jù)至少由氣體流速、液滴初速、液滴直徑、廢氣溫度、液滴溫度求得的液滴到蒸發(fā)為止的移動距離1與噴射角度α，將所述噴霧噴嘴配置為，從所述煙道的內(nèi)壁至所述噴霧噴嘴的噴嘴孔的最短距離χ滿足下述式。χ > IXsina …⑶11)也可使所述噴霧噴嘴的噴嘴孔設(shè)置在距所述煙道的壁面0. 5m以上的位置。12)在所述煙道內(nèi)設(shè)有多個噴霧噴嘴的情況下，也可使多個噴霧噴嘴配置為滿足下述式。a ≤ b/5... (4)其中，a為噴霧噴嘴的噴嘴孔的噴嘴孔間距離，b為煙道的剖面的長度中的長邊側(cè)的長度。13)也可使所述噴霧噴嘴具有多個噴霧所述還原氧化助劑的噴嘴孔。14)也可使所述噴霧噴嘴在具有多個噴霧所述還原氧化助劑的噴嘴孔的情況下， 將所述噴嘴孔彼此的間隔設(shè)為0. 3m以下。15)在所述煙道內(nèi)設(shè)有多個所述噴霧噴嘴的情況下，能夠改變從各個所述噴霧噴嘴噴出的噴霧量。16)在所述煙道中，也可在向所述煙道內(nèi)供給所述還原氧化助劑的供給位置的下游側(cè)的所述煙道的內(nèi)壁上設(shè)有突狀部件。
17)在所述煙道中，也可在向所述煙道內(nèi)供給所述還原氧化助劑的供給位置的下游側(cè)設(shè)置使所述煙道內(nèi)的通路縮窄的縮頸部。18)在所述還原脫硝機構(gòu)的上游側(cè)設(shè)置的導(dǎo)流葉片上，設(shè)有促進氣化后的所述氧化性氣體、所述還原性氣體向所述廢氣混合的混合促進輔助部件。19)也可使所述噴霧噴嘴形成為噴射所述還原氧化助劑和噴霧所述還原氧化助劑用的空氣的雙流體噴嘴。20)也可在供給所述還原氧化助劑的供給位置的上游側(cè)設(shè)置測定所述廢氣的流速的流量測定裝置。21) 一種汞除去方法，其將鍋爐排出的廢氣中包含的氮氧化物、汞除去，所述汞除去方法包括以下工序還原氧化助劑供給工序，其利用噴霧噴嘴向所述鍋爐的煙道內(nèi)以液體狀來噴霧還原氧化助劑，且所述還原氧化助劑在氣化時生成氧化性氣體和還原性氣體；混合工序，其在所述還原氧化助劑氣化的區(qū)域的下游側(cè)，促進所述還原氧化助劑氣化時所生成的所述氧化性氣體及所述還原性氣體與所述廢氣混合；還原脫硝工序，其在脫硝催化劑中利用所述還原性氣體將所述廢氣中的氮氧化物還原，并且在所述氧化性氣體共存下將汞氧化；濕式脫硫工序，其使用堿吸收液將在上述還原脫硝工序中被氧化后的汞除去。22)作為所述還原氧化助劑可以使用氯化氨。23)還可以包括流量測定工序，其在供給所述還原氧化助劑的供給位置的上游側(cè)， 測定所述廢氣的流速，并根據(jù)測定的所述廢氣的流速來調(diào)整所述還原氧化助劑的噴霧量、 噴霧角度、噴霧初速度。24)在所述還原脫硝處理工序的前工序側(cè)包括測定所述廢氣中的氮氧化物的濃度的氮氧化物濃度測定工序，在所述還原脫硝處理工序的后工序側(cè)包括測定所述廢氣中的汞的濃度的汞濃度測定工序，根據(jù)由所述氮氧化物濃度測定工序得到的所述廢氣中的氮氧化物的濃度及/或與由所述汞濃度測定工序得到的所述廢氣中的汞的濃度，調(diào)整在所述還原氧化助劑供給工序中供給的所述還原氧化助劑的供給量。25)在所述還原氧化助劑供給工序和所述還原脫硝處理工序之間，包括向所述煙道中供給氨氣體的氨氣體供給工序及/或向所述煙道中供給氯化氫氣體的氯化氫氣體供給工序，并根據(jù)由所述流量測定工序測定得到的所述廢氣的流速，調(diào)整由所述氨氣體供給工序供給的所述氨氣體及/或由所述氯化氫氣體供給工序供給的所述氯化氫氣體的噴霧量、噴霧角度、噴霧初速度。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，通過在還原氧化助劑氣化的區(qū)域的下游側(cè)促進還原氧化助劑氣化時產(chǎn)生的氧化性氣體及還原性氣體與廢氣混合，可以不使氧化性氣體、還原性氣體濃度不均而均勻地向煙道內(nèi)供給。因此，在還原脫硝裝置中具有汞的氧化性能并且能夠維持氮氧化物的還原性能，并且能夠防止熱沖擊導(dǎo)致煙道或煙道內(nèi)構(gòu)造物的破損、腐蝕、廢氣中的灰的堆積等。


圖1是表示本發(fā)明的實施例1涉及的廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖。圖2是表示廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)的一部分的圖。圖3是用于說明從噴霧噴嘴噴霧的NH4Cl溶液相對于煙道的噴射角度的說明圖。圖4是表示NH4Cl溶液供給機構(gòu)的結(jié)構(gòu)的一例的圖。圖5是表示噴霧噴嘴向煙道內(nèi)插入的一例的圖。圖6是表示噴霧噴嘴向煙道內(nèi)插入的另一例的圖。圖7是表示混合器的一例的俯視圖。圖8是構(gòu)成混合器的回旋流誘發(fā)部件的俯視圖。圖9是回旋流誘發(fā)部件的主視圖。圖10是回旋流誘發(fā)部件的立體圖。圖11是示意性地表示將混合器設(shè)置在煙道內(nèi)時的廢氣的氣體流動的圖。圖12是圖11的局部放大圖。圖13是示意性地表示在煙道內(nèi)未設(shè)置混合器時的廢氣中的NH3氣體的濃度分布的一例的圖。圖14是示意性地表示在煙道內(nèi)設(shè)有混合器時的廢氣中的NH3氣體的濃度分布的一例的圖。圖15是表示混合器的壓損與混合器的尺寸的關(guān)系的圖。圖16是表示從廢氣的流動方向觀察本發(fā)明的實施例2涉及的廢氣處理裝置的煙道時的剖面的圖。圖17是表示從廢氣的流動方向觀察本發(fā)明的實施例3涉及的廢氣處理裝置的煙道時的剖面的圖。圖18是簡略地表示噴霧噴嘴的結(jié)構(gòu)的圖。圖19是噴霧噴嘴的局部放大圖。圖20是表示從廢氣的流動方向觀察本發(fā)明的實施例4涉及的廢氣處理裝置的煙道時的剖面的圖。圖21是從本發(fā)明的實施例5涉及的廢氣處理裝置的煙道的短邊方向觀察時的圖。圖22是從煙道的長邊方向觀察時的圖。圖23是從本發(fā)明的實施例6涉及的廢氣處理裝置的煙道的短邊方向觀察時的圖。圖M是從煙道的長邊方向觀察時的圖。圖25是從煙道的短邊方向觀察時的圖。圖沈是從煙道的長邊方向觀察時的圖。圖27是表示本發(fā)明的實施例7涉及的廢氣處理裝置的一部分的圖。圖28是表示圖27中的符號Z的局部放大立體圖。圖四是表示本發(fā)明的實施例8涉及的廢氣處理裝置的煙道內(nèi)的擴散回旋板的示意圖。圖30是簡略地表示圖四中的A-A剖面的圖。圖31是擴散回旋板的立體示意圖。圖32是表示另一擴散回旋板的設(shè)置狀態(tài)的圖。圖33是簡略地表示本發(fā)明的實施例9涉及的廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)的圖。
圖34是表示從鍋爐排出的廢氣的廢氣處理系統(tǒng)的示意圖。圖35是表示從煙道的廢氣的流動方向觀察時的噴霧噴嘴的配置的圖。
具體實施例方式以下，參照附圖對本發(fā)明詳細地說明。另外，本發(fā)明并非由下述實施例限定。此外， 對于下述實施例中的結(jié)構(gòu)要素，包括本領(lǐng)域技術(shù)人員容易想到或者實質(zhì)上相同的結(jié)構(gòu)。實施例1參照附圖，對本發(fā)明的實施例1涉及的廢氣處理裝置進行說明。圖1是表示本發(fā)明的實施例1涉及的廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)的示意圖，圖2是表示廢氣處理裝置的結(jié)構(gòu)的一部分的圖。如圖1、2所示，本實施例涉及的廢氣處理裝置10是將來自鍋爐11的廢氣12中包含的氮氧化物(NOx)、汞(Hg)除去的廢氣處理裝置，在鍋爐11的下游的煙道13內(nèi)，包括 氯化氨(NH4Cl)溶液供給機構(gòu)(還原氧化助劑供給機構(gòu))16、混合器(混合機構(gòu))17、還原脫硝裝置(還原脫硝機構(gòu))18、熱交換器(空氣加熱器)19、集塵器20、濕式脫硫裝置22，其中所述氯化氨溶液供給機構(gòu)利用噴霧噴嘴15將作為還原氧化助劑的包含氯化氨(NH4Cl)的氯化氨(NH4Cl)溶液14以液體狀噴霧，所述混合器設(shè)置在NH4Cl氣化的區(qū)域的下游側(cè)，且促進NH4Cl氣化時生成的作為氧化性氣體的氯化氫(HCl)氣體及作為還原性氣體的氨(NH3) 氣體與廢氣12混合，所述還原脫硝裝置利用NH3氣體來還原廢氣12中的NOx，并且具有在 HCl氣體共存下使Hg氧化的脫硝催化劑，所述熱交換器對脫硝后的廢氣12進行熱交換，所述集塵器將脫硝后的廢氣12中的煤塵除去，所述濕式脫硫裝置使用石灰石膏漿料21作為堿吸收液而將在還原脫硝裝置18中被氧化后的Hg除去。另外，在本實施例涉及的廢氣處理裝置10中，作為還原氧化助劑使用NH4Cl,但本發(fā)明并不限定于此，還原氧化助劑只要是在氣化時生成氧化性氣體和還原性氣體的助劑即
可使用。此外，在本發(fā)明中，還原氧化助劑是指作為在氧化性氣體共存下用于將汞(Hg)氧化的氧化助劑和利用還原性氣體將NOx還原的還原劑發(fā)揮作用的助劑。在本實施例中，作為氧化性氣體使用HCl氣體，作為還原性氣體使用NH3氣體。從NH4Cl溶液供給機構(gòu)16向從鍋爐11排出的廢氣12供給NH4Cl溶液14。NH4Cl 溶液供給機構(gòu)16包括噴霧噴嘴15。噴霧噴嘴15具有將NH4Cl溶液14以液體狀向煙道 13內(nèi)供給的氯化氨(NH4Cl)溶液供給管25、將空氣沈向煙道13內(nèi)供給的空氣供給管27， 所述空氣將NH4Cl溶液14壓縮并向煙道13內(nèi)噴霧，且噴霧噴嘴15由雙流體噴嘴構(gòu)成。噴霧噴嘴15中，在NH4Cl溶液供給管25及空氣供給管27的前端部具有用于同時噴射NH4Cl 溶液14及空氣沈的噴嘴孔。在氯化氨(NH4Cl)溶液罐觀內(nèi)，將NH4Cl溶液14調(diào)整為規(guī)定濃度。此外，從NH4Cl 溶液供給管25供給的NH4Cl溶液14的流量通過閥Vl來調(diào)整。NH4Cl溶液14從NH4Cl溶液罐28通過NH4Cl溶液供給管25內(nèi)并從噴霧噴嘴15向煙道13內(nèi)噴霧。NH4Cl溶液供給機構(gòu)16將噴霧噴嘴15配置為，NH4Cl溶液14以不附著在廢氣12 流通的煙道13的內(nèi)壁13a上的方式進行供給。作為不使NH4Cl溶液14附著在廢氣12流通的煙道13的內(nèi)壁13a上的方式進行供給的配置，優(yōu)選噴霧噴嘴15在煙道13內(nèi)距煙道13的內(nèi)壁13a—定以上的距離而配置的構(gòu)造。一定以上的距離是指，噴霧的NH4Cl溶液14的液滴從噴霧噴嘴15的噴嘴孔至到達煙道13的內(nèi)壁13a之前氣化所需的足夠的距離。若考慮實際的煙道尺寸、實際的處理條件，則噴霧噴嘴15的噴嘴孔優(yōu)選設(shè)置在例如距煙道13的壁面0. 5m以上的位置。如以下所示，噴霧噴嘴15的噴嘴孔的位置設(shè)為距煙道13的壁面0. 5m以上的位置是由于需要考慮廢氣12的氣體流速、從噴霧噴嘴15噴霧的NH4Cl溶液14的液滴初速、 液滴直徑、從噴霧噴嘴15噴霧的NH4Cl溶液14相對于煙道13的噴射角度、廢氣12的廢氣溫度、NH4Cl溶液14的液滴溫度等。作為其一例，例如可以如下確定。S卩、在煙道13內(nèi)的廢氣12的氣體流速為15m/s左右、從噴霧噴嘴15噴霧的NH4Cl 溶液14的液滴初速為300m/s左右、廢氣12的氣體溫度為350°C左右、NH4Cl溶液14的液滴溫度為20°C左右的情況下，根據(jù)NH4Cl溶液14的液滴直徑，推定的NH4Cl溶液14的液滴從噴霧至蒸發(fā)為止的時間、和NH4Cl溶液14的液滴至蒸發(fā)為止的移動距離不同。表1表示NH4Cl溶液14的液滴直徑、液滴從噴霧至蒸發(fā)為止的時間、液滴至蒸發(fā)為止的移動距離的關(guān)系的一例。表1中，t表示NH4Cl溶液14的液滴從噴霧至蒸發(fā)為止的時間，1表示液滴至蒸發(fā)為止的移動距離。表1
權(quán)利要求
1.一種廢氣處理裝置，其將從鍋爐排出的廢氣中所包含的氮氧化物、汞除去，所述廢氣處理裝置的特征在于，具備還原氧化助劑供給機構(gòu)，其利用噴霧噴嘴向所述鍋爐的下游的煙道內(nèi)以液體狀來噴霧還原氧化助劑，且所述還原氧化助劑在氣化時生成氧化性氣體和還原性氣體；混合機構(gòu)，其設(shè)置在所述還原氧化助劑氣化的區(qū)域的下游側(cè)，并促進所述還原氧化助劑氣化時所生成的所述氧化性氣體及所述還原性氣體與所述廢氣的混合；還原脫硝機構(gòu)，其具有脫硝催化劑，所述脫硝催化劑利用所述還原性氣體將所述廢氣中的氮氧化物還原，并且在所述氧化性氣體共存下將汞氧化；濕式脫硫機構(gòu)，其使用堿吸收液將在所述還原脫硝機構(gòu)中被氧化后的汞除去。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的廢氣處理裝置，其特征在于， 所述還原氧化助劑是氯化氨。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述混合機構(gòu)是如下單元，即以與所述廢氣的流動方向正交的方式配置多個使所述廢氣產(chǎn)生回旋流的回旋流誘發(fā)部件而成的單元。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的廢氣處理裝置，其特征在于， 所述混合機構(gòu)中沿所述廢氣的流動方向多級設(shè)置所述單元。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的廢氣處理裝置，其特征在于， 所述回旋流誘發(fā)部件具有在所述廢氣的入口側(cè)具有相對面的一對第一回旋流誘發(fā)板； 在所述廢氣的排出側(cè)具有相對面的一對第二回旋流誘發(fā)板，其中，使兩者的相對面錯開地分別連結(jié)于連結(jié)部，該連結(jié)部連結(jié)所述第一回旋流誘發(fā)板和所述第二回旋流誘發(fā)板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的廢氣處理裝置，其特征在于， 所述回旋流誘發(fā)部件的寬度L、高度D在下述式的范圍內(nèi)， MIN(B、H)/10 彡 L 彡 MIN(B、H)·.. (1)MIN(B、H)/10 彡 D 彡 5XMIN(B、H)... (2)其中，B是設(shè)置位置處的煙道的剖面的一邊的長度，H是煙道的剖面的另一邊的長度， MIN(B, H)是煙道的剖面的一邊的長度B、煙道的剖面的另一邊的長度H中的任一短邊側(cè)的長度的值。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的廢氣處理裝置，其特征在于，所述混合機構(gòu)是擴散回旋板，所述擴散回旋板配設(shè)在所述煙道內(nèi)，且在所述煙道內(nèi)的所述廢氣的氣體流動的上游側(cè)形成為平板狀，并且隨著朝向所述廢氣的氣體流動的下游側(cè)而形成為波形，且所述混合機構(gòu)形成為隨著朝向所述廢氣的氣體流動的下游側(cè)而使所述波形的振幅變大。
8.根據(jù)權(quán)利要求1 7中任一項所述的廢氣處理裝置，其特征在于，還具有設(shè)置在所述還原氧化助劑供給機構(gòu)與所述還原脫硝機構(gòu)之間且向所述煙道中供給氨氣體的氨氣體供給部及/或向所述煙道內(nèi)供給氯化氫氣體的氯化氫氣體供給部。
全文摘要
本發(fā)明提供一種廢氣處理裝置(10)是對來自鍋爐(11)的廢氣(12)中所包含的NOx、Hg進行除去的廢氣處理裝置，在鍋爐(11)的下游的煙道(13)內(nèi)具有NH4Cl溶液供給機構(gòu)(16)，其利用噴霧噴嘴(15)來噴霧NH4Cl溶液(14)；混合器(17)，其設(shè)置在NH4Cl氣化的區(qū)域的下游側(cè)，并促進NH4Cl氣化所生成的HCl、NH3與廢氣(12)混合；還原脫硝裝置(18)，其具有脫硝催化劑，該脫硝催化劑利用NH3將廢氣(12)中的NOx還原，并且在HCl共存下將Hg氧化；濕式脫硫裝置(22)，其使用石灰石膏漿料(21)將在還原脫硝裝置(18)中被氧化后的Hg除去。
文檔編號B01D53/64GK102470319SQ20108003444
公開日2012年5月23日 申請日期2010年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月5日
發(fā)明者串岡清則, 四條利久磨, 坂田展康, 村上盛紀, 鵜飼展行 申請人:三菱重工業(yè)株式會社