1.一種高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，將傳統(tǒng)光刻工藝中較高溫度的堅(jiān)膜過程替換為使用低于光刻膠玻璃化轉(zhuǎn)變溫度的低溫真空?qǐng)?jiān)膜方法，所述低溫真空?qǐng)?jiān)膜方法的工藝參數(shù)為：堅(jiān)膜溫度為30-80℃，堅(jiān)膜時(shí)間為30min-120min，真空度為0.02-10Pa。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，不同光刻膠因其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度不同，所述真空?qǐng)?jiān)膜溫度也不同，具體工藝中可根據(jù)光刻膠的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度選擇低于該溫度的合適堅(jiān)膜溫度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高精度光刻膠面形控制方法，其特征在于，通過所述低溫真空?qǐng)?jiān)膜方法，堅(jiān)膜前后面形變化小于5％，刻蝕前后面形的變化小于5％，光刻膠刻蝕比與同等刻蝕條件下的傳統(tǒng)光刻工藝相同或有所提高。