本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤指一種掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法。
背景技術(shù):
薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,TFT-LCD)是目前常用的平板顯示器,TFT-LCD顯示器以其低電壓、低功耗、適宜于電路集成以及輕巧便捷等優(yōu)點(diǎn)而受到廣泛的研究與應(yīng)用。在陣列基板的制造工藝中,不同膜層之間的對(duì)合精度是工藝管控的關(guān)鍵參數(shù),對(duì)合精度是否滿足要求直接決定著顯示器顯示的畫(huà)面質(zhì)量。
現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)位標(biāo)記的測(cè)試方式為:獲取兩個(gè)膜層的對(duì)位標(biāo)記的圖形,通過(guò)測(cè)試設(shè)備抓取對(duì)位標(biāo)記圖形的邊界信號(hào),然后根據(jù)邊界信號(hào)通過(guò)計(jì)算得到對(duì)位數(shù)據(jù),再根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)調(diào)整膜層的位置。但是,如果對(duì)位標(biāo)記的圖形邊緣不清楚,測(cè)試設(shè)備抓取的邊界信號(hào)容易出錯(cuò),從而容易導(dǎo)致誤測(cè),在實(shí)際對(duì)合成功的情況下,而對(duì)位數(shù)據(jù)并不達(dá)標(biāo),因此出現(xiàn)管控?cái)?shù)據(jù)不能反映真實(shí)情況的現(xiàn)象,需要返回重測(cè)或手動(dòng)測(cè)試,浪費(fèi)人力物力。
因此,如何更容易且更準(zhǔn)確的獲得對(duì)位數(shù)據(jù)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法,用以解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于對(duì)位標(biāo)記圖形邊緣不清楚,導(dǎo)致的對(duì)位數(shù)據(jù)容易出現(xiàn)誤測(cè)的問(wèn)題。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板,包括:基板,以及位于所述基板上的對(duì)位區(qū)域;其中,
所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記和對(duì)位標(biāo)尺;
所述第一對(duì)位標(biāo)記的圖形與將要對(duì)位的膜層上的第二對(duì)位標(biāo)記的圖形相匹配;
所述對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)所述第一對(duì)位標(biāo)記與所述第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板中,所述第一對(duì)位標(biāo)記的尺寸大于所述第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
所述對(duì)位標(biāo)尺包括:位于所述第一對(duì)位標(biāo)記的圖形內(nèi)部的水平標(biāo)尺和豎直標(biāo)尺。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板中,所述水平標(biāo)尺和所述豎直標(biāo)尺與所述第一對(duì)位標(biāo)記的幾何中心的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板中,所述第一對(duì)位標(biāo)記的尺寸小于所述第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
所述對(duì)位標(biāo)尺包括:經(jīng)過(guò)所述第一對(duì)位標(biāo)記的圖形或位于所述第一對(duì)位標(biāo)記的圖形的邊緣的水平標(biāo)尺和豎直標(biāo)尺;
所述水平標(biāo)尺的長(zhǎng)度大于所述第二對(duì)位標(biāo)記在水平方向上的長(zhǎng)度,所述豎直標(biāo)尺的長(zhǎng)度大于所述第二對(duì)位標(biāo)記在豎直方向上的長(zhǎng)度。
在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中,在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板中,所述對(duì)位標(biāo)尺的最小刻度的寬度范圍為3μm-7μm。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種對(duì)位方法,包括:
采用上述掩模板在襯底基板上制作第一膜層;
在制作所述第一膜層之上的第二膜層時(shí),根據(jù)所述第一膜層上的對(duì)位標(biāo)尺得到對(duì)位數(shù)據(jù);
根據(jù)所述對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)制作所述第二膜層的掩模板。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了另一種對(duì)位方法,包括:
在襯底基板上制作第一膜層;
采用上述掩模板在所述第一膜層之上制作第二膜層,并根據(jù)所述掩模板上的對(duì)位標(biāo)尺得到對(duì)位數(shù)據(jù);
根據(jù)所述對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)所述掩模板。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板,包括:襯底基板,以及位于所述襯底基板上的對(duì)位區(qū)域;其中,
所述對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記和對(duì)位標(biāo)尺;
所述第一對(duì)位標(biāo)記的圖形與將要對(duì)位的對(duì)向基板上的第二對(duì)位標(biāo)記的圖形相匹配;
所述對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)所述第一對(duì)位標(biāo)記與所述第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置,包括上述顯示面板。
本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種上述顯示裝置的對(duì)盒方法,包括:
在對(duì)盒過(guò)程中,根據(jù)顯示面板上的對(duì)位標(biāo)尺,確定對(duì)位數(shù)據(jù);
根據(jù)所述對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)所述顯示面板和/或所述顯示面板的對(duì)向基板。
本發(fā)明有益效果如下:
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法,該掩模板包括:基板,以及位于基板上的對(duì)位區(qū)域;其中,對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記和對(duì)位標(biāo)尺;第一對(duì)位標(biāo)記的圖形與將要對(duì)位的膜層上的第二對(duì)位標(biāo)記的圖形相匹配;對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記與第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域。本發(fā)明實(shí)施例提供的掩模板,通過(guò)在對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置對(duì)位標(biāo)尺,且該對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記與第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,這樣在對(duì)位過(guò)程中,可以準(zhǔn)確的讀取第一對(duì)位標(biāo)記和第二對(duì)位標(biāo)記之間的對(duì)位數(shù)據(jù),避免由于對(duì)位標(biāo)記邊緣不清楚,造成對(duì)位數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,導(dǎo)致對(duì)位失敗的情況。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖之一;
圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖之二;
圖3為本發(fā)明實(shí)施例的一種對(duì)位方法的流程圖之一;
圖4為本發(fā)明實(shí)施例的一種對(duì)位方法的流程圖之二;
圖5為本發(fā)明實(shí)施例的一種對(duì)盒方法的流程圖;
其中,11表示對(duì)位區(qū)域;12表示第一對(duì)位標(biāo)記;13表示第二對(duì)位標(biāo)記;14表示對(duì)位標(biāo)尺;141表示水平標(biāo)尺;142表示豎直標(biāo)尺。
具體實(shí)施方式
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的由于對(duì)位標(biāo)記圖形邊緣不清楚,導(dǎo)致的對(duì)位數(shù)據(jù)容易出現(xiàn)誤測(cè)的問(wèn)題,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法。
下面結(jié)合附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例提供的掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法的具體實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說(shuō)明。附圖中各結(jié)構(gòu)的大小和形狀不反映真實(shí)比例,目的只是示意說(shuō)明本發(fā)明內(nèi)容。
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩模板,如圖1所示,包括:基板,以及位于基板上的對(duì)位區(qū)域11;其中,
對(duì)位區(qū)域11內(nèi)設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記12和對(duì)位標(biāo)尺14;
第一對(duì)位標(biāo)記12的圖形與將要對(duì)位的膜層上的第二對(duì)位標(biāo)記13的圖形相匹配;
對(duì)位標(biāo)尺14經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12與第二對(duì)位標(biāo)記13相對(duì)應(yīng)的區(qū)域。
本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板,通過(guò)在對(duì)位區(qū)域11內(nèi)設(shè)置對(duì)位標(biāo)尺14,且該對(duì)位標(biāo)尺14經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12與第二對(duì)位標(biāo)記13相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,這樣在對(duì)位過(guò)程中,可以準(zhǔn)確的讀取第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13之間的對(duì)位數(shù)據(jù),避免由于對(duì)位標(biāo)記邊緣不清楚,造成對(duì)位數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,導(dǎo)致對(duì)位失敗的情況。
參照?qǐng)D1,為了更清楚的示意對(duì)位區(qū)域11中的圖形,省略了基板的圖形,在具體實(shí)施時(shí),對(duì)位區(qū)域11可以設(shè)置在基板的非顯示區(qū)域,或?qū)?yīng)于黑矩陣的位置,以免對(duì)制作出的顯示裝置的顯示畫(huà)面造成影響。圖中虛線框表示第二對(duì)位標(biāo)記13,第二對(duì)位標(biāo)記13為將要與第一對(duì)位標(biāo)記12進(jìn)行對(duì)位的膜層上的對(duì)位標(biāo)記,圖1中的三個(gè)第二對(duì)位標(biāo)記13可以是同一膜層的對(duì)位標(biāo)記,也可以是不同膜層的對(duì)位標(biāo)記。第一對(duì)位標(biāo)記12與第二對(duì)位標(biāo)記13的圖形相匹配,指的是第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13的圖形一般形狀相同,且各個(gè)邊長(zhǎng)的比例相同,即第二對(duì)位標(biāo)記13的圖形為第一對(duì)位標(biāo)記12的圖形縮小或擴(kuò)大一定的倍數(shù)得到的圖形,例如第一對(duì)位標(biāo)記12的形狀為正方形,邊長(zhǎng)為100μm,則第二對(duì)位標(biāo)記13的形狀也應(yīng)該是正方形,第二對(duì)位標(biāo)記13的邊長(zhǎng)可以設(shè)為50μm、60μm或70μm等數(shù)值,在實(shí)際應(yīng)用中,第一對(duì)位標(biāo)記12的邊長(zhǎng)可以在60μm-140μm之間,優(yōu)選為100μm。
圖1中以對(duì)位區(qū)域11中包括三個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記12為例進(jìn)行示意,在實(shí)際應(yīng)用時(shí),可以根據(jù)實(shí)際工藝的對(duì)位次數(shù)來(lái)決定第一對(duì)位標(biāo)記12的數(shù)量,例如,工藝過(guò)程中只有一個(gè)膜層與該掩模板進(jìn)行對(duì)位,則只需要一個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記12就可以,若工藝過(guò)程中,有四個(gè)膜層與掩模板進(jìn)行對(duì)位,則可以設(shè)置四個(gè)第一對(duì)位標(biāo)記12,以分別對(duì)應(yīng)四個(gè)膜層的對(duì)位,當(dāng)然也可以幾個(gè)膜層共用對(duì)位標(biāo)記,此處只是舉例說(shuō)明,不對(duì)第一對(duì)位標(biāo)記12的數(shù)量進(jìn)行限定。
在具體實(shí)施時(shí),對(duì)位標(biāo)尺14經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12與第二對(duì)位標(biāo)記13相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,這樣設(shè)置可以保證通過(guò)對(duì)位標(biāo)尺14可以讀取到第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13的對(duì)位數(shù)據(jù)。第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,可以指在對(duì)位過(guò)程中,第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13的重疊區(qū)域,也可以根據(jù)第一對(duì)位標(biāo)記12和第二對(duì)位標(biāo)記13的尺寸估算出重疊區(qū)域的大小和位置,從而確定對(duì)位標(biāo)尺14的位置。
上述對(duì)位數(shù)據(jù)可以指第二對(duì)位標(biāo)記13相對(duì)于第一對(duì)位標(biāo)記12需要移動(dòng)的距離,如圖1中左邊第一個(gè)圖形,在水平方向上,第二對(duì)位標(biāo)記13左側(cè)邊緣與第一對(duì)位標(biāo)記12的左側(cè)邊緣的距離為a,第二對(duì)位標(biāo)記13右側(cè)邊緣與第一對(duì)位標(biāo)記12的右側(cè)邊緣的距離為b,在豎直方向上,第二對(duì)位標(biāo)記13上側(cè)邊緣與第一對(duì)位標(biāo)記12的上側(cè)邊緣的距離為c,第二對(duì)位標(biāo)記13下側(cè)邊緣與第一對(duì)位標(biāo)記12的下側(cè)邊緣的距離為d,水平方向上的對(duì)位數(shù)據(jù)Dx=(a-b)/2,豎直方向上的對(duì)位數(shù)據(jù)Dy=(c-d)/2,從圖1可以讀出Dx=(0.6-0.4)/2=0.1,Dy=(0.6-0.4)/2=0.1,即只需將第二對(duì)位標(biāo)記13向左移動(dòng)0.1,向上移動(dòng)0.1就可以對(duì)齊,其中,Dx和Dy的具體數(shù)值是以圖中十個(gè)小刻度表示一個(gè)“單位1”得到的,并不代表實(shí)際尺寸。
具體地,本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板中,對(duì)位標(biāo)尺14的設(shè)置可以至少包括以下兩種實(shí)現(xiàn)方式:
方式一:同樣參照?qǐng)D1,第一對(duì)位標(biāo)記12的尺寸大于第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
對(duì)位標(biāo)尺14包括:位于第一對(duì)位標(biāo)記12的圖形內(nèi)部的水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142。
由于第一對(duì)位標(biāo)記12的尺寸大于第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸,這樣只需在第一標(biāo)尺內(nèi)部設(shè)置對(duì)位標(biāo)尺14就能夠得到對(duì)位數(shù)據(jù),且將對(duì)位標(biāo)尺14分為水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142,更有利于分別讀取水平和豎直方向上的對(duì)位數(shù)據(jù),從而更方便的進(jìn)行對(duì)位,在具體實(shí)施時(shí),水平標(biāo)尺141的長(zhǎng)度可以等于或稍大于第一對(duì)位標(biāo)記12在水平方向上的長(zhǎng)度,豎直標(biāo)尺142的長(zhǎng)度可以等于或稍大于第二對(duì)位標(biāo)記13在豎直方向上的長(zhǎng)度。
進(jìn)一步地,水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142與第一對(duì)位標(biāo)記12的幾何中心的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
將水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142設(shè)置在第一對(duì)位標(biāo)記12的幾何中心附近,這樣在工藝過(guò)程中,第二對(duì)位標(biāo)記13比較容易和對(duì)位標(biāo)尺14有重疊,從而保證對(duì)位標(biāo)記能夠測(cè)量到第二對(duì)位標(biāo)尺14。水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142優(yōu)選為經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12的幾何中心。
方式二:如圖2所示,第一對(duì)位標(biāo)記12的尺寸小于第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
對(duì)位標(biāo)尺14包括:經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12的圖形或位于第一對(duì)位標(biāo)記12的圖形的邊緣的水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142;
水平標(biāo)尺141的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記13在水平方向上的長(zhǎng)度,豎直標(biāo)尺142的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記13在豎直方向上的長(zhǎng)度。
參照?qǐng)D2,第一對(duì)位標(biāo)記12的尺寸小于第二對(duì)位標(biāo)記13的尺寸時(shí),為了能夠得到對(duì)位數(shù)據(jù),水平標(biāo)尺141和豎直標(biāo)尺142的尺寸至少與第二對(duì)位標(biāo)記13的尺寸相等,但實(shí)際工藝過(guò)程中,放置膜層時(shí),會(huì)有一定的偏差,所以優(yōu)選為水平標(biāo)尺141的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記13在水平方向上的長(zhǎng)度,豎直標(biāo)尺142的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記13在豎直方向上的長(zhǎng)度,對(duì)位標(biāo)尺14可以設(shè)置在經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記12的位置處,如圖2中的第一個(gè)圖形,也可以設(shè)置在第一對(duì)位標(biāo)記12的邊緣處,如圖2中間的圖形。
在實(shí)際應(yīng)用時(shí),為了保證顯示裝置的質(zhì)量,對(duì)位標(biāo)尺14的最小刻度的寬度范圍為3μm-7μm,優(yōu)選為5μm。
基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種對(duì)位方法,如圖3所示,包括:
S201、采用上述掩模板在襯底基板上制作第一膜層;
S202、在制作第一膜層之上的第二膜層時(shí),根據(jù)第一膜層上的對(duì)位標(biāo)尺得到對(duì)位數(shù)據(jù);
S203、根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)制作第二膜層的掩模板。
步驟S201中,采用上述掩模板在襯底基板上制作第一膜層,則第一膜層中的對(duì)位標(biāo)記中包含了對(duì)位標(biāo)尺,這樣在步驟S202中,在制作第二膜層時(shí),可以根據(jù)第一膜層上的對(duì)位標(biāo)尺得到對(duì)位數(shù)據(jù),從而可以根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)第二膜層的掩模板,使第二膜層與第一膜層對(duì)齊。
基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例還提供了另一種對(duì)位方法,如圖4所示,包括:
S301、在襯底基板上制作第一膜層;
S302、采用上述掩模板在第一膜層之上制作第二膜層,并根據(jù)掩模板上的對(duì)位標(biāo)尺得到對(duì)位數(shù)據(jù);
S303、根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)掩模板。
步驟S301中,在襯底基板上制作第一膜層,第一膜層可以使用普通的掩模板(即沒(méi)有對(duì)位標(biāo)尺的掩模板),也可以使用上述掩模板,在步驟S302中,制作第二膜層時(shí)使用上述具有對(duì)位標(biāo)尺的掩模板,從而可以通過(guò)對(duì)位標(biāo)尺讀取對(duì)位數(shù)據(jù),根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)制作第二膜層的掩模板使第二膜層與第一膜層對(duì)齊。
基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示面板,包括:襯底基板,以及位于襯底基板上的對(duì)位區(qū)域;其中,
對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)有第一對(duì)位標(biāo)記和對(duì)位標(biāo)尺;
第一對(duì)位標(biāo)記的圖形與將要對(duì)位的對(duì)向基板上的第二對(duì)位標(biāo)記的圖形相匹配;
對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記與第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域。
與上述掩模板類(lèi)似,本發(fā)明實(shí)施例提供的上述顯示面板中的對(duì)位標(biāo)尺的設(shè)置也可以至少包括以下兩種實(shí)現(xiàn)方式:
方式一:第一對(duì)位標(biāo)記的尺寸大于第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
對(duì)位標(biāo)尺包括:位于第一對(duì)位標(biāo)記的圖形內(nèi)部的水平標(biāo)尺和豎直標(biāo)尺。
優(yōu)選的,水平標(biāo)尺和豎直標(biāo)尺與第一對(duì)位標(biāo)記的幾何中心的距離在預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
方式二:第一對(duì)位標(biāo)記的尺寸小于第二對(duì)位標(biāo)記的尺寸;
對(duì)位標(biāo)尺包括:經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記的圖形或位于第一對(duì)位標(biāo)記的圖形的邊緣的水平標(biāo)尺和豎直標(biāo)尺;
水平標(biāo)尺的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記在水平方向上的長(zhǎng)度,豎直標(biāo)尺的長(zhǎng)度大于第二對(duì)位標(biāo)記在豎直方向上的長(zhǎng)度。
在實(shí)際應(yīng)用時(shí),為了保證顯示裝置的質(zhì)量,對(duì)位標(biāo)尺14的最小刻度的寬度范圍為3μm-7μm,優(yōu)選為5μm。
由于該顯示面板解決問(wèn)題的原理與上述掩模板相似,該顯示面板中的對(duì)位標(biāo)尺的特征與上述掩模板中的對(duì)位標(biāo)尺的特征相同,因此該顯示面板的實(shí)施可以參見(jiàn)上述掩模板的實(shí)施,重復(fù)之處不再贅述。
基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置,包括上述顯示面板。
由于該顯示裝置解決問(wèn)題的原理與上述顯示面板相似,因此該顯示裝置的實(shí)施可以參見(jiàn)上述顯示面板的實(shí)施,重復(fù)之處不再贅述。
基于同一發(fā)明構(gòu)思,本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種上述顯示裝置的對(duì)盒方法,如圖5所示,包括:
S401、在對(duì)盒過(guò)程中,根據(jù)顯示面板上的對(duì)位標(biāo)尺,確定對(duì)位數(shù)據(jù);
S402、根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)顯示面板和/或顯示面板的對(duì)向基板。
由于上述顯示裝置中包括的顯示面板的對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)有對(duì)位標(biāo)尺,因此,在對(duì)盒過(guò)程中,可以根據(jù)該顯示面板上的對(duì)位標(biāo)尺讀取對(duì)位數(shù)據(jù),根據(jù)對(duì)位數(shù)據(jù)移動(dòng)該顯示和/或顯示面板的對(duì)向基板,從而使顯示裝置成功對(duì)盒。
本發(fā)明實(shí)施例提供的上述掩模板、對(duì)位方法、顯示面板、顯示裝置及其對(duì)盒方法,通過(guò)在對(duì)位區(qū)域內(nèi)設(shè)置對(duì)位標(biāo)尺,且該對(duì)位標(biāo)尺經(jīng)過(guò)第一對(duì)位標(biāo)記與第二對(duì)位標(biāo)記相對(duì)應(yīng)的區(qū)域,這樣在對(duì)位過(guò)程中,可以準(zhǔn)確的讀取第一對(duì)位標(biāo)記和第二對(duì)位標(biāo)記之間的對(duì)位數(shù)據(jù),避免由于對(duì)位標(biāo)記邊緣不清楚,造成對(duì)位數(shù)據(jù)不準(zhǔn)確,導(dǎo)致對(duì)位失敗的情況。
顯然,本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣,倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi),則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。