技術(shù)編號(hào)：12459105
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于基板制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高精度光刻膠面形控制方法。背景技術(shù)傳統(tǒng)光刻技術(shù)在烘膠(包括：樣品預(yù)處理、前烘、后烘、堅(jiān)膜)過程，尤其是堅(jiān)膜過程中，由于較高的溫度(大于100℃，超過光刻膠玻璃化轉(zhuǎn)變溫度)易引起光刻膠發(fā)生塑性形變，導(dǎo)致光刻膠面形的不均勻，這將使得所制作出的光刻元件的表面輪廓嚴(yán)重失真，從而會(huì)引起器件性能明顯降低。但是，過低的烘焙溫度又會(huì)使光刻膠溶劑難以徹底揮發(fā)，膠層過早被破壞導(dǎo)致刻蝕能力降低，因此僅僅通過降低烘焙溫度也將無法提高光刻膠面形精度。真空干燥是一種被廣泛應(yīng)用的制藥、...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。