專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于使用光刻法的半導(dǎo)體微型制造的光致抗蝕劑組合物含有酸生成劑，所述酸 生成劑包含通過輻照生成酸的化合物。US 2006/0194982 Al公開了一種包含樹脂、酸生成劑和2，6_ 二異丙基苯胺的 光致抗蝕劑組合物，所述樹脂具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)，不溶或難溶于堿性(alkali)水溶液，但 是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。JP 2009-199021 Al公開了一種光致抗蝕劑組合物，其包含由下式表示的化合
物
權(quán)利要求
1. 一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂、酸生成劑和由式⑴表示的化合物
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式⑴中，R1是乙基并且R2和R3是甲基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中在式⑴中，R4是氫原子。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂具有酸不穩(wěn)定基團(tuán)，并且 不溶或難溶于堿性水溶液，但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液。
5.—種用于制造光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括下列步驟(1)至(5)(1)將根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物涂覆到基底上的步驟，(2)通過進(jìn)行干燥形成光致抗蝕劑膜的步驟，(3)將所述光致抗蝕劑膜曝光于輻射的步驟，(4)將曝光后的光致抗蝕劑膜烘焙的步驟，和(5)將烘焙后的光致抗蝕劑膜用堿性顯影劑顯影，從而形成光致抗蝕劑圖案的步驟。
6.一種由式(I-A)表示的化合物
7. 一種由式(1-12)，(1-20)或(1-110)表示的化合物
全文摘要
本發(fā)明提供一種光致抗蝕劑組合物，其包含樹脂、酸生成劑和由式(I)表示的化合物，在式(I)中，R1表示可以具有一個(gè)或多個(gè)羥基的C2-C12烷基等，R2和R3各自獨(dú)立表示氫原子等，R4，R5和R6各自獨(dú)立表示氫原子等，A1表示單鍵或C1-C2亞烷基，在所述C1-C2亞烷基中的一個(gè)或多個(gè)-CH2-可以被-O-代替。
文檔編號(hào)G03F7/00GK102023483SQ20101028406
公開日2011年4月20日 申請日期2010年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月16日
發(fā)明者增山達(dá)郎, 畑光宏 申請人:住友化學(xué)株式會(huì)社