專利名稱：抗蝕劑組合物和用于制備抗蝕圖案的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及抗蝕劑組合物和用于制備抗蝕圖案的方法。
背景技術：
專利文獻JP-2010-197413A中描述了一種抗蝕劑組合物，所述抗蝕劑組合物包含:樹脂以及酸生成劑，所述樹脂包括具有結(jié)構(gòu)單元(U-A)和結(jié)構(gòu)單元(u-B)的聚合物，具有結(jié)構(gòu)單元(u-C)、結(jié)構(gòu)單元(u-D)和結(jié)構(gòu)單元(u-B)的聚合物。
權(quán)利要求
1.一種抗蝕劑組合物，所述抗蝕劑組合物包含: 具有由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂， 在堿性水溶液中不可溶或難溶但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液并且不包含由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂， 酸生成劑，和 具有由式(IA)表示的陰離子的鹽，
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中式(I)中的A1是1，2_亞乙基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中式⑴中的A13是C1至C6全氟烷二基。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中式(I)中的X12是*-C0-0-，*表示與A13的連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中式(I)中的A14是環(huán)丙基甲基、環(huán)戊基、環(huán)己基、降冰片基或金剛燒基。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，其中所述具有由式(IA)表示的陰離子的鹽含有由式(IB)表示的陽離子；
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物，所述抗蝕劑組合物還包含溶劑。
8.一種用于制備抗蝕圖案的方法，所述方法包括下列步驟: (1)將權(quán)利要求1所述的抗蝕劑組合物涂敷到基材上； (2)將涂敷的組合物干燥以形成組合物層； (3)將所述組合物層曝光； (4)將曝光的組合物層加熱，和 (5)將加熱的組合物層顯影。
全文摘要
本發(fā)明公開了抗蝕劑組合物和用于制備抗蝕圖案的方法，所述抗蝕劑組合物具有具有由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂，在堿性水溶液中不可溶或難溶但是通過酸的作用變得可溶于堿性水溶液并且不包含由式(I)表示的結(jié)構(gòu)單元的樹脂，酸生成劑，和具有由式(IA)表示的陰離子的鹽，其中R1、A1、A13、X12、A14、R1A和R2A如說明書中限定。
文檔編號G03F7/004GK103149798SQ20121025127
公開日2013年6月12日 申請日期2012年7月19日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月19日
發(fā)明者市川幸司, 增山達郎, 山口訓史 申請人:住友化學株式會社