專利名稱：光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
光致抗蝕劑組合物是用于采用光刻技術(shù)工藝的半導(dǎo)體微組裝 (microfabrication)光致抗蝕劑組合物。US 2008/0166660A1公開了一種包含如下組分的光致抗蝕劑一種樹脂，其具有 由甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷酯衍生的結(jié)構(gòu)單元、由甲基丙烯酸3-羥基-1-金剛烷酯衍 生的結(jié)構(gòu)單元、由甲基丙烯酸2-(5-氧代-4-氧雜三環(huán)[4. 2. LO3'7]壬烷-2-基氧基)-2-氧 代乙酯衍生的結(jié)構(gòu)單元、以及由α -甲基丙烯酰氧-Y-丁內(nèi)酯衍生的結(jié)構(gòu)單元；包含三苯 基锍4-氧代金剛烷-1-基氧羰基(二氟代)甲磺酸鹽的產(chǎn)酸劑；包含2，6- 二異丙基苯胺 和溶劑的堿性化合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及下述內(nèi)容<1> 一種光致抗蝕劑組合物，其包含一種經(jīng)輻射能夠產(chǎn)生酸和堿的化合物；一種 具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)且不溶于或微溶于堿性水溶液的樹脂，但該樹脂在酸的作用下變得可 溶于堿性水溶液；以及一種產(chǎn)酸劑。<2>如<1>所述的光致抗蝕劑，其中，該化合物通過輻射能產(chǎn)生酸和堿，通過對該 化合物進(jìn)行輻射而產(chǎn)生的堿是通式(IB)所示的堿
權(quán)利要求
1.一種光致抗蝕劑組合物，其包含一種經(jīng)輻射能夠產(chǎn)生酸和堿的化合物；一種具有 酸不穩(wěn)定性基團(tuán)且不溶于或微溶于堿性水溶液的樹脂，該樹脂在酸的作用下變得可溶于堿 性水溶液；以及一種產(chǎn)酸劑。
2.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，所述化合物通過輻射能夠產(chǎn) 生酸和堿，通過對該化合物進(jìn)行輻射而產(chǎn)生的堿是通式(IB)所示的堿
3.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，所述化合物通過輻射能夠產(chǎn) 生酸和堿，通過對該化合物進(jìn)行輻射而產(chǎn)生的酸是通式(IA)所示的酸
4.如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，所述通過輻射能夠產(chǎn)生酸和 堿的化合物是通式(ID)所示的鹽
5.如權(quán)利要求4所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，R7是可具有一個以上取代基 的苯甲基或者可具有一個以上取代基的苯乙基。
6.一種通式(I-I)所示鹽
7. 一種用于形成光致抗蝕劑圖案的方法，包括如下步驟(1)至(5)(1)將如權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物施加在基材上；(2)通過進(jìn)行干燥，形成光致抗蝕劑薄膜；(3)將光致抗蝕劑薄膜曝露在輻射下；(4)焙烤經(jīng)曝露的光致抗蝕劑薄膜；以及(5)用堿性顯影劑顯影經(jīng)焙烤的光致抗蝕劑薄膜，從而形成光致抗蝕劑圖案。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光致抗蝕劑組合物，其包含通過輻射能夠產(chǎn)生酸和堿的化合物；一種具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)且不溶于或微溶于堿性水溶液的樹脂，該樹脂在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液；以及一種產(chǎn)酸劑。
文檔編號H01L21/027GK102043338SQ20101053037
公開日2011年5月4日 申請日期2010年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月20日
發(fā)明者增山達(dá)郎, 平岡崇志 申請人:住友化學(xué)株式會社