光固化性組合物和圖案化方法
【專利摘要】本發(fā)明提供具有高聚合速率和高聚合轉(zhuǎn)化率的光固化性組合物。還提供具有高產(chǎn)量的圖案化方法。光固化性組合物含有自由基聚合性單體(A)、光聚合引發(fā)劑(B)和用作增感劑并且具有下述通式(1)的化合物(C)。X1和X2選自由氫原子、烷基、苯基、萘基、和其中部分或全部氫原子被氟取代的烷基組成的組。X1和X2可相同或不同。R1-R10獨(dú)立地選自由氫原子、鹵素原子、烷基、烴氧基、苯基、萘基和其中部分或全部氫原子被氟取代的烷基組成的組。R1-R10可相同或不同。
【專利說(shuō)明】光固化性組合物和圖案化方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光固化性組合物和使用該光固化性組合物的圖案化方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著半導(dǎo)體集成電路變得更精細(xì)和致密，用于實(shí)施精細(xì)圖案化技術(shù)的壓印裝置的精度在不斷增加。但是，由于必要加工精度接近曝光光的衍射極限，因此光刻技術(shù)也接近其性能極限。
[0003]為了進(jìn)一步以更高精度制造更精細(xì)半導(dǎo)體集成電路，已提出了 UV壓印法。UV壓印法包括將具有精細(xì)凹凸圖案的模具壓靠涂布有光固化性組合物的基材以將該凹凸圖案轉(zhuǎn)印于基材上的光固化性組合物膜。
[0004]根據(jù)已受到大量關(guān)注的UV壓印法，使對(duì)曝光光透明的模具壓靠涂布于基材的光固化性組合物，并且通過(guò)光照射使該光固化性組合物固化。將模具脫離后，能夠得到基材上的具有精細(xì)凹凸圖案的光固化產(chǎn)物。
[0005]用于這樣的UV壓印法的一種已知的光固化性組合物含有聚合性單體和光聚合引發(fā)劑(PTLl)。
[0006]這些已知的UV壓印法具有聚合性單體的光固化不足并且產(chǎn)量低的問(wèn)題。
[0007]引用列表
[0008]專利文獻(xiàn)
[0009]PTL 1:日本專利公開 N0.2010-000612
【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]技術(shù)問(wèn)題
[0011]鑒于現(xiàn)有技術(shù)的這些問(wèn)題，本發(fā)明提供具有高聚合速率和高聚合轉(zhuǎn)化率的光固化性組合物。本發(fā)明還提供具有高產(chǎn)量的圖案化方法。
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一方面的光固化性組合物含有自由基聚合性單體(A)、光聚合引發(fā)劑(B)和用作增感劑 并且具有下述通式(I)的化合物(C):
[0013]
【權(quán)利要求】
1.光固化性組合物，包括:自由基聚合性單體(A);光聚合引發(fā)劑(B);和用作增感劑并且具有下述通式(I)的化合物(C):
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光固化性組合物，其中光聚合引發(fā)劑⑶是光自由基產(chǎn)生劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的光固化性組合物，其中化合物(C)是茴香偶姻N-環(huán)己基氨基甲酸酯。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3的光固化性組合物，其中該光自由基產(chǎn)生劑選自由具有下述通式⑶的2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮-1、具有下述通式(4)的.2，2- 二甲氧基-2-苯基苯乙酮和具有下述通式(5)的2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮組成的組:
5.用于在被加工基材上形成光固化產(chǎn)物的圖案的圖案化方法，包括: 將根據(jù)權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)的光固化性組合物放置在被加工基材上； 使該光固化性組合物與模具接觸； 用光照射該光固化性組合物以使該光固化性組合物固化；和 照射后使光固化產(chǎn)物脫離該模具。
6.電路板的制造方法，包括:根據(jù)采用根據(jù)權(quán)利要求5的圖案化方法形成的圖案進(jìn)行蝕刻或?qū)㈦x子注入基材中，由此形成電路結(jié)構(gòu)。
7.物品，包括:基材；和在該基材上設(shè)置的固化物，該固化物具有根據(jù)權(quán)利要求1-4的任一項(xiàng)的光固化性組合物的圖案。
【文檔編號(hào)】H01L21/027GK104039836SQ201280062769
【公開日】2014年9月10日 申請(qǐng)日期:2012年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月19日
【發(fā)明者】松藤奈央子, 伊藤俊樹, 川端香奈江 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社