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光刻膠組合物的制作方法

文檔序號(hào):2725745閱讀:312來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:光刻膠組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光刻膠組合物。
背景技術(shù)
用于應(yīng)用光刻過(guò)程的半導(dǎo)體微制造的光刻膠組合物含有樹脂和產(chǎn)酸劑,所述產(chǎn) 酸劑包含通過(guò)輻射產(chǎn)生酸的化合物。US 2003/0099900 Al公開了包含樹脂、產(chǎn)酸劑和溶劑的光刻膠組合物,所述樹
脂具有衍生自甲基丙烯酸2-乙基-2-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元、衍生自甲基丙烯酸3-羥 基-1-金剛烷基酯的結(jié)構(gòu)單元和衍生自α -甲基丙烯酰氧基-Y-丁內(nèi)酯的結(jié)構(gòu)單元。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種光刻膠組合物。本發(fā)明涉及如下內(nèi)容<1> 一種光刻膠組合物,包含產(chǎn)酸劑,和樹脂,其含有衍生自式⑴表示的單體的結(jié)構(gòu)單元
權(quán)利要求
1.一種光刻膠組合物,包含產(chǎn)酸劑和樹脂,所述樹脂含有衍生自式⑴表示的單體的 結(jié)構(gòu)單元
2.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物,其中B1是式(1a)表示的基團(tuán),其中R3、R4和 R5各自獨(dú)立地表示C1-C8脂肪族烴基或C3-C8飽和環(huán)烴基,并且R4和R5可以相互鍵 合以與鍵合R4和R5的碳原子一起形成C3-C10環(huán),并且所述飽和環(huán)烴基和所述環(huán)可具有 C1-C8脂肪族烴基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物,其中B1是式(1a-1)或(la-2)表示的基團(tuán),
4.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物,其中B1是式(1b-1)或(lb-2)表示的基團(tuán),
5.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物,其中B1是式(Ic-I)表示的基團(tuán),
6.根據(jù)權(quán)利要求5的光刻膠組合物,其中B1是式(lc-2)表示的基團(tuán),
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)的光刻膠組合物,其中A2和A3是單鍵。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或6中任一項(xiàng)的光刻膠組合物,其中所述樹脂具有酸敏基團(tuán),并且 不溶或難溶于堿性水溶液但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液。
9.根據(jù)權(quán)利要求7的光刻膠組合物,其中所述樹脂具有酸敏基團(tuán),并且不溶或難溶于 堿性水溶液但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)的光刻膠組合物,其中所述產(chǎn)酸劑為式Bl表示的
11.根據(jù)權(quán)利要求7的光刻膠組合物,其中所述產(chǎn)酸劑為式(Bi)表示的鹽。
12.根據(jù)權(quán)利要求10的光刻膠組合物,其中Lbl為*-C0-0-,其中*表示與-C(G)(Q2)-的鍵合位置。
13.根據(jù)權(quán)利要求11的光刻膠組合物,其中Lbl為*-C0-0-,其中*表示與-C(G) (Q2)-的鍵合位置。
14.根據(jù)權(quán)利要求10的光刻膠組合物,其中Z+表示芳基锍陽(yáng)離子。
15.根據(jù)權(quán)利要求11的光刻膠組合物,其中Z+表示芳基锍陽(yáng)離子。
16.根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物,其中所述組合物還包括堿性化合物。
17.—種制造光刻膠圖案的方法,包括下列步驟(1)至(5)(1)在襯底上施加根據(jù)權(quán)利要求1的光刻膠組合物的步驟,(2)通過(guò)進(jìn)行干燥形成光刻膠膜的步驟,(3)使光刻膠膜曝光于輻射的步驟,(4)烘焙經(jīng)曝光的光刻膠膜的步驟,和(5)用堿性顯影劑使經(jīng)烘焙的光刻膠膜顯影從而形成光刻膠圖案的步驟。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光刻膠組合物,包含產(chǎn)酸劑和樹脂,所述樹脂含有衍生自式(I)表示的單體的結(jié)構(gòu)單元其中R1表示氫原子等,R2表示氫原子或C1-C4烷基,A1表示單鍵等,B1表示式(1a)表示的基團(tuán)其中R3、R4和R5各自獨(dú)立地表示C1-C16脂肪族烴基,并且R4和R5可以相互鍵合以與鍵合R4和R5的碳原子一起形成C3-C18環(huán),具有內(nèi)酯結(jié)構(gòu)的C4-C20飽和環(huán)狀基團(tuán),或者具有至少一個(gè)羥基的C5-C20飽和環(huán)烴基。
文檔編號(hào)G03F7/039GK102023482SQ20101028369
公開日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2010年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月17日
發(fā)明者坂本宏, 市川幸司, 平岡崇志, 杉原昌子 申請(qǐng)人:住友化學(xué)株式會(huì)社
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