專利名稱：用于mems掃描顯示系統(tǒng)等的畸變更改光學(xué)裝置的制作方法
用于MEMS掃描顯示系統(tǒng)等的畸變更改光學(xué)裝置
背景技術(shù)：
由于使用的饋送方法并且還因?yàn)镸EMS掃描鏡被用于將在極坐標(biāo)系統(tǒng)中產(chǎn)生的圖 像轉(zhuǎn)換成在圖像平面處使用笛卡爾坐標(biāo)系統(tǒng)的圖像，微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)掃描顯示系統(tǒng)通 常會(huì)具有自然發(fā)生的畸變，畸變是由于離軸輸入光束引起的掃描光束的軌跡和從掃描鏡變 換到圖像平面而引起的。不像標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)那樣，透鏡通常不能被放置在MEMS掃描鏡之 后，因?yàn)檫@種布置將阻止掃描系統(tǒng)具有無窮遠(yuǎn)聚焦。


在說明書的結(jié)論部分中，所要求的主題得以特別地指出并且被清楚地要求權(quán)利保 護(hù)。然而，當(dāng)結(jié)合附圖閱讀時(shí)，可以通過參考以下詳細(xì)說明而理解這種主題，其中圖1是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、基于MEMS的掃描光束顯示器的圖；圖2是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的光楔的正視圖；圖3是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的光楔的頂平面視圖；圖4是掃描光束顯示器的圖，示出根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、顯示器的元件相 對于光束角度的相對角度；圖5是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、利用光楔的掃描光束顯示器的等角視圖；圖6是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、利用光楔的掃描光束顯示器的正視圖；圖7是根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、利用光楔的掃描光束顯示器的頂平面視圖； 并且圖8是示意根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、經(jīng)由光楔的圖像畸變的更改的圖。將會(huì)理解，為了示意簡潔和/或清楚起見，在圖中示意的元件并不是必要地按照 比例繪制的。例如，為了清楚起見，一些元件的尺寸可能相對于其它元件得以夸大。此外， 如果認(rèn)為適當(dāng)?shù)脑?，則已經(jīng)在圖中重復(fù)了引用數(shù)字以示意相應(yīng)的和/或類似的元件。
具體實(shí)施例方式在以下詳細(xì)說明中，闡述了多個(gè)具體細(xì)節(jié)以提供對于所要求的主題的徹底理解。 然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)理解，可以不帶這些具體細(xì)節(jié)地實(shí)施所要求的主題。在其它情形 中，眾所周知的方法、過程、構(gòu)件和/或電路未予詳細(xì)描述。在以下說明和/或權(quán)利要求中，可能連同它們的派生詞一起地使用了術(shù)語耦接和 /或連接。在特定實(shí)施例中，連接可以被用于示意兩個(gè)或者更多元件處于相互間直接物理和 /或電接觸。耦接可以意味著兩個(gè)或者更多元件處于直接物理和/或電接觸。然而，耦接還 可以意味著兩個(gè)或者更多元件可以并不處于直接相互接觸，而是可以仍然彼此配合和/或 互相作用。例如，“耦接”可以意味著兩個(gè)或者更多元件并不相互接觸而是經(jīng)由另一元件或 者中間元件而被間接地結(jié)合到一起。最終，可在以下說明和權(quán)利要求中使用了術(shù)語“在… 上”、“覆在…上面”和“在…之上”?！霸凇稀?、“覆在…上面”和“在…之上”可以被用于示 意兩個(gè)或者更多元件相互間處于直接物理接觸。然而，“在…之上”還可以意味著兩個(gè)或者更多元件相互間并不直接接觸。例如，“在…之上”可以意味著一個(gè)元件在另一個(gè)元件上方 但是并不相互接觸并且在該兩個(gè)元件之間可以具有另一個(gè)元件或者多個(gè)元件。進(jìn)而，術(shù)語 “和/或”可以意味著“和”，它可以意味著“或者”，它可以意味著“排他性的或者”，它可以意 味著“一個(gè)”，它可以意味著“一些，但是并不是所有的”，它可以意味著“兩者都不”，和/或 它可以意味著“兩者都”，但是所要求的主題的范圍在這方面不受限制。在以下說明和/或 權(quán)利要求中，術(shù)語“包括”和“包含”連同它們的派生詞一起地可能得以使用并且旨在對于 彼此而言是同義的。現(xiàn)在參考圖1，將討論根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、基于微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的掃 描光束顯示器的圖。雖然圖1為了討論的意圖而示意掃描光束顯示器系統(tǒng)，但是應(yīng)該指出， 可以在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中利用掃描光束成像系統(tǒng)、其它類型的成像系統(tǒng)，和/或可替 代地，根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例能夠同樣地利用成像系統(tǒng)例如條形碼掃描器或者數(shù)字照相 機(jī)，并且所要求的主題的范圍在這方面不受限制。如在圖1中所示，掃描光束顯示器100 包括可以是激光光源例如激光器等的光源110，光源110能夠發(fā)射可以包括激光束的光束 112。在一些實(shí)施例中，例如在具有紅色、綠色和藍(lán)色光源的彩色系統(tǒng)中，光源可以包括兩 個(gè)或者更多光源，其中來自光源的光束可以被組合成單一光束。光束112在可以包括基于 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)的掃描器等的掃描平臺(tái)114上入射，并且從掃描鏡116反射出去以產(chǎn) 生受控的輸出光束124。在一個(gè)或者多個(gè)可替代實(shí)施例中，掃描平臺(tái)114可以包括衍射光 柵、移動(dòng)光柵(moving optic grating)、光閥、旋轉(zhuǎn)反射鏡、自旋硅裝置(spinning silicon device)、飛點(diǎn)投影儀(flying spot projector)或者其它類似的掃描裝置或者移動(dòng)光投影 裝置，并且所要求的主題的范圍在這方面不受限制。水平驅(qū)動(dòng)電路118和/或垂直驅(qū)動(dòng)電路 120調(diào)整掃描鏡116被偏轉(zhuǎn)的方向以引起輸出光束IM產(chǎn)生掃描光束126，由此例如在投影 表面和/或圖像平面上形成顯示圖像128。雖然例如在一個(gè)具體實(shí)施例中掃描光束1 可 以包括如在圖1中所示的光柵掃描，但是投影圖像不需要被限制為其中其它掃描光束圖案 可以被同樣地利用的光柵掃描，并且所要求的主題的范圍在這方面不受限制。通常，可以產(chǎn) 生任何掃描光束圖像。顯示控制器122通過將顯示圖像的像素信息轉(zhuǎn)換成與掃描平臺(tái)114 同步的激光調(diào)制，控制水平驅(qū)動(dòng)電路118和垂直驅(qū)動(dòng)電路120，以便基于掃描光束1 和/ 或任何掃描光束圖案中的輸出光束124的位置、和圖像中的相應(yīng)像素的相應(yīng)的強(qiáng)度和/或 顏色信息，將圖像信息寫為顯示圖像128。顯示控制器122還可以控制掃描光束顯示器100 的其它的各種功能。在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中，對生成或捕獲二維圖像的二維掃描，快速掃描軸可以指 掃描光束126的水平方向，以及慢掃描軸可以指掃描光束126的垂直方向。掃描鏡116可 以以相對較高的頻率水平地以及以相對慢的頻率垂直地掃掠輸出光束124。結(jié)果是激光光 束124的掃描軌跡以產(chǎn)生掃描光束126，和/或一般地任何掃描光束圖案。然而，在這些方 面，不限制所要求的主題的范圍?，F(xiàn)在參考圖2和圖3，將分別討論根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的光楔的正視圖和頂 平面視圖。在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，可以利用光楔210改變由如在圖1中所示的掃描光 束顯示器100產(chǎn)生的圖像。在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，可以利用光楔210來減輕或者消除 可能固有地在掃描光束顯示器或者成像系統(tǒng)中引起的、由掃描平臺(tái)114產(chǎn)生的圖像中的畸 變，畸變是由離軸輸入光束引起的掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平面的變換引起的。可替代地，可以利用光楔210賦予或者增加由掃描平臺(tái)114產(chǎn)生的圖像中的畸變量，例如 當(dāng)根據(jù)應(yīng)用這種增加的或者以其它方式賦予的畸變是令人期望的時(shí)。通常，可以利用光楔 210提供由掃描平臺(tái)114產(chǎn)生或者獲得的圖像的畸變的一些更改。在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例 中，光楔210通?？梢园ü鈱W(xué)元件或者光學(xué)元件的組合，具有第一表面或者平面212，第 一表面或者平面212相對于第二表面或者平面214被以非平行角度置放。在一個(gè)或者多 個(gè)實(shí)施例中，光楔210的這種布置可以包括棱鏡或者類似地成形的光學(xué)裝置例如平截頭體 (frustum)、角錐(pyramid)、圓錐(cone)等，和/或可替代地，光楔210可以包括第一玻璃 面或者其它光學(xué)材料來體現(xiàn)第一表面212，并且包括第二玻璃面或者其它光學(xué)材料來體現(xiàn) 第二表面214，并且所要求的主題的范圍在這些方面不受限制。如在圖2和圖3中所示，由掃描平臺(tái)114反射和/或產(chǎn)生的輸出光束IM可以被 引導(dǎo)通過光楔210，光楔210進(jìn)而至少部分地重定向輸出射線124，從而控制從光楔210出 射的出射光束216。在這種布置中，光楔210能夠更改由掃描平臺(tái)114產(chǎn)生和/或掃描的圖 像的畸變。在一個(gè)實(shí)施例中，光楔210能夠在至少一個(gè)尺寸中更改圖像的畸變，并且在一個(gè) 或者多個(gè)可替代實(shí)施例中，光楔能夠在兩個(gè)或者更多尺寸中和/或沿著兩個(gè)或者更多的軸 線更改圖像的畸變。在下面關(guān)于圖8示出和描述了這種畸變更改的一個(gè)實(shí)例。在一個(gè)或者 多個(gè)實(shí)施例中，相對于光楔210的第二表面214置放光楔210的第一表面212的角度可以 至少部分地基于被掃描平臺(tái)114掃描或者以其它方式重定向的輸入光束112的饋送角度。 進(jìn)而，如在以下圖4中所示意地，可以根據(jù)例如顯示系統(tǒng)100的元件布置，相對于掃描平臺(tái) 114的反射表面或者掃描平面以一定角度置放光楔210。雖然光楔210在圖2和圖3中被 示為置放于在輸入光束112被饋送到掃描平臺(tái)114之后的光路中，但是在一個(gè)或者多個(gè)可 替代實(shí)施例中，光楔210可以被置放于在輸入光束112被饋送到掃描平臺(tái)114之前的光路 中。在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，可以至少部分地在輸入光束112被饋送到掃描平臺(tái)114之 前，和/或至少部分地在輸入光束112被饋送到掃描平臺(tái)114之后置放光楔210，例如其中 第一表面212被置放于在輸入光束112到達(dá)掃描平臺(tái)114之前的光路中，并且其中第二表 面213被置放于在輸入光束到達(dá)掃描平臺(tái)114之后的光路中。然而，這些僅僅是可以置放 光楔210的實(shí)例，并且所要求的主題的范圍在這些方面不受限制。在如在圖2中所示的一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，可以在除了光楔210之外并且與光 楔210相組合的情況下利用第二光楔218。相組合地利用兩個(gè)或者更多光楔可以提供投影 圖像的進(jìn)一步優(yōu)化。例如，第一光楔210可以提供在投影圖像中的大部分或者基本上所有 的畸變校正。然而，在多色投影儀例如紅-綠-藍(lán)(RGB)投影儀中，這種畸變校正和/或調(diào) 節(jié)還可以沿著畸變得以校正和/或調(diào)節(jié)的軸線引入色像差，所述軸線可以例如是用于如在 以下圖8中所示并且相對于該圖描述的、微笑(smile)畸變的校正的Y軸線。在這種實(shí)施例 中，可以利用第二光楔218校正和/或以其它方式調(diào)節(jié)由第一光楔210引入的這個(gè)色像差。 在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，單獨(dú)地或者與經(jīng)由第二光楔218的、色像差的至少部分校正和/ 或調(diào)節(jié)相組合地，由第一光楔210引入的色像差可以經(jīng)由投影圖像的逐個(gè)像素調(diào)節(jié)以電的 方式而被至少部分地或者完全地校正和/或調(diào)節(jié)。在其中利用第二光楔218校正和/或調(diào) 節(jié)由第一光楔210引入的色像差的實(shí)施例中，第二光楔218可以包括具有不同于第一光楔 210的折射率的倒轉(zhuǎn)楔體。這種第二光楔218還可以具有與第一光楔210的楔角不同的楔 角?？梢韵鄬τ诘谝还庑?10的楔角調(diào)節(jié)第二光楔218的楔角，或者反過來也可以，以相對于色像差的校正和/或調(diào)節(jié)而優(yōu)化所產(chǎn)生的畸變校正和/或調(diào)節(jié)。通常，第二光楔218可 以與第一光楔210的光學(xué)性質(zhì)相比具有相反的或者有效地相反的光學(xué)性質(zhì)，并且可以包括 例如被設(shè)計(jì)成具有這種光學(xué)性質(zhì)的冕牌和燧石玻璃，這種光學(xué)性質(zhì)例如是與第一光楔210 相比具有較低折射率和/或較高阿貝數(shù)。可替代地，第二光楔218可以包括與第一光楔210 相同或者幾乎相同類型的玻璃或者光學(xué)材料，并且第一光楔210可以被設(shè)計(jì)成過度校正和 /或過度調(diào)節(jié)圖像畸變，并且然后第二光楔218可以被設(shè)計(jì)成例如通過具有比第一光楔210 的楔角更小的楔角而以較小的量反向校正和/或調(diào)節(jié)畸變，以在第一光楔210和第二光楔 218的組合中達(dá)到所期望量的總體畸變校正和/或調(diào)節(jié)，同時(shí)還沿著相等或者幾乎相等但 是相反的方向具有相同或者幾乎相同的量的色像差。通常，可以經(jīng)由楔角控制光學(xué)畸變校 正和/或調(diào)節(jié)的量，并且可以經(jīng)由楔體材料性質(zhì)例如折射率控制色像差校正和/或調(diào)節(jié)，并 且所要求的主題的范圍在這方面不受限制。另外，在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，第一光楔210 和/或第二光楔218之一或者這兩者可以被具有類似的畸變校正和/或調(diào)節(jié)性質(zhì)和/或色 像差校正和/或調(diào)節(jié)性質(zhì)的其它光學(xué)元件替代。例如，光楔210和/或光楔218可以可替 代地包括畸變光柵或者梯度折射率GRIN光學(xué)裝置，或者其它類似的光學(xué)元件，并且所要求 的主題的范圍在這方面不受限制?，F(xiàn)在參考圖4，將討論掃描光束顯示器的圖，該圖根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例示出顯 示器的元件相對于光束角度的相對角度。如在圖4中所示，掃描平臺(tái)114可以以不垂直于掃 描平臺(tái)114的反射表面或者掃描平面的饋送角度接收被掃描的光束112。換言之，光束112 的饋送角度可以相對于與掃描平臺(tái)112的掃描平面垂直的直線被“離軸(off axis)”地設(shè) 置。進(jìn)而，掃描平臺(tái)112自身可以相對于水平參考平面和/或相對于與水平參考平面垂直 的直線，或者垂直參考平面被以一定角度置放。同樣地，光楔210可以相對于水平參考平面 和/或相對于與水平參考平面垂直的直線，或者垂直參考平面被以一定角度置放。在一個(gè) 或者多個(gè)實(shí)施例中，可以以從掃描平臺(tái)114的掃描表面離軸大約12. 5度的饋送角度設(shè)置被 掃描的光束112，可以從水平參考平面以大約4度的傾斜角度置放掃描平臺(tái)114，并且可以 基本垂直于水平參考平面地置放光楔210的第一表面212，其中光楔210的第一表面212相 對于光楔210的第二表面214被以大約8. 5度置放。通常，光楔210的楔角即在表面212和 表面214之間的角度至少部分地是被應(yīng)用于掃描平臺(tái)114的輸入光束112的饋送角度的函 數(shù)?？商娲?，光楔210的第二表面214可以被基本垂直于水平參考平面地置放。在這種 布置中，當(dāng)跨過圖像表面410或者圖像平面地掃描輸出光束216時(shí)，在不利用光楔210的情 況下，圖像可以具有大約13%的畸變，并且當(dāng)利用光楔210時(shí)可以具有大約5%的畸變。因 此，在這種布置中，在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，可以利用光楔210減輕在掃描光束顯示器中 的圖像畸變，但是所要求的主題的范圍在這些方面不受限制。在以下圖5、圖6和圖7中示 出并且關(guān)于所述的圖描述了利用光楔210以改變圖像畸變的掃描光束顯示器的一個(gè)實(shí)例。現(xiàn)在參考圖5、圖6和圖7，將分別地討論根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例的、利用光楔的 掃描光束顯示器的等角視圖、正視圖和頂平面視圖。圖5、圖6和圖7示意如何可以在單一 模塊中有形地體現(xiàn)圖1的掃描光束顯示器100，可以在較小形狀因子的裝置例如蜂窩電話、 音樂和/或視頻播放器、移動(dòng)計(jì)算機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理等等中利用該單一模塊。在掃描光束顯 示器100的這種布置中，掃描平臺(tái)114可以被布置在掃描光束顯示器100的模塊內(nèi)，其中射 出掃描平臺(tái)114的輸出光束IM可以通過光楔210以使得射出掃描光束顯示器100的出射光束216的路徑或者多個(gè)路徑得以更改，這使得所產(chǎn)生的投影圖像的畸變得以更改。在其 中掃描光束顯示器100包括成像單元的一個(gè)或者多個(gè)可替代實(shí)施例中，光射線的方向可以 被反轉(zhuǎn)從而可以更改進(jìn)入光楔210的光束216的射線的方向，以更改經(jīng)由掃描平臺(tái)114捕 捉的圖像的畸變。在例如其中掃描光束顯示器包括條形碼閱讀器或者照相機(jī)的這種成像單 元實(shí)施例中，圖1的光源110可以包括光檢測器或者成像陣列，但是所要求的主題的范圍在 這些方面不受限制。因此，在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，光楔210能夠更改和/或減輕或者校 正在所顯示的或者所捕捉的圖像中的畸變。關(guān)于以下圖8討論了其中光楔210能夠減輕或 者消除在掃描光束顯示器中的梯形畸變或者微笑畸變的實(shí)例?，F(xiàn)在參考圖8，將討論根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例示意經(jīng)由光楔27的圖像畸變的更 改的圖。如在圖8中所示，可以如例如在圖1中示出地由掃描光束顯示器100顯示圖像800。 圖像800可以具有由于向掃描平臺(tái)114離軸地饋送光束而產(chǎn)生的圖像畸變，該畸變是由離 軸輸入光束引起的掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平面的變換引起的。由于離軸光束饋 送引起的這種圖像畸變可以產(chǎn)生也被稱作梯形或者微笑畸變的、圖像800的非正方形布局 802。當(dāng)圖像800實(shí)際上被投影到平坦表面上時(shí)，這種圖像畸變可以類似于被投影到球形表 面上的直線圖像中的變化。微笑畸變還可以被稱作由圖像數(shù)據(jù)從極坐標(biāo)到直線或者笛卡爾 坐標(biāo)的重映射而引起的重映射畸變，其中重映射畸變是從掃描平臺(tái)114離軸地饋送輸入光 束112的角度的函數(shù)。在一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例中，如以上所討論的那樣，光楔210能夠校正 當(dāng)掃描平臺(tái)114離軸地饋送輸入光束112時(shí)的這種圖像畸變，從而經(jīng)由相對于光楔210的 表面214基本楔形布置的表面212產(chǎn)生圖像800的基本正方形的直線布局804。在一個(gè)或 者多個(gè)實(shí)施例中，當(dāng)未使用光楔210時(shí)，如在圖8中所示的這種微笑畸變的一個(gè)實(shí)例可以代 表圖像800的、大約13%的畸變。通過在掃描光束顯示器100中使用光楔210，畸變可以被 降低為大約5%或者更低，但是所要求的主題的范圍在這方面不受限制。雖然已經(jīng)以特定的具體程度描述了所要求的主題，但是應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，在不偏離所 要求的主題的精神和/或范圍的前提下，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以更改其元件。相信與用于 MEMS掃描顯示系統(tǒng)等的畸變更改光楔和/或很多它的附隨設(shè)備有關(guān)的主題根據(jù)前述說明 將得到理解，并且將明顯的是，在不偏離所要求的主題的范圍和/或精神的前提下，或者在 并不損害所有的它的材料優(yōu)點(diǎn)、和僅僅是其解釋實(shí)施例的、此前描述的形式的前提下，和/ 或進(jìn)一步地在不對此提供顯著改變的前提下，可以在其構(gòu)件的形式、構(gòu)造和/或布置方面 作出各種改變。權(quán)利要求意在涵蓋和/或包括這種改變。
權(quán)利要求
1.一種設(shè)備，包括掃描平臺(tái)，所述掃描平臺(tái)能夠掃描被離軸地饋送到所述掃描平臺(tái)的輸入光束以提供掃 描光束輸出，從而顯示投影圖像；和光學(xué)元件，所述光學(xué)元件能夠沿著至少一個(gè)或者多個(gè)軸線更改所述投影圖像的畸變， 所述畸變是由離軸輸入光束引起的所述掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平面的變換產(chǎn) 生的。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中能夠更改所述投影圖像的畸變的所述光學(xué)元件包括畸 變光柵、GRIN光學(xué)裝置或者光楔，或其組合，所述光楔包括棱鏡、圓錐、角錐、平截頭體或者 光學(xué)材料的一個(gè)或者多個(gè)表面，或其組合，所述光楔包括第一表面和相對于所述第一表面 以非平行角度置放的第二表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中能夠更改所述投影圖像的畸變的所述光學(xué)元件包括組 合的兩個(gè)或者更多光學(xué)元件。
4.根據(jù)權(quán)利要求2的設(shè)備，其中，作為將所述輸入光束離軸地饋送到所述掃描平臺(tái)的 角度的函數(shù)而選擇所述第一表面相對于所述第二表面的所述非平行角度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中所述掃描平臺(tái)包括微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)掃描器、衍射光 柵、移動(dòng)光柵、光閥、旋轉(zhuǎn)反射鏡、自旋硅裝置或者飛點(diǎn)投影儀，或其組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中能夠更改所述投影圖像的畸變的所述光學(xué)元件能夠在 所述投影圖像中減輕或者消除微笑畸變或者梯形畸變，或其組合。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中能夠更改所述投影圖像的畸變的所述光學(xué)元件能夠在 所述投影圖像中增加畸變、減小畸變、校正畸變或者消除畸變，或其組合。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的設(shè)備，其中能夠更改所述投影圖像的畸變的所述光學(xué)元件完全地 在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之前，或者至少部分地在所述輸入光束被饋送到所 述掃描平臺(tái)之前得以置放，或者完全地在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之后，或者 至少部分地在所述輸入光束被饋送到所述掃描元件之后得以置放，或其組合。
9.一種掃描光束顯示器，包括光源，所述光源能夠產(chǎn)生作為用于掃描的輸入光束的光束；掃描平臺(tái)，所述掃描平臺(tái)能夠掃描被離軸地饋送到所述掃描平臺(tái)的輸入光束以提供掃 描光束輸出，從而顯示投影圖像；顯示控制器，所述顯示控制器用于控制所述掃描平臺(tái)和所述光源以響應(yīng)于所述掃描平 臺(tái)的掃描行為和所述光源的調(diào)制而產(chǎn)生所述投影圖像；和光楔，所述光楔能夠更改所述投影圖像的畸變，所述畸變是由離軸輸入光束引起的所 述掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平面的變換產(chǎn)生的，所述光楔包括第一表面和相對于 所述第一表面以非平行角度置放的第二表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的掃描光束顯示器，其中所述光楔包括棱鏡、圓錐、角錐、平截頭體 或者光學(xué)材料的一個(gè)或者多個(gè)表面，或其組合。
11.根據(jù)權(quán)利要求9的掃描光束顯示器，其中所述光楔包括組合的兩個(gè)或者更多光學(xué) 元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求9的掃描光束顯示器，其中作為將所述輸入光束離軸地饋送到所述 掃描平臺(tái)的角度的函數(shù)而選擇所述第一表面相對于所述第二表面的所述非平行角度。
13.根據(jù)權(quán)利要求9的掃描光束顯示器，其中所述光楔完全地在所述輸入光束被饋送 到所述掃描平臺(tái)之前，或者至少部分地在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之前得以置 放，或者完全地在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之后，或者至少部分地在所述輸入 光束被饋送到所述掃描元件之后得以置放，或其組合。
14.一種用于更改掃描光束顯示器中的重映射畸變的方法，所述方法包括向掃描平臺(tái)離軸地饋送將被掃描的輸入光束，從而以表示投影圖像的掃描圖案產(chǎn)生輸 出光束；和使用光楔重定向所述輸入光束或者所述輸出光束，或其組合，以更改所述投影圖像的 重映射畸變，所述畸變是由離軸輸入光束引起的所述掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平 面的變換產(chǎn)生的。
15.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，所述重定向包括完全地在所述輸入光束被饋送到所述 掃描平臺(tái)之前，或者至少部分地在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之前重定向所述輸 入光束，或者完全地在所述輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之后，或者至少部分地在所述 輸入光束被饋送到所述掃描平臺(tái)之后重定向所述輸出光束，或其組合。
全文摘要
簡要地，根據(jù)一個(gè)或者多個(gè)實(shí)施例，楔體(210)在MEMS掃描顯示系統(tǒng)(100)中被置放在MEMS掃描器(114)之后，楔體(210)重定向掃描圓錐同時(shí)拉伸和/或擠壓圖像以減小或者消除在掃描投影儀中固有的畸變，該畸變是由離軸輸入光束引起的掃描光束的軌跡和從掃描鏡到圖像平面的變換產(chǎn)生的。
文檔編號(hào)G02B26/10GK102150070SQ200980135710
公開日2011年8月10日 申請日期2009年8月14日 優(yōu)先權(quán)日2008年9月11日
發(fā)明者喬舒亞·M·胡德曼, 喬舒亞·O·米勒 申請人:微視公司