專利名稱：：成像光學(xué)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及具有多個反射鏡的成像光學(xué)系統(tǒng)，其將物平面中的物場成像到像平面中的像場。
背景技術(shù)：
：由EP1093021A2和WO2006/069725A1已知此類型的成像光學(xué)系統(tǒng)。由US2007/0035814AUUS7，186，983B2、US2007/0233112A1以及W02006/037651A1已知另外的成像光學(xué)系統(tǒng)。由US6，172，825B1已知一種成像光學(xué)系統(tǒng)，其中所示的成像光學(xué)系統(tǒng)的入射光瞳面的位置由孔徑光闌(aperturediaphragm)或光圈(stop)(AS)的位置產(chǎn)生。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種開頭所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)，使得照明系統(tǒng)(其構(gòu)件為成像光學(xué)系統(tǒng))的傳輸損耗維持盡可能低。根據(jù)本發(fā)明通過一種開頭所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)此目的，其中在垂直于物平面并穿過最緊鄰物場的反射鏡的幾何中心點的連接軸上，最緊鄰物場的反射鏡被布置成與物場間隔一間距，該間距大于成像光學(xué)系統(tǒng)的入射光瞳面離物場的間距，所述光瞳面位于物場上游的成像光的光束路徑中。根據(jù)本發(fā)明通過具有多個反射鏡的成像光學(xué)系統(tǒng)另外實現(xiàn)此目的，該成像光學(xué)系統(tǒng)將物平面中的物場成像到像平面中的像場，其中-具有入射光瞳面，其位于物場上游的成像光的光束路徑中，其中成像光在物平面上被反射；-具有連接軸，其垂直于物平面并延伸通過入射光瞳的幾何中心點；-其中連接軸與入射光瞳面的交叉點比中心物場點的主光束與連接軸的第一交叉點更靠近物平面，第一交叉點位于物場下游的成像光的光束路徑中；-其中反射鏡的至少一個具有通路開口，以使成像光通過。在此類型的成像光學(xué)系統(tǒng)中，當使用被成像的反射物時，光學(xué)構(gòu)件可被布置在連接軸上的物場的上游的光束路徑中。結(jié)果，布置于成像光學(xué)系統(tǒng)上游的光束路徑中的光學(xué)照明系統(tǒng)的照明物場所需的構(gòu)件數(shù)目可被減少，因此照明光的總損耗被減小。本發(fā)明的另一目的是提供一種開頭所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)，使得鄰近場的反射鏡的變形盡可能小地影響成像光學(xué)系統(tǒng)的成像性能。根據(jù)本發(fā)明通過開始所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)此目的，成像光學(xué)系統(tǒng)具有與第一反射鏡間隔開的另一可變形反射鏡，第一反射鏡最緊鄰兩個場中的一個且稱為相鄰反射鏡(neighboringmirror)，另一可變形反射鏡被布置于與成像光學(xué)系統(tǒng)中的相鄰反射鏡的布置平面光學(xué)共軛的平面中。成像光學(xué)系統(tǒng)的相對于彼此光學(xué)共軛的平面的示例為成像光學(xué)系統(tǒng)的場平面或成像光學(xué)系統(tǒng)的光瞳面。關(guān)于成像光束的光束形式及角度分布彼此對應(yīng)的所有平面為相對于彼此光學(xué)共軛的平面。根據(jù)本發(fā)明，認識到相鄰反射鏡的變形(deformation)對成像光學(xué)系統(tǒng)的性質(zhì)造成不希望的改變，而在相對于相鄰反射鏡的光學(xué)共軛平面中的可變形反射鏡(deformablemirror)由于變形對成像性質(zhì)的改變具有良好的補償。在此情況下，可能由多種原因引起的相鄰反射鏡的變形可被補償。相鄰反射鏡由于其自身重量引起的變形(換句話說，重力變形)可被補償。通過布置于光學(xué)共軛平面中的其他反射鏡也可補償相鄰反射鏡的變形，這些變形是由相鄰反射鏡的振動產(chǎn)生。在此情況下，可變形反射鏡可裝配有驅(qū)動元件，其容許與相鄰反射鏡的振動同步的變形。例如，可變形反射鏡在對應(yīng)于相鄰反射鏡的振動帶寬的帶寬是可驅(qū)動的。可變形反射鏡的可用于此的驅(qū)動元件的示例在US7，443，619B2被描述。這里公開的用于反射鏡的反射面的變形的驅(qū)動元件可在一帶寬工作，該帶寬如此高以至于可因此補償由相鄰反射鏡的振動引發(fā)的變形。具體地，可使用洛倫茲(Lorentz)驅(qū)動器。借助于布置于光學(xué)共軛平面中的可變形反射鏡也可補償相鄰反射鏡的熱變形。本發(fā)明的另一目的是提供一種開頭所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)，使得場相鄰反射鏡(fieldadjacentmirror)的反射面與相鄰場間隔盡可能小的間距。根據(jù)本發(fā)明通過開頭所述類型的成像光學(xué)系統(tǒng)實現(xiàn)此目的，其中最緊鄰兩個場中的一個且稱為相鄰反射鏡的反射鏡的支撐體由其彈性模量(modulusofelasticity)為其他反射鏡的至少一個的支撐體材料的彈性模量的至少兩倍大的材料形成。根據(jù)本發(fā)明，認知到在相鄰反射鏡的材料選擇中，當然可以使用具有非常高的彈性模量的材料。這容許相鄰反射鏡裝配非常薄的支撐體，該支撐體因此可靠近場。由于相鄰反射鏡的支撐體材料的彈性模量高，盡管支撐體被選擇得非常薄，相鄰反射鏡仍具有足夠的穩(wěn)定性。另一方面，可能較厚的，換句話說較不薄的其他反射鏡的支撐體可由彈性模量較低的材料制成。因此，這些其他反射鏡的材料選擇可從其他觀點考慮。這些其他反射鏡可全部由相同材料制成，但這并不是強制性的。相鄰反射鏡的彈性模量可至少為所有其他反射鏡的支撐體材料的最大彈性模量的兩倍大。因此，關(guān)于彈性模量與相鄰反射鏡的材料比較的比較材料(comparativematerial)，則為具有最大彈性模量的其他反射鏡的材料。當使用成像光學(xué)系統(tǒng)作為投射透鏡系統(tǒng)，從而將布置于物場中的結(jié)構(gòu)傳送到像場中時，相鄰反射鏡最緊鄰成像光學(xué)系統(tǒng)的像場。成像光學(xué)系統(tǒng)的另一應(yīng)用為顯微透鏡系統(tǒng)。在此情況下，相鄰反射鏡最緊鄰成像光學(xué)系統(tǒng)的物場。一般地，相鄰反射鏡最緊鄰成像光學(xué)系統(tǒng)的高孔徑側(cè)的場。因此，成像光學(xué)系統(tǒng)沒有其他反射鏡具有與此場間隔更小的間距。根據(jù)以上所述的本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)的特征也可組合實施。相鄰反射鏡可由彈性模量至少為150GPa的材料制成。此類型的彈性模量容許相鄰反射鏡的支撐體具有非常薄的設(shè)計。相鄰反射鏡的支撐體優(yōu)選由彈性模量至少為200GPa的材料制成，更優(yōu)選至少為250GPa，更優(yōu)選為300GPa，更優(yōu)選為350GPa，以及更優(yōu)選為400GPao相鄰反射鏡的支撐體也可由碳化硅(siliconcaribide)制成。例如，此材料容許通過石墨形成體的形成方法制造非常薄的支撐體。如果對實現(xiàn)光學(xué)成像品質(zhì)有需要，支撐體隨后可通過已知的表面加工方法被進一步加工。相鄰反射鏡的支撐體的可選材料為SiSiC、CSiC、以及SiN0成像光學(xué)系統(tǒng)可具有與相鄰反射鏡間隔開的可變形反射鏡。借助于此類型可變形反射鏡可補償相鄰反射鏡的熱變形，該熱變形例如源自剩余吸收(residualabsorption)成像光導(dǎo)致的相鄰反射鏡的熱負載?？勺冃畏瓷溏R可布置于與成像光學(xué)系統(tǒng)中的相鄰反射鏡的布置平面光學(xué)共軛的平面中。通過補償可變形反射鏡的變形，這簡化了對相鄰反射鏡的熱變形的補償，這是由于相鄰反射鏡的測量變形可容易地轉(zhuǎn)變成可變形反射鏡的補償變形。在此情況下，使成像光學(xué)系統(tǒng)的單個反射鏡成為可變形反射鏡足以補償相鄰反射鏡的熱變形?？商鎿Q地，自然也可以目標方式使成像光學(xué)系統(tǒng)的多個反射鏡成為可變形反射鏡。成像光學(xué)系統(tǒng)除相鄰反射鏡之外具有的反射鏡可由熱膨脹系數(shù)最高為lxlO—WK的材料構(gòu)成。此類材料的示例為Zerodur以及ULE。由這些材料制成的反射鏡的熱負載不會導(dǎo)致任何的或僅有微小的其反射面的變形。若成像光學(xué)系統(tǒng)正好具有六個反射鏡，這容許既緊湊又相對于其成像誤差被良好地校正的成像光學(xué)系統(tǒng)。成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個反射鏡的反射面可設(shè)計為可由旋轉(zhuǎn)對稱的非球面描述的面。結(jié)果，可造成良好的成像誤差校正。成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個反射鏡的反射面可設(shè)計為不能由旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形式表面。使用自由形式表面替代具有旋轉(zhuǎn)對稱軸的反射面提供新的設(shè)計自由度，導(dǎo)致成像光學(xué)系統(tǒng)具有不能由旋轉(zhuǎn)對稱反射面實現(xiàn)的特征組合。適合用于根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)中的自由形式表面從US2007/0058269A1以及US2008/0170310A1已知。成像光學(xué)系統(tǒng)的至少一個反射鏡可具有通路開口以使成像光通過。這容許設(shè)計具有非常大的數(shù)值孔徑的成像光學(xué)系統(tǒng)。當使用成像光學(xué)系統(tǒng)作為投射透鏡系統(tǒng)時，可在成像光的給定波長達到非常高的結(jié)構(gòu)分辨率。具有根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)、照明和成像光的光源、并具有將照明光導(dǎo)引到成像光學(xué)系統(tǒng)的物場的照明光學(xué)系統(tǒng)的投射曝光系統(tǒng)的優(yōu)點，尤其是其中光學(xué)照明系統(tǒng)的光瞳分面鏡布置于成像光學(xué)系統(tǒng)的入射光瞳面的投射曝光系統(tǒng)的優(yōu)點，對應(yīng)于上述涉及根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)的內(nèi)容。在光瞳分面鏡位于成像光學(xué)系統(tǒng)的入射光瞳面的布置中，光瞳分面鏡可將照明和成像光直接導(dǎo)引到物場。位于光瞳分面鏡與物場之間的光學(xué)構(gòu)件因此是不必要的，且這增加了投射曝光系統(tǒng)的傳輸。當照明和成像光通常只能夠以有損失的方式被導(dǎo)引，例如對于5nm至30nm范圍的EUV波長時，這是尤其有利的。如果根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)被如此設(shè)計在垂直物平面并延伸通過最緊鄰物場的反射鏡的幾何中心點的連接軸上，最緊鄰物場的反射鏡被布置成與物場間隔一間距，該間距大于位于成像光學(xué)系統(tǒng)的物場上游的成像光的光束路徑中的入射光瞳面離物場的間距，當使用被成像的反射物時，布置于入射光瞳面中的光瞳分面鏡可設(shè)置于連接軸上，并因此緊湊地容納于成像光學(xué)系統(tǒng)的其他元件之間。當根據(jù)本發(fā)明的成像光學(xué)系統(tǒng)被如下設(shè)計時，這同樣適用，該設(shè)計為連接軸(其垂直物平面并通過入射光瞳的幾何中心點)與入射光瞳面的交叉點比中心物場點的主光束與連接軸的第一交叉點更靠近物平面，該第一交叉點位于中心物場點的主光束的物場后的成像光的光束路徑中。這里應(yīng)注意，由于照射或成像光的光束路徑在物平面被反射的事實，雖然入射光瞳面位于物平面上游的光束路徑中，但是入射光瞳面位于面對像平面的物平面?zhèn)惹彝ǔＴ谖锲矫媾c像平面之間。投射曝光系統(tǒng)的光源可為寬帶并例如具有大于lnm、大于IOnm或大于IOOnm的帶寬。此外，投射曝光系統(tǒng)可被設(shè)計使得其可由不同波長的光源操作。具有光瞳分面鏡的光學(xué)照明系統(tǒng)例如從US2007/0223112A1已知。如上所述的對應(yīng)優(yōu)點可適用于制造微結(jié)構(gòu)構(gòu)件的方法以及由此產(chǎn)生的微結(jié)構(gòu)或納米結(jié)構(gòu)構(gòu)件，此方法具有以下方法步驟-提供掩模母版和晶片；-借助于根據(jù)本發(fā)明的投射曝光系統(tǒng)，將掩模母版上的結(jié)構(gòu)投射到晶片的光敏層上；-在晶片上產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)。以下將借助于附圖詳細描述實施例，其中圖1示意地顯示微光刻投射曝光系統(tǒng)；圖2顯示包含彼此間隔開的場點的成像光束路徑的子午截面，通過根據(jù)圖1的投射曝光系統(tǒng)的光學(xué)投射系統(tǒng)的實施例；以及圖3示意地顯示在具有另一實施例的光學(xué)投射系統(tǒng)的投射曝光系統(tǒng)中，通過投射曝光系統(tǒng)的照明系統(tǒng)補充的光束路徑。具體實施例方式光刻投射曝光系統(tǒng)1具有照明光的光源2。光源2為EUV光源，其產(chǎn)生5nm至30nm之間的波長范圍的光。其他EUV波長亦為可能。一般地，任何波長，例如可見光波長甚至也可用作投射曝光系統(tǒng)1中被導(dǎo)引的照明光。照明光3的光束路徑非常示意性地顯示于圖1。光學(xué)照明系統(tǒng)6用于將照明光3導(dǎo)引到物平面5的物場4。通過光學(xué)投射系統(tǒng)7以預(yù)定的縮小比例在像平面9的像場8中成像物場4。光學(xué)投射系統(tǒng)7縮小了8倍。其他成像比例亦為可能，例如4χ、&、6χ、或其他大于8x的成像比例。對于EUV波長的照明光，8x的成像比例特別合適，這是因為物側(cè)的入射角可因此在反射掩模上保持得小。對于像側(cè)孔徑NA=0.5的光學(xué)投射系統(tǒng)7，以8x的成像比例，可實現(xiàn)小于6°的物側(cè)照射角。像平面9布置于光學(xué)投射系統(tǒng)7中，平行于物平面5。反射掩模10(也稱為掩模母版)的與物場4相符的部分被成像于此。由于掩模母版10的反射效應(yīng)，照明光3在物平面5上被反射。在晶片形式的基板11的表面上發(fā)生成像，該基板由基板承載器12支撐。圖1示意地顯示在掩模母版10與光學(xué)投射系統(tǒng)7之間，照明光3的光束13入射光學(xué)投射系統(tǒng)7，且在光學(xué)投射系統(tǒng)7與基板11之間，照明光3的光束14從光學(xué)投射系統(tǒng)7出射。根據(jù)圖2的光學(xué)投射系統(tǒng)7的像場側(cè)數(shù)值孔徑NA為0.50。為了有助于描述投射曝光系統(tǒng)1，在圖中給出笛卡兒xyz坐標系統(tǒng)，圖中所示組件的各位置關(guān)系出自該坐標系統(tǒng)。在圖1中，X方向垂直進入圖平面，y方向向右，而Z方向向下。投射曝光系統(tǒng)1為掃描曝光機類型。在投射曝光系統(tǒng)1操作期間，掩模母版10與基板11皆在y方向被掃描。圖2顯示光學(xué)投射系統(tǒng)7的光學(xué)設(shè)計。分別顯示三個單獨的光束15的光束路徑，其由圖2中疊置并在y方向彼此間隔開的五個物場點發(fā)出，屬于這五個物場點中的一點的三個單獨的光束15分別與五個物場點的三個不同照射方向有關(guān)。通過五個物場點的每個的上彗形光束(comabeam)、下彗形光束以及主光束表示這三個照射方向。從物平面5出發(fā)，單獨的光束15首先被第一反射鏡Ml反射，隨后依光束路徑順序被以下指定的其他反射鏡(M2、M3、M4、M5及M6)反射。在每種情況下，顯示用以計算反射鏡Ml至M6的反射面形式所需的數(shù)學(xué)母面(parentsurface)。在實際的光學(xué)投射系統(tǒng)7中，反射鏡Ml至M6的反射面實際僅在它們被單獨的光束15照射之處出現(xiàn)。根據(jù)圖2的光學(xué)投射系統(tǒng)7因此具有六個反射鏡。這些反射鏡具有對照明光3的波長的高反射的涂層，如果由于波長(例如EUV的波長)這是必需的話。具體地，反射鏡Ml至M6具有多反射涂層，以最優(yōu)化它們對照到的照明光3的反射。尤其當使用EUV照明光3時，反射角(換句話說單獨的光束15照射到反射鏡Ml至M6表面的角度)越接近垂直入射，反射更好。光學(xué)投射系統(tǒng)7對所有的單獨光束15總體具有小反射角。在光學(xué)照明系統(tǒng)6及光學(xué)投射系統(tǒng)7中，也可導(dǎo)引彼此波長非常不同的輻射，這是因為這些光學(xué)系統(tǒng)具有實質(zhì)的消色差性質(zhì)(achromaticproperties)。因此例如可在這些光學(xué)系統(tǒng)中的調(diào)整激光器(adjustmentlaser)或自動調(diào)焦系統(tǒng)，引導(dǎo)與其工作波長非常不同的波長，該波長與照明光同時起作用。因此，調(diào)整激光器可在632.8nm、248nm或193nm工作，而與5至30nm范圍的照明光同時起作用。反射鏡M3具有凸狀基本形狀，換句話說可由凸形最佳適應(yīng)表面(bestadaptedsurface)描述。在下面的描述中，此類型的反射鏡簡稱為凸面反射鏡，而可由凹形最佳適應(yīng)表面描述的反射鏡則簡稱為凹面反射鏡。凸面反射鏡M3確保光學(xué)投射系統(tǒng)7的良好的佩茲伐(Petzval)校正。光學(xué)投射系統(tǒng)7的總長度，換句話說物平面5與像平面9之間的間距，在光學(xué)投射系統(tǒng)7中為1521mm。屬于五個物場點的特定照射方向的單獨的光束15在光學(xué)投射系統(tǒng)7的光瞳面16中結(jié)合。光瞳面16被布置成鄰近的其后的光束路徑中的反射鏡M3。反射鏡Ml至M4在中間像平面17中成像物平面5。光學(xué)投射系統(tǒng)7的中間像側(cè)的數(shù)值孔徑約為0.2。反射鏡Ml至M4形成光學(xué)投射系統(tǒng)7的第一部分成像光學(xué)系統(tǒng)，具有約為3.2x的縮小成像比例。后面的反射鏡M5及M6形成光學(xué)投射系統(tǒng)7的另一部分成像光學(xué)系統(tǒng)，具有約為2.的縮小成像比例。反射鏡M6的通路開口18形成在反射鏡M5與M4之間的照明光3的光束路徑中，通路開口18在中間像平面17上游并鄰近中間像平面17，照明或成像光3通過通路開口18傳遞從第四反射鏡M4到第五反射鏡M5的反射。第五反射鏡M5進而具有中心通路開口19，光束14通過中心通路開口19在第六反射鏡M6與像平面9之間通行。在第五反射鏡M5與第六反射鏡M6之間的光學(xué)路徑中的是光學(xué)投射系統(tǒng)7的另一光瞳面20，其與第一光瞳面16光學(xué)共軛。在另一光瞳面20的位置，存在從外側(cè)可物理接近(physicallyaccessible)的光闌平面?？讖焦怅@可布置在此光闌平面中。光學(xué)投射系統(tǒng)7在光瞳面16、20中的一個中具有在中心布置的遮蔽光闌(obscurationdiaphragm)或光圈(stop)。結(jié)果，與反射鏡M6、M5的中心通路開口18,19相關(guān)的投射光束路徑的部分光束被遮蔽。因此，光學(xué)投射系統(tǒng)7的設(shè)計亦稱為具有中心光瞳遮蔽(centralpupilobscuration)的設(shè)計。連接中心物場點與光學(xué)投射系統(tǒng)7的入射光瞳的中心照明點的特征單獨光束15，也被稱為中心場點的主光束。來自第六反射鏡M6的反射的中心場點的主光束與像平面9大約夾有直角，換言之，該中心場點的主光束大約平行于投射曝光系統(tǒng)1的ζ軸行進。此角度大于85°。像場8具有部分環(huán)形場的形狀，換言之由彼此平行的兩部分圓圈界定，且兩側(cè)邊緣也彼此平行。這些側(cè)邊緣在y方向行進。平行于χ方向，像場8具有13mm的范圍。平行于y方向，像場8具有Imm的范圍。通路開口19的半徑R對于無漸暈引導(dǎo)(vignetting-freeguidance)須滿足以下關(guān)系。R>YD+dw-NAD為像場8的對角線。4為反射鏡M5離像平面9的自由工作間距。此自由工作間距定義為像平面9與光學(xué)投射系統(tǒng)7最靠近的反射鏡所使用的反射表面的最靠近像平面9的部分之間的距離，換言之，在根據(jù)圖2的反射鏡M5的實施例中，NA為像側(cè)的數(shù)值孔徑。光學(xué)投射系統(tǒng)7的自由工作間距Clw為39mm。第五反射鏡M5為像平面9中最緊鄰像場8的反射鏡。因此，第五反射鏡M5以下也被稱為相鄰反射鏡。相鄰反射鏡M5具有圖2的虛線所示的支撐體21，在支撐體21上形成相鄰反射鏡M5的反射面。支撐體21由碳化硅制成。此材料具有400GI^的彈性模量(楊氏模量aoung，smodulus)。光學(xué)投射系統(tǒng)7的其他反射鏡Ml至M4及M6由Zerodur制成。此材料具有90GPa的彈性模量。因此，相鄰反射鏡M5的支撐體21的彈性模量比其他反射鏡Ml至M4及M6的支撐體22的材料的彈性模量的兩倍還大。支撐體21具有35mm的最大厚度，所以在遠離反射鏡M5的反射面的反射鏡M5的后部與像平面之間保持4mm的自由工作距離。光學(xué)投射系統(tǒng)7的反射鏡M5所用的反射面的最大直徑為285mm。因此，此最大直徑與反射鏡M5的支撐體21的厚度的比例為觀5/35=8.14。此類型的其他比例(以下也可稱為縱橫比)也可能在6至20的范圍。相鄰反射鏡M5的支撐體21也可由彈性模量至少為150GPa的不同材料制成。此類型材料的示例為彈性模量為395GPa的反應(yīng)限制(reactionbounded)的硅滲透碳化硅(SiSiC)、彈性模量為235GPa的碳纖維強化碳化硅(CSiC)以及彈性模量為294GPa的氮化硅(SiN)。在感興趣的室溫范圍下，Zerodur具有小于50xl0_9m/m/K的熱膨脹系數(shù)。反射鏡Ml至M4及M6的支撐體22也可由熱膨脹系數(shù)最多為lxl(Tm/m/K的不同材料構(gòu)造。此類型材料的另一示例為熱膨脹系數(shù)在感興趣的室溫范圍也低于50xl0_9m/m/K的ULE,且其具有69GPa的彈性模量。相鄰反射鏡M5的支撐體21的材料的熱膨脹系數(shù)顯著大于光學(xué)投射系統(tǒng)7的其他反射鏡的支撐體22的熱膨脹系數(shù)。例如，SiC在感興趣的室溫范圍具有2.6xlO_6m/m/K的熱膨脹系數(shù)。相鄰反射鏡M5的支撐體21的其他材料變體的熱膨脹系數(shù)可在lX10_6m/m/K與2.6xlO"6m/m/K之間的范圍內(nèi)變化。相鄰反射鏡M5在光學(xué)投射系統(tǒng)7的成像光束路徑的布置平面中，該布置平面與第三反射鏡M3所在的布置平面光學(xué)共軛。因此，位于成像光束路徑之間的反射鏡M4起作用使得大致將反射鏡M3及M5的這兩個布置平面成像在彼此中。第三反射鏡M3被設(shè)計為可變形反射鏡。在可變形反射鏡的一實施例中，第三反射鏡M3的反射面連接于多個驅(qū)動器23的后部，驅(qū)動器23垂直于反射面作用且通過信號線或信號總線M連接到控制裝置25。通過控制裝置25的驅(qū)動器23的單獨作用，可輸入反射鏡M3的反射面的形式。由于反射鏡M3設(shè)置于與相鄰反射鏡M5的位置光學(xué)共軛的位置，例如因為相鄰反射鏡M5的支撐體21的熱膨脹引起的相鄰反射鏡M5反射面的變形可由控制機構(gòu)25輸入的第三反射鏡M3的反射面在相反方向的變形而被補償。相鄰反射鏡M5的反射面的變形例如可被光學(xué)探測。相應(yīng)的探測方法是已知的。然后此變形探測的結(jié)果被用作控制裝置25的輸入信號以確定單獨的驅(qū)動器23的控制值。在此方式中，熱漂移，具體地由一方面支撐體21的材料與另一方面支撐體22的材料的不同的熱膨脹系數(shù)引起的熱漂移，可通過第三反射鏡M3的反射面變形被補償。第三反射鏡M3的反射面的目標變形也可自然地用于校正或補償其他成像誤差，例如用于Petzval校正。第三反射鏡M3的反射面可設(shè)計成封閉的反射面，此封閉的反射面的部分分別被機械性地連接到單獨的驅(qū)動器23?？蛇x擇地，可使第三反射鏡M3裝配有由多個反射鏡部分制成的反射面，該多個反射鏡部分可彼此分離移動，例如多反射鏡陣列或分面鏡(facetmirror)。然后反射鏡部分通過它們自己的驅(qū)動器23被獨立地傾斜或位移，因此通過全體的反射鏡部分形成的第三反射鏡M3的反射面的變形這樣發(fā)生。通過使用例如可布置于反射鏡基底與高反射涂層之間的可電子激活(electronicallyactivatable)的壓電層，具有高反射涂層的反射鏡的反射鏡面變形也是可能的?？墒褂抿?qū)動器使第三反射鏡M3變形或使第三反射鏡M3的反射鏡部分中的一個變形，例如US7，443，619中描述的驅(qū)動器。具體地，可使用洛倫茲(Lorentz)驅(qū)動器。第三反射鏡M3的驅(qū)動元件可在高帶寬被驅(qū)動。這使得也可利用可變形反射鏡M3補償相鄰反射鏡M5的振動或振蕩引起的變形成像影響。然后可變形反射鏡M3的變形與相鄰反射鏡M5的振蕩變形同步。這可通過對應(yīng)地感測掃描或采樣反射鏡M5的振蕩以及由此衍生的對可變形反射鏡M3的驅(qū)動元件的驅(qū)動來實現(xiàn)。反射鏡Ml至M6的反射面具有旋轉(zhuǎn)對稱的非球面形狀，其可利用已知的非球面方程(asphereequations)描述?？商鎿Q地，可將反射鏡Ml至M6的至少單獨一個設(shè)計成不能由旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形式表面(freeformsurface)。從US2007/0058269A1及US2008/0170310A1已知光刻投射曝光系統(tǒng)的光學(xué)投射系統(tǒng)的反射鏡反射面的此類型自由形式表面。相鄰反射鏡M5的支撐體21可通過CVD(化學(xué)氣相沉積)方法制造。這里，源自氣相的碳化硅被沉積于石墨制成的形成體上。在此情況下，形成體具有對應(yīng)于所需反射面的形狀。將支撐體21從形成體分離之后，可施加支撐體21的另一涂層，以改善支撐體21的反射面的可加工性和反射性。作為由彈性模量比其他反射鏡中的一個至少大兩倍的材料形成的結(jié)構(gòu)的替換，相鄰反射鏡M5也可由Zerodur或ULE(超低膨脹)玻璃制成。例如，鈦硅酸鹽玻璃可被用于此。相鄰反射鏡M5的變形及其對成像光學(xué)系統(tǒng)7的成像性質(zhì)的影響通過可變形第三反射鏡M3可被補償。圖3示意性顯示投射曝光系統(tǒng)1的另一實施例。以上參考圖1及圖2描述對應(yīng)的元件具有相同的參考標號且不再詳細討論。用于收集光源2的可用發(fā)射的集光器沈布置在光源2的下游。在掠入射(grazingincidence)下工作的光譜過濾器27進而設(shè)置在集光器沈的下游。場分面鏡(fieldfacetmirror)觀設(shè)置于濾光器27的下游。光瞳分面鏡(pupilfacetmirror)四設(shè)置于場分面鏡28的下游。此類型的分面鏡觀、四作為光學(xué)照明系統(tǒng)6的構(gòu)件的構(gòu)思基本上例如從US7，186，983B2已知。光瞳分面鏡四設(shè)置于光學(xué)投射系統(tǒng)31的入射光瞳面30的區(qū)域中，光學(xué)投射系統(tǒng)31可用作投射曝光系統(tǒng)1的光學(xué)投射系統(tǒng)7的替代。照明光3通過光瞳分面鏡四被直接引導(dǎo)到反射掩模母版10。在光瞳分面鏡四與掩模母版10之間，沒有其他的影響或偏轉(zhuǎn)照明光3的元件，例如具有掠入射的反射鏡。以下僅說明光學(xué)投射系統(tǒng)31與根據(jù)圖1及圖2的光學(xué)投射系統(tǒng)7在性質(zhì)上的不同之處。在光學(xué)投射系統(tǒng)31中，物平面5后的第一光瞳面16位于第二反射鏡M2與第三反射鏡M3之間。在這點上，例如，可設(shè)置孔徑光闌以限制照明光束。光學(xué)投射系統(tǒng)31的第二反射鏡M2及光瞳分面鏡四布置于連接軸32上。此連接軸定義為通過最緊鄰物平面5的反射鏡的幾何中心點且垂直于物平面5的軸。在根據(jù)圖3的實施例中，反射鏡M2為最緊鄰物平面5的反射鏡。第二反射鏡M2因此是光學(xué)投射系統(tǒng)31的沿連接軸32最緊鄰物場4的反射鏡。第二反射鏡M2沿連接軸32被布置為與物平面5間隔間距A，其大于入射光瞳面30離物平面5的間距B。間距A為704mm。間距B為472mm。光瞳分面鏡四與光學(xué)投射系統(tǒng)31的第二反射鏡M2背對背布置。因此，光學(xué)投射系統(tǒng)31提供容納光瞳分面鏡四于連接軸32上的結(jié)構(gòu)空間(constructionspace)。因此光瞳分面鏡四可被布置使得來自光瞳分面鏡四的照明光直接反射到反射掩模母版10。連接軸32也垂直于像平面9。連接軸32也延伸通過為最緊鄰像場8的反射鏡M5的幾何中心點。連接軸32與入射光瞳面30的交叉點C，比中心物場點的主光束33的照明和成像光3與連接軸32的光束路徑中的第一交叉點D，更靠近物平面5。由于掩模母版10的反射作用，盡管入射光瞳面布置于物平面5的上游光束路徑中，但是入射光瞳面位于物平面5與像平面9之間。由于交叉點C距離物平面5的間距比交叉點D距離物平面5的間距更小，因此產(chǎn)生了將光瞳分面鏡四移入光學(xué)投射系統(tǒng)31的結(jié)構(gòu)空間的可能性，而照明光3的照明光束路徑不會被光學(xué)投射系統(tǒng)31的構(gòu)件阻擋，且照明光3的成像光束路徑不會被光瞳分面鏡四阻擋。與光學(xué)投射系統(tǒng)7相比，在光學(xué)投射系統(tǒng)31中，反射鏡M3與物平面5間隔的間距比反射鏡Ml與物平面5的間距更小。光學(xué)投射系統(tǒng)31的像側(cè)數(shù)值孔徑NA為0.4。在光學(xué)投射系統(tǒng)31中，物場4在y方向具有2mm的范圍，且在χ方向具有^mm的范圍。光學(xué)投射系統(tǒng)31的縮小成像比例為4χ0以下借助于CodeV格式的兩個表再生光學(xué)投射系統(tǒng)31的光學(xué)數(shù)據(jù)。第一表在“半徑”欄中分別顯示反射鏡Ml至M6的曲率半徑。第三欄(厚度)描述在ζ方向上自物場5分別距離下面的表面的間距。第二表描述反射鏡Ml至M6的反射面的精確表面形式，常數(shù)K以及A到G被插入以下的箭頭高度ζ的方程。權(quán)利要求1.具有多個反射鏡(Ml至M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(31)，其將物平面(5)中的物場(4)成像到像平面(9)中的像場(8)，其特征在于在垂直于所述物平面(5)并延伸通過空間上最緊鄰所述物場⑷的所述反射鏡(M2)的幾何中心點的連接軸(32)上，最緊鄰所述物場⑷的所述反射鏡(M》布置成與所述物場(4)相距間距(A)，所述間距(A)大于所述成像光學(xué)系統(tǒng)的(31)的入射光瞳面(30)離所述物場的間距(B)，所述光瞳面(30)位于所述物場(4)上游的成像光(30)的光束路徑中。2.具有多個反射鏡(Ml至M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(31)，其將物平面(5)中的物場(4)成像到像平面(9)中的像場(8)，-具有入射光瞳面(30)，位于所述物場(4)上游的成像光C3)的光束路徑中，其中所述成像光(在所述物平面(上被反射，-具有連接軸(32)，垂直于所述物平面(5)并延伸通過入射光瞳的幾何中心點，-其中所述連接軸(3與所述入射光瞳面(30)的交叉點(C)比中心物場點的主光束(33)與所述連接軸(3的第一交叉點(D)更靠近所述物平面(5)，所述第一交叉點(D)在所述物場的下游的成像光(3)的光束路徑中；-其中所述反射鏡(M5、M6)的至少一個具有通路開口(18、19)，從而使成像光(3)通過。3.具有多個反射鏡(Ml至M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)，其將物平面(5)中的物場(4)成像到像平面(9)中的像場(8)，其特征在于所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)具有與第一反射鏡(M5)間隔開的另外的可變形反射鏡(M3)，所述第一反射鏡(M5)最緊鄰兩個場G、8)中的一個并被指定為相鄰反射鏡，所述可變形反射鏡(M3)被布置于與所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)中的所述相鄰反射鏡的布置平面光學(xué)共軛的平面中。4.具有多個反射鏡(Ml至M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)，其將物平面(5)中的物場(4)成像到像平面(9)中的像場(8)，其特征在于反射鏡(MQ的支撐體由其彈性模量為其他反射鏡(Ml至M4、M6)的至少一個的支撐體02)材料的彈性模量的至少兩倍大的材料制成，所述反射鏡(MO為最靠近兩個場G、8)中的一個的相鄰反射鏡。5.如權(quán)利要求4所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述相鄰反射鏡(M5)由彈性模量至少為150GPa的材料。6.如權(quán)利要求5所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述相鄰反射鏡(M5)由碳化硅制成。7.如權(quán)利要求4至6的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)具有與所述相鄰反射鏡(M5)間隔開的可變形反射鏡(M3)。8.如權(quán)利要求7所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述可變形反射鏡(M3)布置于與所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7)中的所述相鄰反射鏡(MQ的布置平面光學(xué)共軛的平面中。9.如權(quán)利要求4至8的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)除所述相鄰反射鏡(M5)之外具有的所述反射鏡(Ml至M4、M6)是由熱膨脹系數(shù)最高為lxlO_7m/m/K的材料構(gòu)成。10.如權(quán)利要求1至9的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于正好六個反射鏡(Ml至M6)。11.如權(quán)利要求1至10的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射鏡(Ml至M6)的所述反射面的至少一個被構(gòu)造為可由旋轉(zhuǎn)對稱非球面描述的表面。12.如權(quán)利要求1至10的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射鏡(Ml至M6)的所述反射面的至少一個被構(gòu)造為不能由旋轉(zhuǎn)對稱函數(shù)描述的自由形式表面。13.如權(quán)利要求1或3至12的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于所述反射鏡(Ml至M6)的至少其中一個具有通路開口(18、19)以使成像光(3)通過。14.一種光刻投射曝光系統(tǒng)，其特征在于-具有根據(jù)權(quán)利要求1至13的任一所述的成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)；-具有照明和成像光(3)的光源；-具有光學(xué)照明系統(tǒng)(6)，用于將所述照明光(2)導(dǎo)引到所述成像光學(xué)系統(tǒng)(7;31)的物場⑷。15.如權(quán)利要求14所述的投射曝光系統(tǒng)，其特征在于所述光學(xué)照明系統(tǒng)(6)的光瞳分面鏡09)被布置于所述成像光學(xué)系統(tǒng)(31)的入射光瞳面(30)中。16.一種制造微結(jié)構(gòu)元件的方法，具有以下方法步驟-提供掩模母版(10)和晶片(11)；-借助于根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的投射曝光裝置，將所述掩模母版(10)上的結(jié)構(gòu)投射到所述晶片(11)的光敏層上；以及-在所述晶片(11)上產(chǎn)生微結(jié)構(gòu)。17.一種根據(jù)權(quán)利要求16所述的方法制造的微結(jié)構(gòu)元件。全文摘要一種具有多個反射鏡(M1至M6)的成像光學(xué)系統(tǒng)(31)，將物平面(5)中的物場(4)成像到像平面(9)中的像場(8)，根據(jù)以下任一個構(gòu)造a)連接軸(32)，所述連接軸(32)垂直于物平面(5)并延伸通過空間上最緊鄰物場(4)的反射鏡(M2)的幾何中心點，最緊鄰物場(4)的反射鏡(M2)布置成與物場(4)相距間距(A)，間距(A)大于成像光學(xué)系統(tǒng)的(31)的入射光瞳面(30)離物場(4)的間距(B)，所述光瞳面(30)位于物場(4)上游的成像光(30)的光束路徑中；b)具有入射光瞳面(30)，位于物場(4)上游的成像光(3)的光束路徑中，其中成像光(3)在物平面(5)上被反射，具有連接軸(32)，其垂直于物平面(5)并延伸通過入射光瞳的幾何中心點，其中連接軸(32)與入射光瞳面(30)的交叉點(C)比中心物場點的主光束(33)與連接軸(32)的第一交叉點(D)更靠近物平面(5)，所述第一交叉點(D)在物場(4)的下游的成像光(3)的光束路徑中；其中反射鏡(M5、M6)的至少一個具有通路開口(18、19)，以使成像光(3)通過；c)成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)具有與第一反射鏡(M5)間隔開的另外的可變形反射鏡(M3)，所述第一反射鏡(M5)最緊鄰兩個場(4、8)中的一個并被指定為相鄰反射鏡，可變形反射鏡(M3)被布置于與成像光學(xué)系統(tǒng)(7；31)中的相鄰反射鏡的布置平面光學(xué)共軛的平面中；d)反射鏡(M5)的支撐體，由其彈性模量為其他反射鏡(M1至M4、M6)的至少一個的支撐體(22)的材料的彈性模量的至少兩倍大的材料制成，反射鏡(M5)為最靠近兩個場(4、8)中的一個的相鄰反射鏡。文檔編號G03F7/20GK102150068SQ200980135379公開日2011年8月10日申請日期2009年8月26日優(yōu)先權(quán)日2008年9月10日發(fā)明者漢斯-于爾根·曼,約翰尼斯·澤爾納,阿明·舍帕克申請人:卡爾蔡司Smt有限責任公司