專利名稱：具有改善的拱度靈敏度的滑塊/懸架設計的制作方法
技術領域：
本發(fā)明一般涉及用于磁存儲盤驅動器中的空氣軸承滑塊，更具體涉及一種方法，通過將滑塊拱度頂點移向首端方向而減小飛越高度對拱度差異的靈敏度。
常用磁存儲裝置包括一個非?？拷涗浢襟w懸掛著的傳感器或“頭”，該記錄媒體例如是具有眾多同心道的磁盤。傳感器由一個安裝于撓性懸架上的空氣軸承滑塊所支撐。而該懸架又固定在一個定位用執(zhí)行器上。在正常工作中，當執(zhí)行器動態(tài)地將頭定位于所需道上時，在頭和記錄媒體間存在相對運動。此相對運動沿著滑塊面向媒體的平面產生氣流，從而建立升力。該升力被預先設定的懸架負荷所平衡，致使滑塊由氣墊所支撐。氣流進入滑塊的“首端”而從“尾端”逸出，頭位于尾端處，尾端傾向于比首端向下伸而更靠近記錄面。
記錄媒體保存以磁轉換形式編碼的信息。媒體的信息容量或面密度決定于傳感器檢測和寫入可區(qū)別的轉換的能力。影響面密度的一個重要因素是頭與記錄面的距離，稱作“飛越高度”。希望傳感器飛越時十分靠近媒體，以增強檢測轉換的能力，而又不讓傳感器接觸媒體表面。要得到一定飛越高度穩(wěn)定性，可選用恰當?shù)膽壹茇摵珊涂諝廨S承滑塊面(ABS)形狀，以得到所需空氣動力學性能。
影響飛越高度的另一個重要因素是滑塊對外部條件變化的響應。正常工作中，空氣軸承滑塊受到不同外部條件變化的影響。影響飛越高度的條件變化包括例如，相對氣流速度和方向的變化和溫度差異。如果條件變化時傳感器飛越高度不能保持恒定，則傳感器與記錄媒體間的數(shù)據傳送將受到不良作用。
飛越高度還受到諸如ABS形狀那樣的滑塊物理特性的影響。例如，小心加工成軌道形狀將會對氣流變化作出一定反應。常用滑塊經常具備的另一物理特性是沿ABS長度方向從首端到尾端的彎度。此彎度稱為“拱度”，并且相對于ABS而言可以是凸的也可以是凹的。拱度差異通常有兩類加工差異或溫度差異。
常用滑塊按照已知加工過程形成，包括在襯片上淀積排列成矩陣的傳感器元件，將襯片劃開以形成眾多滑塊，將成排的支撐滑塊的單元從襯片上切下，以及將這些排個別地拋光以得到所需傳感器尺寸。例如，對感應式頭而言，拋光程度決定于磁軛所需喉部高度。在拋光時，不均勻分布的表面應力會導致一種現(xiàn)象，稱為“排弓度”，這種現(xiàn)象在美國專利號5,266,769和4,914,868中進一步討論，拱度是排弓度的一個標志，另一個是弧度，或沿滑塊寬度方向的彎度。
滑塊制造過程導致滑塊與滑塊間的拱度差異。一般知道，正拱度將使滑塊飛越得高些，使滑塊對數(shù)據的靈敏度受到不良影響。負拱度將使滑塊飛越得低些，增加了頭與盤接觸的危險。拱度的最大彎度或“頂點”一般都對稱地定位，也即它位于將滑塊長度對半平分的中心軸上。由于拱度的加工差異(在溫度不變時)可以預測，磁存儲應用中的飛越高度可以調整來容納拱度差異。例如，如平均拱度彎度偏向于凸或“正”，則可降低飛越高度以增強數(shù)據靈敏度。然而，對于那些小于平均拱度的滑塊來說，降低飛越高度會增加頭與盤接觸的危險。另一方面，如平均拱度彎度偏向于凹或“負”則增加飛越高度，而對于小于平均彎度的滑塊講，增加飛越高度將會對靈敏度有不良作用。
加工差異會由于滑塊-懸架粘接過程而變得更大。當撓性懸架用環(huán)氧樹脂粘至滑塊時，環(huán)氧樹脂硬化時會收縮，因而沿滑塊長度方向產生力。收縮使凸滑塊的拱度更為正，使凹滑塊的拱度不這么負。
拱度差異的第二種類型是由存儲裝置中運行溫度的變化范圍所產生的。懸架是由精軋鋼制成，其中滑塊則包括如Al2O3-TiC那樣的襯底?？梢杂^察到，當溫度變化時懸架材料的伸縮速度比滑塊材料大。例如，當懸架伸展時，滑塊將在長度方向形成負彎度，而當滑塊收縮時則產生正彎度。和加工差異一樣，拱度中溫度差異也可預測。因此可調整飛越高度以容納此差異。但是也將出現(xiàn)上面所提到的，由于升高或降低飛越高度所帶來的同樣缺點。
所需要的是一種方法和改善的滑塊形狀，以減少飛越高度對拱度差異的靈敏度。
本發(fā)明的主要目的是提供一種方法和改善的滑塊形狀，用于將由于加工差異和溫度差異而造成的拱度對滑塊飛越高度的不良作用減至最小。
相應地，本發(fā)明是一種方法，用于將彎度或“拱度”的頂點沿滑塊長度方向離開滑塊中心向其首端偏移。實驗表明，這種方式的頂點偏移能將或電加工差異或由溫度差異引起的正值和負值拱度這兩者的不良作用減至最小。例如，在首端方向內的10％頂點偏移已顯示出可改善飛越高度靈敏度達35％。更大的頂點偏移已顯示出更大的改善功能。頂點偏移的附帶優(yōu)點是能改善帶凸拱度的滑塊在升溫情況下的起飛性能。起飛速度是將滑塊飛過盤上所有面粗糙度時所需速度。當溫度增加時，沿滑塊ABS方向的凸拱度成為更負，因而使滑塊飛越高度相應地有所降低。較低的飛越高度意味著需要更大的起飛速度以越過盤面。頂點偏移減少拱度差異的作用，因而在溫度增高時飛越高度更為穩(wěn)定。飛越高度的穩(wěn)定減少起飛速度的差異，從而改善總體性能。
在最佳方法中，通過改變懸架的粘接過程來實現(xiàn)頂點偏移，根據標準工業(yè)實踐，滑塊的整個長度都粘到撓性懸架上，滑塊長度定義為從首端到尾端的距離。所建議的方法改變粘接過程，即只將滑塊長度中靠近首端的部分粘接到撓件上，當粘接劑干燥時，沿粘接界面產生了收縮力，后者集中于靠近滑塊首端處。此力使ABS上任何拱度頂點相應地向首端偏移。
另一種頂點偏移的方法可以是例如使用噴砂或噴珠直接地改變ABS形狀。然而從生產觀點看，這些方法不太實用，因此不再詳細討論。


圖1(a)是淀積排列成矩陣的傳感器元件并劃開以形成眾多滑塊的襯片的前視圖；圖1(b)是圖1(a)的襯片中一排滑塊的放大視圖；圖2(a)是懸掛在記錄媒體上方、沒有拱度的滑塊的側視圖；圖2(b)是懸架熱收縮后圖2(a)的滑塊的側視圖；圖2(c)是懸架熱伸展后圖2(a)的滑塊的側視圖；圖3(a)是圖1(b)的排的透視圖，顯示拋光后的拱度和弧度；圖3(b)是圖3(a)的排中一塊滑塊的前視圖，用以說明弧度；
圖3(c)是圖3(a)的排中一塊滑塊的側視圖，用以說明拱度；圖4(a)是懸掛在記錄媒體上方、具有對稱拱度的滑塊的側視圖；圖4(b)是懸架熱收縮后，圖4(a)的滑塊的側視圖；圖4(c)是懸架熱伸展后，圖4(a)的滑塊的側視圖；圖5是根據本發(fā)明，懸掛于記錄媒體上方的滑塊的側視圖；圖6是根據本發(fā)明、用于顯示拱度頂點偏移對飛越高度靈敏度的作用的圖；圖7是具有對稱拱度的滑塊和根據本發(fā)明具有頂點偏移的滑塊兩者的顯示起飛速度在一定溫度范圍內變化的曲線；圖8是用于說明根據標準工業(yè)實踐粘接懸架方法的分解圖；圖9是用于說明根據本發(fā)明粘接懸架方法的分解圖；圖10是根據標準工業(yè)實踐粘接的圖8的滑塊/懸架結構的側視圖；圖11是根據本發(fā)明的最佳粘接方法所粘接的滑塊/懸架結構的側視圖；圖12和13是根據本發(fā)明的另一方法所粘接的滑塊/懸架結構的側視圖；以及圖14是實施本發(fā)明的磁盤存儲系統(tǒng)的簡化框圖。
根據已知方法，如圖1(a)所示一片襯底被淀積上12×12的傳感器矩陣。襯片表面劃開以形成眾多帶有傳感器的滑塊，從襯片11切出成排的滑塊，以供進一步加工。
圖1(b)顯示了從圖1(a)的襯片切出一排13的剖面圖。該排包括眾多滑塊14，每個滑塊具有至少一個淀積于其上的傳器15。傳感器15位于滑塊14的尾端。在排加工時，排的平面16加以拋光，以形成滑塊14的空氣軸承面和獲得所需傳感器尺寸，例如，感應式頭的所需喉部高度或磁阻式(MR)頭的所需條厚度。在將個別滑塊從排分離出之前，還可完成額外加工，如軌狀蝕刻。
在諸如磁盤驅動器那樣的存儲裝置中，如圖2(a)中那樣的滑塊21安裝在懸架的撓性部分26上，而懸架又固定在執(zhí)行器臂上(未示出)。滑塊21包括一個空氣軸承面(ABS)、面向進氣流22的楔形首端28，和帶有傳感器(未示出)的尾端29。在運行時，如圖示，滑塊21懸掛著貼近記錄媒體24及尾端29較首端28更為靠近媒體24。例如，記錄媒體24是一個旋轉磁盤。在箭頭22的基本方向內。在媒體24和ABS27之間的相對運動建立一層氣墊或“空氣軸承”，用于在媒體24上支撐滑塊21。媒體24與尾端29間的距離稱為滑塊飛越高度。
飛越高度會同于“拱度”或沿滑塊長度方向的彎度而有差異。沿滑塊的ABS27方向具有凸或“正”的拱度的滑塊示于圖2(b)。為供參考用，畫出虛線32代表不具有拱度的滑塊的ABS。一般認為正拱度增加飛越高度。圖2(c)顯示負值或凹拱度的滑塊21。也知道負拱度會相應地減少滑塊飛越高度。一般情況下拱度差異是由滑塊制造過程、滑塊/懸架粘接，和/或滑塊與懸架間熱膨脹率的差別引起的。
滑塊生產中常用的拋光方法經常產生一種如圖3(a)所描述的現(xiàn)象，稱為排弓度。排弓度由沿排的長度34方向和寬度37方向的彎度所代表。排弓度對個別滑塊的作用在圖3(b)和3(c)中得到闡明。圖3(b)中ABS27沿著滑塊14的寬度方向38進行彎曲。寬度方向的彎度稱為“弧度”，可為凹或凸的。相對于代表沒有拱度的ABS的參考線33而言，圖3(b)的弧度是凸的或正的。圖3(c)中滑塊14的ABS27沿著它的長度方向進行彎曲(該排的寬度37決定了滑塊長度)。長度方向的彎度稱為“拱度”，和弧度一樣，它可為凹或凸的，相地于參考線32而言，圖3(c)中所示拱度是凸的或正的。
本發(fā)明是針對與拱度相關連的問題的。拱度的程度隨著滑塊不同而不同。為方便起見，根據特定過程制造的一批滑塊中的拱度差異稱之為加工差異。在具有拱度的滑塊中觀察到的問題是對平均飛越高度的作用。例如，圖2(b)的滑塊具有凸拱度，因此比沒有拱度的滑塊要飛越得高些。相反，圖2(c)中的滑塊由于凹拱度而能減小飛越高度。軌狀成形能在一定程度上補償這種飛越高度差異；但卻通常需要針對一個可接受的平均飛越高度調整滑塊的預負載。對預負載的調整考慮兩個因素；滑塊21必須足夠高地避免與記錄媒體24表示碰觸，但又必須是夠低以實現(xiàn)傳感器與媒體間的正確數(shù)據傳送，折衷結果通常是減小傳感器靈敏度。本發(fā)明試圖探索將拱度差異對飛越高度的不良作用減至最小。
另一個拱度差異屬于由滑塊/懸架粘接過程所造成結果這一類加工差異。根據常用粘接方法，如圖2(a)所示的滑塊21用環(huán)氧樹脂沿滑塊整個長度31粘刻撓性懸架上，當環(huán)氧樹脂硬化時，它就收縮，即沿著滑塊/懸架界面23在箭頭36所指方向內產生一個力。該收縮力使滑塊ABS27在由虛線25所指出的正方向內彎曲。如圖2(b)和2(c)所示具有預稱存在的拱度的滑塊將類似地在正方向內彎曲。例如，圖2(b)中的凸滑塊21將如虛線34所指出沿著它的ABS27變?yōu)楦油钩?。圖2(c)中的滑塊的凹拱度將沿著虛線35方向彎曲，變得更正或凹得少些。因此拱度的加工差異的范圍由于懸架粘接過程而加大了。
滑塊中拱度差異的第二個原因是由盤驅動器正常運行中的溫度變化所引起的。一個懸架通常已包括其熱特性與滑塊材料不同的那些材料。其結果是，由于溫度變化，懸架伸展和收縮的速度比滑塊快，因此對后者施加一個力，影響它在長度方向的彎度。溫度對預先存在的拱度的作用在圖4(a)和4(b)中得到闡明。一個滑塊21安裝在一個撓性懸架26上，并懸掛于記錄媒體24上方。相對于參考線32而言，滑塊21沿著它的ABS27方向具有凸拱度，同時該拱度對稱于在滑塊長度方向31將滑塊垂直平分的中心軸41。ABS27具有一個距離線32的最大垂直偏移43和沿著軸41的頂點42。
由于撓性懸架26在圖4(b)的箭頭46所指方向內收縮，因此在收縮的方向內對滑塊21施加一個力。此力作用結果是沿ABS27的更正的彎度和增大的垂直偏移44。沒有拱度或具有負的預先存在的拱度的滑塊也類似地在正方向感受到彎度變化。
當撓性懸架26在圖4(c)的箭頭47所指方向內伸展時，在伸展方向內對滑塊21施加一個力。此力作用結果是沿ABS27的更負彎度和減小的垂直偏移48。沒有拱度或具有負的預先存在的拱度的滑塊也類似地在負方向感受到彎度變化。
本發(fā)明將或由加工差異或由不同膨脹速率所造成的拱度差異的不良作用加以減小。參照圖5，所建議方法將帶有拱度的滑塊ABS27的頂點53離開滑塊中心軸41向其首端28方向偏移。實驗表明，這樣的水平偏移55在加工或溫度差異時比具有對稱拱度的滑塊具有更穩(wěn)定的飛越高度。此外，當偏移55的數(shù)值增加時，飛越高度靈敏度相應地減小。雖然圖上只敘述本發(fā)明應用于具有凸拱度的滑塊，但可理解頂點偏移法同樣可用于具有凹拱度的滑塊，并得到同樣好處。已經發(fā)現(xiàn)往尾端方向的頂點偏移增大飛越高度靈敏度，而這不是本發(fā)明所述目的所希望的。
圖6是用于解釋具有凸拱度的滑塊中頂點偏移對飛越高度靈敏度的作用的圖形表示。這是一個“納滑塊”的計算機仿真的結果，該“納滑塊”的尺寸是2.5mm長×1.7mm寬×0.425mm高及相對于平ABS而言具有最大拱度高度為30nm，這項結果對其它尺寸的滑塊也同樣有代表性，例如“100％”或“毫滑塊”(4.0mm長×3.2mm寬×0.85mm高)，“微滑塊”(2.8mm長×2.2mm寬×0.6mm高)，和“皮滑塊”(1.25mm長×1.0mm寬×0.3mm高)。對眾多頂點偏移值進行了仿真，并以滑塊的已知空氣動力特性為依據計算了飛越高度靈敏度。這些結果由在實驗室中對差不多相同尺寸的滑塊所作實驗中得到的數(shù)據所驗證。圖6中，垂直軸62代表飛越高度靈敏度的歸一化值。水平軸61所示頂點偏移是偏離滑塊中心軸的百分比偏移量。正偏移值標志在尾端方向內的偏移，而負值代表在首端方向內的偏移。所得曲線63表明當頂點靠近首端時，拱度靈敏度下降。
在減小飛越高度靈敏度以外，頂點偏移還能在溫度升高時改善具有凸拱度的滑塊的起飛性能。圖7的曲線比較了溫度變化時兩個滑塊的起飛性能，這是計算機仿真結果并已由實驗數(shù)據所驗證。垂直軸72標明歸一化的起飛速度，而水平軸71以攝氏度顯示溫度。第一條性能曲線73代表具有對稱拱度其尺寸為2.5mm長×1.7mm寬×0.425mm高，其近似頂點高度為30nm的滑塊的性能。第二曲線74代表具有相同尺寸、在首端方向內頂點偏移10％的滑塊。這些曲線既能代表較小也能代表較大滑塊。從曲線顯而易見，對具有頂點偏移的滑塊講，事實上熱膨脹的作用減弱了。
在最佳方法中，在懸架粘接過程中完成頂點偏移。圖8和10是現(xiàn)在使用的粘接法的代表，其中懸架81用環(huán)氧樹脂粘接到滑塊21上。參照圖8，環(huán)氧樹脂83事實上沿著滑塊21的整個長度31涂在背向ABS(未示出)的面82上。如圖10所示，滑塊21與撓性懸架26間形成了粘接界面23。通常在高溫下環(huán)氧樹脂硬化，結果沿滑塊長度31在界面23上施加一個收縮力。其結果是沿ABS27的長度方向造成正彎度，從而形成對稱頂點42，后者事實上與滑塊的垂直軸41重合。
根據本發(fā)明，如圖9所示，環(huán)氧樹脂83涂的面事實上不到滑塊面82的全長度31。最好將一種標準的不導電的環(huán)氧樹脂，如LR559(由HYSOL生產)，涂在滑塊長度31的1/4至3/4處。參照圖9和11，改變的撓性懸架91具有一個縮短的粘接界面23，使滑塊21靠向滑塊的首端28。當環(huán)氧樹脂硬化時，有一個收縮力施加于滑塊21上，沿它的ABS27的長度方向產生正彎度。該彎度具有頂點53，后者向首端28方向偏離滑塊垂直軸41一較偏離值55。粘接界面23的長度由實驗確定，通過所希望的頂點偏移來平衡粘接強度。
對具有預先存在拱度的滑塊講，環(huán)氧樹脂的收縮力使拱度頂點從對稱位置沿ABS27向滑塊21的首端28偏移。對于正拱度和負拱度兩者都是這種情況。如圖12中例子所示，偏移后的頂點53一般和平分粘接界面23的垂直參考線52重合。
當沒有預先存在的拱度而在運行中預料會有溫度差異時，可用另一實施例。在另一實施例中，用一種不會收縮的環(huán)氧樹脂將懸架粘到滑塊上。根據本方法的粘接過程不會在沿ABS方向產生拱度，但會使隨后由于熱伸展/收縮的不一致而出現(xiàn)的拱度出現(xiàn)頂點偏移。當存儲裝置的運行溫度增加時，懸架伸展的速度快于滑塊。這種伸展沿滑塊/懸架界面施加一個伸展力，因而在ABS上形成負拱度，其頂點從ABS中心向首端方向偏移。類似地，如存儲裝置的運行溫度減小，則懸架的收縮速度快于滑塊，并沿滑塊/懸架界面施加一個收縮力。此收縮力的結果沿ABS產生一個正拱度，同樣使頂點從ABS中心向首端方向偏移。
圖12和13顯示圖11的撓性件設計的另一方案。在圖12中，工業(yè)標準撓性件93已修改過，包括一個階梯部分92，用于將撓性件93與滑塊/懸架界面23隔離開。圖13所示的撓性懸架95具有的方位和標準懸架的撓性件反轉180°?？赡茉诓槐畴x本發(fā)明的實質和范圍的情況下采用其它撓性件和/或懸架的改型，以便于實現(xiàn)更短粘接界面。公開的方法和結構應用于許多尺寸的滑塊，如毫滑塊、微滑塊、納滑塊和皮滑塊。它們不但應用于傳統(tǒng)的、矩形的滑塊，也用于具有如“三角形”滑塊那樣的非常規(guī)形狀的滑塊。此外，雖然本發(fā)明描述的參考例是滑塊和懸架“線內”發(fā)裝的例子，但同樣原理可用于垂直安裝的滑塊。
本滑塊/懸架方法和結構最好使用在諸如圖14所示磁盤驅動器那樣的數(shù)據存儲裝置內。盤驅動器包括至少一個可旋轉磁盤112及至少一個位于盤112上的滑塊113，該磁盤112在轉軸114上支撐并由驅動器馬達118所轉動。每個滑塊113支撐一個或更多個磁讀/寫傳感器或頭121。每盤上的磁記錄媒體具有的形式是盤112上的同心數(shù)據道(未示出)的角度模式。當盤旋轉時，滑塊113在盤面122上方沿徑向移進移出，從而使頭121可訪問盤上記錄所需數(shù)據的不同部分。每塊滑塊113通過懸架115固定在執(zhí)行器臂119上。懸架115提供輕微的彈力，使滑塊偏向盤面122。每個執(zhí)行器臂119固定在執(zhí)行器裝置127上。例如，圖14所示執(zhí)行器裝置可以是一個音圈馬達(VCM)。該VCM具有一個位于固定磁場內的可動線圈，線圈運動的方向和速度由控制器所提供的馬達電流信號來控制。
在盤驅動器運行時，盤112的轉動在滑塊113和盤面122之間產生空氣軸承，后者在滑塊上施加一個向上力或升力?？諝廨S承于是將懸架115的微小彈力加以平衡，并在運行中支撐滑塊113，使它隔開一個小的，事實上固定的距離位于盤面上方。
盤存儲系統(tǒng)的不同部件由控制單元129所產生的控制信號來控制其運行，這些信號例如存取控制信號和內部時鐘信號。典型的控制單元129的例子包括邏輯控制電路、存儲裝置和一個微處理器?？刂茊卧?29產生用于控制不同系統(tǒng)操作的控制信號，如線123上的驅動馬達控制信號和線128上的頭定位和尋找控制信號。線128上的控制信號提供所需電流曲線，以便在相關連的盤112上將一個所選滑塊113最佳地移動并定位至所需數(shù)據道上。利用記錄通道125可將讀和寫信號傳送至頭121并從它傳回來。
以上對一個典型磁盤存儲系統(tǒng)的描述和圖14的相結構的解釋只用于闡示目的。應該清楚地知道，盤存儲系統(tǒng)可包含大量的盤和執(zhí)行器，而每個執(zhí)行器可支撐一批滑塊。
雖然本發(fā)明結合最佳實季例進行了顯示和描述，但熟悉技術的人知道，在不背離下面權利要求書所規(guī)定的實質和范圍的條件下，可在實放例中在形式和細節(jié)上做修改。
權利要求
1.一種用于盤驅動器中的滑塊，包括一個包括一個首端、一個尾端和一個帶有拱度的ABS，其中所述拱度的頂點位置離所述首端比離所述尾端更近些。
2.權利要求1的滑塊，其特征在于所述拱度是正的。
3.權利要求1的滑塊，其特征在于所述拱度是負的。
4.權利要求1的滑塊，其特征在于所述頂點的位置離所述首端的距離是在所述滑塊長度的10-40％的范圍內。
5.權利要求1的滑塊，其特征在于所述ABS使用噴珠成形。
6.權利要求1的滑塊，其特征在于所述ABS使用噴砂成形。
7.一種用于盤驅動器中的滑塊/懸架結構，包括一個具有一個首端、一個尾端、一個具有拱度的ABS和一個粘接面，其中所述拱度頂點的位置離所述首端比離所述尾端更近些；以及一個固定于所述粘接面的可彎曲的懸架，因而形成一個其位置離所述首端比離所述尾端更近些的滑塊/懸架界面。
8.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述拱度是正的。
9.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于于所述拱度是負的。
10.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述頂點的位置離所述首端的距離是在所述滑塊長度的10-40％的范圍內。
11.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述頂點位置由所述滑塊/懸架界面的位置所決定。
12.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述滑塊/懸架界面是在從所述首端到所述尾端的所述粘接面的長度的25％到75％之間。
13.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述懸架利用一種粘接劑粘至所述粘接面。
14.權利要求13的滑塊/懸架結構，其特征在于所述粘接劑在硬化時收縮，因而使所述ABS的所述拱度形成頂點，所述頂點的位置離所述首端比離所述尾端更近些。
15.權利要求13的滑塊/懸架結構，其特征在于所述粘接劑包括LR559。
16.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述懸架包括一個修改過的撓性件，及所述滑塊固定在所述修改過的撓性件上。
17.權利要求16的滑塊/懸架結構，其特征在于所述修改過的撓性件包括一個階梯部分，用于將所述撓性件與所述滑塊/懸架界面隔離開。
18.權利要求16的滑塊/懸架結構，其特征在于所述修改過的撓性件被縮短至事實上與所述滑塊/懸架界面等長。
19.權利要求16的滑塊/懸架結構，其特征在于所述修改過的撓性件和標準撓性懸架比較，方位反轉180°。
20.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述ABS用噴珠成形。
21.權利要求7的滑塊/懸架結構，其特征在于所述ABS用噴砂成形。
22.一種數(shù)據存儲裝置包括一個用于存放信息的記錄媒體；一個用于從所述記錄媒體讀信息和向所述記錄媒體寫信息的傳感器；一個用于支撐所述傳感器的滑塊，所述滑塊具有一個首端、一個尾端、一個帶有拱度面向所述記錄媒體的ABS和一個粘接面，其中拱度的頂點位置離所述首端比離所述尾端更近些；一個固定于所述滑塊粘接面的懸架，因而形成一個滑塊/懸架界面，用于支撐所述傳感器貼近所述記錄媒體；一個固定于所述懸架的執(zhí)行器，用于相對于所述記錄體水平地將所述傳感器定位；用于在所述傳感器和所述記錄媒體間提供相對運動的裝置；以及用于在所述傳感器和所述記錄媒體間傳送信息的裝置。
23.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述記錄媒體包括一個磁盤。
24.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述滑塊/懸架界面的位置離所述首端比離所述尾端更近些。
25.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述拱度是正的。
26.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述拱度是負的。
27.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述頂點的位置離所述首端的距離是在所述滑塊長度的10-40％的范圍內。
28.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述頂點位置由所述滑塊/懸架界面的位置所決定。
29.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述滑塊/懸架界面是在從所述首端到所述尾端的所述粘接面長度的25％至75％間。
30.權利要求29的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述懸架使用一種粘合劑粘接至所述粘接面。
31.權利要求30的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述粘合劑在硬化時收縮，因而使所述ABS的所述拱度形成頂點，所述頂點的位置離所述首端比離所述尾端更近些。
32.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述粘合劑包括LR559。
33.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述懸架包括一個修改過的撓性件，及所述滑塊固定于所述修改過的撓性件。
34.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述修改過的撓性件包括一個階梯部分，用于將所述撓性件的一部分與所述滑塊/懸架界面隔離開。
35.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述修改過的撓性件被縮短至事實上與所述滑塊/懸架界面等長。
36.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述修改過的撓性件和標準撓性懸架比較，方位反轉180°。
37.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述ABS用噴珠成形。
38.權利要求22的數(shù)據存儲裝置，其特征在于所述ABS用噴砂成形。
39.一種用于將懸架固定到滑塊上的方法，所述滑塊包括一個首端、一個尾端、一個具有拱度的ABS和一個粘接面，其中所述拱度的頂點位置離所述首端比離所述尾端更近些，所述方法包括以下步驟使用粘結劑將所述懸架粘接到所述粘接面上，因而形成離所述首端比離所述尾端更近些的一個滑塊/懸架界面。
40.權利要求39的方法，其特征在于所述拱度是正的。
41.權利要求39的方法，其特征在于所述拱度是負的。
42.權利要求39的方法，其特征在于所述頂點位置離所述首端的距離是在所述滑塊長度的10-40％的范圍內。
43.權利要求39的方法，其特征在于所述頂點位置由所述滑塊/懸困界面的位置所決定。
44.權利要求39的方法，其特征在于所述滑塊/懸架界面是在從所述首端至所述尾端的所述粘接面長度的25％至75％之間。
45.權利要求39的方法，其特征在于所述懸架使用粘合劑粘接到所述粘接面上。
46.權利要求45的方法，其特征在于所述結合劑在硬化時收縮，因而使所述ABS的所述拱度形成頂點，所述頂點的位置離所述首端比離所述尾端更近些。
47.權利要求45的方法，其特征在于所述粘合劑包括LR559。
48.權利要求39的方法，其特征在于所述懸架包括一個修改過的撓性件，及所述滑塊固定在所述修改過的撓性件上。
49.權利要求48的方法，其特征在于所述修改過的撓性件包括一個階梯部分，用于將所述撓性件的一部分和所述滑塊/懸架界面的隔離開。
50.權利要求48的方法，其特征在于所述修改過的撓性件被縮短至事實上與所述滑塊/懸架界面等長。
51.權利要求48的方法，其特征在于所述修改過的撓性件和標準撓性懸架比較，方位反轉180°。
52.權利要求39的方法，其特征在于所述ABS用噴珠成形。
53.權利要求39的方法，其特征在于所述ABS用噴砂成形。
全文摘要
對于一個沿其長度方向具有凸彎度或“拱度”的滑塊，一種用于將拱度頂點移向首端從而減少由拱度引起的飛越高度差異的方法及最終滑塊結構。在最佳方法中，在帶有對稱拱度的滑塊中，通過將懸架粘至滑塊靠近首端處的粘接面，從而將頂點偏移。粘接過程在滑塊上產生一個偏離力而具有偏移作用。另一方案是優(yōu)先于軌狀成型用噴砂或噴珠改變成排滑塊的形狀。
文檔編號G11B5/56GK1149182SQ9511556
公開日1997年5月7日 申請日期1995年8月21日 優(yōu)先權日1994年11月3日
發(fā)明者德文德拉·辛格·查布拉, 北崎信幸, 邁克爾·菲利普·羅伯特 申請人:國際商業(yè)機器公司