1.一種傳樣裝置(100)，設(shè)于超高真空測量系統(tǒng)，所述超高真空測量系統(tǒng)包括靶室(300)以及設(shè)于所述靶室(300)上方的預(yù)抽室(200)，其特征在于，所述傳樣裝置(100)包括：
絕緣座(110)，設(shè)于所述靶室(300)內(nèi)且開設(shè)有第一通孔(111)；
支架(120)，設(shè)于所述絕緣座(110)內(nèi)且具有向上伸出所述絕緣座(110)的定位端(121)，所述支架(120)開設(shè)有貫通所述定位端(121)的第二通孔(122)，所述第二通孔(122)與所述第一通孔(111)對齊而形成一導(dǎo)孔；
樣品托(130)，用于可拆卸地放置至少一個樣品，所述樣品托(130)上部的材質(zhì)為順磁性材料，其內(nèi)部開設(shè)有開口于底面的定位槽(131)；
送樣桿(140)，可升降地穿設(shè)于所述導(dǎo)孔，其頂端可調(diào)節(jié)地定位于所述定位槽(131)，而使所述送樣桿(140)升降時帶動所述樣品托(130)升降；以及
磁耦合閥(150)，設(shè)于所述預(yù)抽室(200)的頂蓋(210)的上方；
其中，所述磁耦合閥(150)開啟，且所述送樣桿(140)帶動所述樣品托(130)上升至所述預(yù)抽室(200)頂部時，所述樣品托(130)磁吸定位于所述預(yù)抽室(200)的頂蓋(210)的下表面，且對應(yīng)于所述磁耦合閥(150)的位置；所述送樣桿(140)帶動所述樣品托(130)下降至所述支架(120)時，所述樣品托(130)承載于支架(120)的定位端(121)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述支架(120)包括：
固定塊(123)，設(shè)于所述絕緣座(110)內(nèi)；以及
連接柱(124)，設(shè)于所述固定塊(123)頂部，且向上延伸出所述絕緣座(110)；
其中，所述定位端(121)設(shè)于所述連接柱(124)的頂端，所述第二通孔(122)貫通于所述固定塊(123)和所述連接柱(124)，且分別開口于所述固定塊(123)底部和所述定位端(121)頂部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述絕緣座(110)包括：
上部(112)，其底部凹設(shè)有容置槽(1121)，所述容置槽(1121)的形狀與所述固定塊(123)匹配，所述上部(112)開設(shè)有第三通孔(1122)；以及
下部(113)，開設(shè)有所述第一通孔(111)，所述支架(120)設(shè)于所述下部(113)上，且所述第二通孔(122)與所述第一通孔(111)對齊；
其中，所述上部(112)和下部(113)對接固定而形成所述絕緣座(110)時，所述容置槽(1121)與所述下部(113)的頂面界定一容置空間，所述容置空間與所述支架(120)的固定塊(123)形狀匹配，而使所述固定塊(123)填滿所述容置空間，且所述連接柱(124)由所述第三通孔(1122)向上伸出。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述定位槽(131)具有上下連通的第一槽(1311)和第二槽(1312)，所述第二槽(1312)開口于所述樣品托(130)的底面，所述第一槽(1311)與所述送樣桿(140)的頂端定位配合，所述第二槽(1312)與所述支架(120)的定位端(121)定位配合。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述第一槽(1311)呈圓錐形；所述送樣桿(140)的頂端呈與所述第一槽(1311)形狀匹配的圓錐形。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述樣品托(130)的截面呈多邊形且具有多個側(cè)面，每個所述側(cè)面上分別放置有一個所述樣品，所述樣品托(130)包括：
本體(132)，截面呈多邊形且具有多個側(cè)面，每個側(cè)面均開設(shè)有卡槽(1321)；以及
多個樣品卡套(133)，分別可拆卸地卡設(shè)于多個所述卡槽(1321)，而使所述樣品定位于所述樣品卡套(133)與所述本體(132)之間，所述樣品卡套(133)開設(shè)有檢測孔(1331)，以暴露出所述樣品的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述第二槽(1312)呈截面為多邊形的錐臺形，且所述多邊形各邊分別與所述本體(132)的各所述側(cè)面一一對應(yīng)；所述支架(120)的定位端(121)呈截面為多邊形的錐臺形，且與所述定位槽(131)的形狀對應(yīng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述樣品托(130)的上部開設(shè)有開口于其頂面的定位孔(134)，所述定位孔(134)內(nèi)設(shè)有一材質(zhì)為順磁性材料的定位塊(135)，所述定位塊(135)頂面露出于所述樣品托(130)的頂面，所述定位孔(134)底面封閉所述第二槽(1312)的上端開口，所述定位塊(135)內(nèi)開設(shè)有開口于其底面的所述第一槽(1311)，所述第一槽(1311)與所述第二槽(1312)連通而形成所述定位槽(131)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳樣裝置(100)，其特征在于，所述樣品托(130)頂面凸伸形成一定位凸起(1351)；所述預(yù)抽室(200)的頂蓋(210)的下表面凹陷形成一定位凹槽，所述定位凹槽與所述定位凸起(1351)形狀匹配，且所述定位凹槽的位置對應(yīng)于所述磁耦合閥(150)。
10.一種超高真空測量系統(tǒng)，包括預(yù)抽室(200)、靶室(300)以及閘閥(400)，所述預(yù)抽室(200)設(shè)于所述靶室(300)上方，所述閘閥(400)可啟閉地連通于所述預(yù)抽室(200)與所述靶室(300)之間，其特征在于，所述超高真空測量系統(tǒng)還包括：
如權(quán)利要求1～9任一項所述的傳樣裝置(100)；
其中，所述磁耦合閥(150)開啟，且所述送樣桿(140)帶動所述樣品托(130)上升至所述預(yù)抽室(200)頂部時，所述樣品托(130)磁吸定位于所述預(yù)抽室(200)的頂蓋(210)的下表面，且對應(yīng)于所述磁耦合閥(150)的位置；所述送樣桿(140)帶動所述樣品托(130)下降至所述支架(120)時，所述樣品托(130)承載于支架(120)的定位端(121)上。