本發(fā)明涉及基板檢測技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板翹曲量的測量裝置及方法。

背景技術(shù)：

薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，簡稱TFT-LCD)的顯示面板主要包括彩膜基板和陣列基板，兩基板采用封框膠(Sealant)在貼合工藝段將四周粘合。通常，在制程中，為保證兩基板不會(huì)因?yàn)榇髿鈮毫Χ鴮?dǎo)致局部翹曲，TFT-LCD制程中，為保證兩基板的平坦性，會(huì)在顯示面板對應(yīng)的顯示區(qū)域邊界處的Main Sealant之外設(shè)置Dummy Sealant和Loop Sealant用于支撐。

但是，由于Sealant支撐性較差，加之周邊Dummy Pattern的不均一性，且各Sealant之間有一定距離，受到Dummy Pattern的影響，Sealant亦無法遍布所有非顯示區(qū)域。這就造成在顯示區(qū)域外部，尤其是在Dummy Pattern支撐較弱的區(qū)域會(huì)形成基板翹曲。由杠桿作用可知，非顯示區(qū)域基板下陷之后，必然會(huì)導(dǎo)致顯示區(qū)域周邊基板上翹，形成局部的盒厚(Cell Gap)偏高，造成相關(guān)顯示不良(如局部發(fā)黃等)。另外，諸如局部發(fā)黃的周邊缺陷型不良亦缺乏制程中檢查機(jī)制，無法在產(chǎn)品完全制成前進(jìn)行先期檢查，容易造成資材浪費(fèi)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供一種基板翹曲量的測量裝置及方法，能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中顯示面板中基板翹曲造成顯示不良，且制程中無法精確判定顯示區(qū)域局部發(fā)黃程度的問題。

第一方面，本發(fā)明提供了一種基板翹曲量的測量裝置，用于測量顯示母板的基板翹曲量，所述顯示母板包括相對而置的第一基板和第二基板，所述測量裝置包括：光源、測量目鏡及處理器；

所述光源，用于向所述顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案；

所述測量目鏡，用于采集所述牛頓環(huán)干涉圖案，并測量出所述牛頓環(huán)干涉圖案中每條干涉條紋的直徑及對應(yīng)的級(jí)數(shù)；

所述處理器，與所述測量目鏡連接，用于根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，以獲得所述顯示母板的待測量區(qū)域的翹曲量；

其中，所述顯示母板的待測量區(qū)域包括：水平的第二基板和向所述第二基板凹陷呈曲面的第一基板。

優(yōu)選地，所述處理器，還用于：

根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度以及預(yù)設(shè)盒厚，獲得與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚；

根據(jù)所述顯示區(qū)域邊緣的盒厚，判定所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

優(yōu)選地，所述處理器，具體用于：

根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，采用公式一得到每條干涉條紋處的空氣層厚度：

其中，n、m均表示干涉條紋的級(jí)數(shù)，且n>m，d_n為第n級(jí)干涉條紋處的空氣層厚度，D_n為第n級(jí)干涉條紋的直徑，D_m為第m級(jí)干涉條紋的直徑，λ為所述單色光的波長。

優(yōu)選地，所述處理器，具體用于：

根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度，以及預(yù)設(shè)盒厚，采用公式二得到與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚：

d1_n-d＝d-d_n 公式二

其中，d1_n為顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，d為預(yù)設(shè)盒厚，d_n為干涉條紋處的空氣層的厚度；d_n至顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域分界處的第一封框膠的距離與d1_n至所述第一封框膠的距離相等。

優(yōu)選地，所述處理器，還用于：

根據(jù)所述d1_n-d的值，判定d1_n對應(yīng)的所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

第二方面，本發(fā)明提供了一種基板翹曲量的測量方法，包括：

光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案；

測量目鏡采集所述牛頓環(huán)干涉圖案，并測量出所述牛頓環(huán)干涉圖案中每條干涉條紋的直徑及對應(yīng)的級(jí)數(shù)；

處理器根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，以獲得所述顯示面板的待測量區(qū)域的翹曲量；

其中，所述顯示母板的待測區(qū)域包括：水平的第二基板和向所述第二基板凹陷呈曲面的第一基板。

優(yōu)選地，所述光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，以形成牛頓環(huán)干涉圖案，包括：

所述光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射垂直于所述第二基板的多束單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案。

優(yōu)選地，所述方法還包括：

所述處理器根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度以及預(yù)設(shè)盒厚，獲得與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚；

所述處理器根據(jù)所述顯示區(qū)域邊緣的盒厚，判定所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

優(yōu)選地，所述根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，包括：

根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，采用公式一得到每條干涉條紋處的空氣層厚度：

其中，n、m均表示干涉條紋的級(jí)數(shù)，且n>m，d_n為第n級(jí)干涉條紋處的空氣層厚度，D_n為第n級(jí)干涉條紋的直徑，D_m為第m級(jí)干涉條紋的直徑，λ為所述單色光的波長。

優(yōu)選地，所述根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度以及預(yù)設(shè)盒厚，獲得與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，包括：

根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度，以及預(yù)設(shè)盒厚，采用公式二得到與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚：

d1_n-d＝d-d_n 公式二

其中，d1_n為顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，d為預(yù)設(shè)盒厚，d_n為干涉條紋處的空氣層的厚度；d_n至顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域分界處的第一封框膠的距離與d1_n至所述第一封框膠的距離相等。

優(yōu)選地，所述根據(jù)所述顯示區(qū)域邊緣的盒厚，判定所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度，包括：

根據(jù)所述d1_n-d的值，判定d1_n對應(yīng)的所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

優(yōu)選地，所述方法還包括：

所述處理器根據(jù)插值計(jì)算，獲得所述牛頓環(huán)干涉圖案對應(yīng)區(qū)域的第一基板的形變曲線。

由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明提供一種基板翹曲量的測量裝置及方法，通過光源發(fā)射單色光至顯示母板的待測量區(qū)域，以根據(jù)形成的牛頓環(huán)干涉圖案確定待測量區(qū)域的基板翹曲。并通過測量目鏡采集牛頓環(huán)干涉圖案，并根據(jù)牛頓環(huán)干涉圖案獲得非顯示區(qū)域翹曲位置的空氣薄層的厚度，以獲得所述顯示母板的待測量區(qū)域的翹曲量。如此，根據(jù)該翹曲量容易獲得與牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，從而判定顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。進(jìn)而在制程中對局部發(fā)黃進(jìn)行監(jiān)控，避免資材浪費(fèi)。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些圖獲得其他的附圖。

圖1是本發(fā)明一實(shí)施例提供的顯示母板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明一實(shí)施例提供的圖1所示顯示母板的A-A’剖面示意圖；

圖3是本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種基板翹曲量的測量裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的基板翹曲量的測量裝置的測量示意圖；

圖5是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的牛頓環(huán)干涉圖案的示意圖；

圖6是本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種基板翹曲量的測量方法的流程示意圖；

圖7是本發(fā)明另一實(shí)施例提供的的一種基板翹曲量的測量方法的流程示意圖；

其中，圖1～圖4中附圖標(biāo)記說明：101-第一基板、102-第三封框膠、103-第二封框膠、104-第一封框膠、105-顯示面板、106-隔墊物PS、107-PS Pillow、108-柵線、109-絕緣層、110-第二基板、1-牛頓環(huán)干涉圖案、200-測量目鏡。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明一實(shí)施例提供了一種基板翹曲量的測量裝置，該基板翹曲量的測量裝置用于測量顯示母板的基板翹曲量，所述顯示母板包括相對而置的第一基板和第二基板，所述測量裝置包括：光源、測量目鏡及處理器；

所述光源，用于向所述顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案。

所述測量目鏡，用于采集所述牛頓環(huán)干涉圖案，并測量出所述牛頓環(huán)干涉圖案中每條干涉條紋的直徑及對應(yīng)的級(jí)數(shù)。

所述處理器，與所述測量目鏡連接，用于根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，以獲得所述顯示母板的待測量區(qū)域的翹曲量。

其中，所述顯示母板的待測量區(qū)域包括：水平的第二基板和向所述第二基板凹陷呈曲面的第一基板。

舉例來說，如圖3所示基板翹曲量的測量裝置包括：具備單色光發(fā)射功能的測量目鏡200及處理器(圖3中未示出)。該測量裝置用于測量顯示母板的基板翹曲量。

具體來說，如圖1所示的顯示母板的俯視結(jié)構(gòu)示意圖，圖2是圖1所示的顯示母板的A-A’剖面示意圖，該顯示母板包括：相對而置的第一基板101、第二基板110、以及設(shè)置在所述第一基板101和所述第二基板110之間的用于密封所述第一基板101和第二基板110的第一封框膠104、第二封框膠103和第三封框膠102。其中，所述第一封框膠104限定出多個(gè)顯示面板105，所述第二封框膠103圍繞預(yù)設(shè)數(shù)量的顯示面板105限定出多個(gè)封閉區(qū)域，所述第三封框膠102設(shè)置于所述第一基板101與所述第二基板110的周邊區(qū)域。

由于大氣壓影響，易在第一封框膠104(Main Sealant)和第二封框膠103(Dummy Sealant)之間形成基板翹曲，尤其是在Dummy Pattern支撐較弱的區(qū)域，此現(xiàn)象更明顯。如圖2所示，由杠桿作用可知，非顯示區(qū)域的基板下陷之后，必然會(huì)導(dǎo)致顯示區(qū)域周邊基板上翹，形成顯示區(qū)域局部的盒厚偏高，造成相關(guān)顯示不良(如局部發(fā)黃)。

進(jìn)一步地，采用圖3所示的基板翹曲量測量裝置的測量目鏡200發(fā)出的單色光照射該顯示母板的待測量區(qū)域時(shí)，如圖1所示，在第一封框膠104和第二封框膠103之間出現(xiàn)牛頓環(huán)干涉圖案1，則測量目鏡200采集該牛頓環(huán)干涉圖案1，并測量出所述牛頓環(huán)干涉圖案中每條干涉條紋的直徑及對應(yīng)的級(jí)數(shù)。則處理器則根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，以獲得所述顯示母板的待測量區(qū)域的翹曲量。即獲得顯示母板的待測量區(qū)域?qū)?yīng)的第一基板101的翹曲量。

由此可見，本實(shí)施例利用源發(fā)出的單色光照射翹曲基板引起的干涉條紋現(xiàn)象，測量出基板的翹曲量，從而推算出局部發(fā)黃的程度。進(jìn)而在制程中對局部發(fā)黃進(jìn)行監(jiān)控，避免資材浪費(fèi)。

進(jìn)一步地，在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，所述處理器，還用于：

當(dāng)所述牛頓環(huán)干涉圖案位于所述第一封框膠與所述第二封框膠之間時(shí)，根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度以及預(yù)設(shè)盒厚，獲得與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚；根據(jù)所述顯示區(qū)域邊緣的盒厚，判定所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

具體來說，所述處理器，具體用于：

根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，采用式(1)得到每條干涉條紋處的空氣層厚度：

$d_n=\frac{(n-m)}{2}\frac{{D_n}^2}{{D_n}^2-{D_m}^2}\mathrm{\λ}---\left(1\right)$

其中，n、m均表示干涉條紋的級(jí)數(shù)，且n>m，d_n為第n級(jí)干涉條紋處的空氣層厚度，D_n為第n級(jí)干涉條紋的直徑，D_m為第m級(jí)干涉條紋的直徑，λ為所述單色光的波長。

需要說明的是，由于干涉條紋包括明條紋和暗條紋，則上述公式(1)中的干涉條紋為明條紋或者為暗條紋。以暗條紋為例，牛頓環(huán)干涉圖案中的中心的暗點(diǎn)對應(yīng)0級(jí)暗條紋，且暗條紋的級(jí)數(shù)向外依次為1級(jí)、2級(jí)、…，以此類推。

如圖4所示，兩基板翹曲的位置，會(huì)在兩基板之間形成一劈尖狀空氣薄層，有相干光原理可知當(dāng)單色光垂直入射時(shí)，入射光在空氣薄層的上下表面依此發(fā)生反射，兩次反射光之間有一光程差，在透鏡表面相遇時(shí)就會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象，形成干涉條紋(即牛頓環(huán))。圖4中曲率半徑較大的玻璃101和平面玻璃110在O點(diǎn)相較，曲面玻璃101的圓心曲率圓心設(shè)為O’，其曲率半徑設(shè)為R。空氣薄層的厚度設(shè)為d，在厚度d相同的位置將形成連貫的干涉條紋，該類干涉條紋是以接觸點(diǎn)O為中心的一系列明暗相間的同心圓環(huán)(實(shí)際生產(chǎn)中產(chǎn)生的為橢圓狀)，該系列圓環(huán)稱之為牛頓環(huán)。

如圖5所示的牛頓環(huán)干涉圖案示意圖，研究m級(jí)和n級(jí)干涉條紋，則根據(jù)上式(1)可求得不同級(jí)數(shù)的干涉條紋對應(yīng)的空氣層厚度。由式(1)可知，只要已知單色光波長λ，又能測出兩條干涉條紋的半徑D_m和D_n，以及級(jí)數(shù)差n-m，就可以得出n級(jí)干涉條紋處的空氣層厚度d_n。

進(jìn)一步地，所述處理器，具體用于：

根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度，以及預(yù)設(shè)盒厚，采用式(2)得到與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚：

d1_n-d＝d-d_n (2)

其中，d1_n為顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，d為預(yù)設(shè)盒厚，d_n為干涉條紋處的空氣層的厚度；d_n至顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域分界處的第一封框膠的距離與d1_n至所述第一封框膠的距離相等。

如圖2所示，設(shè)計(jì)初衷為d1_n＝d_n＝d，但由于杠桿作用的影響，容易導(dǎo)致d1_n>d>d_n，其中d1_n為顯示區(qū)域邊緣。由于d1_n的升高，尤其是局部d1_n的升高，將使得顯示面板邊緣的局部發(fā)黃現(xiàn)象，d1_n升高越多，局部發(fā)黃現(xiàn)象越明顯(根據(jù)經(jīng)驗(yàn)，其升高值d1_n-d>0.2μm時(shí)，局部發(fā)黃的程度將無法被接受)。

由于杠桿效應(yīng)，以第一封框膠104為支點(diǎn)，第一封框膠104左側(cè)將呈現(xiàn)上升趨勢，顯示區(qū)域邊緣的兩個(gè)基板距離為d1_n，由幾何關(guān)系可得到上式(2)。由此，通過上式(2)測得非顯示區(qū)域的一系列d_n，并根據(jù)已知的d，便可以得到對應(yīng)位置的顯示區(qū)域的一系列d1_n值。

進(jìn)一步地，所述處理器，還用于：

根據(jù)所述d1_n-d的值，判定d1_n對應(yīng)的所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

具體來說，將d1_n-d的值與經(jīng)驗(yàn)值比較，可判定局部發(fā)黃程度。d1_n-d的值越大，局部發(fā)黃現(xiàn)象越明顯。如此，通過測定第一封框膠104與第二封框膠103之間區(qū)域?qū)?yīng)的牛頓環(huán)干涉圖案的直徑，通過計(jì)算可推算出顯示區(qū)域邊緣盒厚大小，從而判定局部發(fā)黃程度。

圖6是本發(fā)明一實(shí)施例中的一種基板翹曲量的測量方法的流程示意圖，如圖6所示，該方法包括如下步驟：

S1：光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案。

具體來說，光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射單色光，若待測量區(qū)域的基板翹曲，則會(huì)形成牛頓環(huán)干涉圖案。

S2：測量目鏡采集所述牛頓環(huán)干涉圖案，并測量出所述牛頓環(huán)干涉圖案中每條干涉條紋的直徑及對應(yīng)的級(jí)數(shù)。

S3：處理器根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，以獲得所述顯示面板的待測量區(qū)域的翹曲量。

其中，所述顯示母板的待測區(qū)域包括：水平的第二基板和向所述第二基板凹陷呈曲面的第一基板。

由此可見，本實(shí)施例利用源發(fā)出的單色光照射翹曲基板引起的干涉條紋現(xiàn)象，測量出基板的翹曲量，從而推算出局部發(fā)黃的程度。進(jìn)而在制程中對局部發(fā)黃進(jìn)行監(jiān)控，避免資材浪費(fèi)。

本實(shí)施例中，步驟S1，具體包括：

所述光源向顯示母板的待測量區(qū)域發(fā)射垂直于所述第二基板的多束單色光，在所述待測量區(qū)域的基板翹曲位置形成牛頓環(huán)干涉圖案。

進(jìn)一步地，如圖7所示，所述方法還包括如下步驟：

S4：所述處理器根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度以及預(yù)設(shè)盒厚，獲得與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示面板的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚；

S5：所述處理器根據(jù)所述顯示區(qū)域邊緣的盒厚，判定所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

具體地，步驟S3中的所述根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，得到每條干涉條紋處的空氣層厚度，具體包括：

根據(jù)每條干涉條紋的直徑、對應(yīng)的級(jí)數(shù)及所述單色光的波長，采用公式一得到每條干涉條紋處的空氣層厚度：

其中，n、m均表示干涉條紋的級(jí)數(shù)，且n>m，d_n為第n級(jí)干涉條紋處的空氣層厚度，D_n為第n級(jí)干涉條紋的直徑，D_m為第m級(jí)干涉條紋的直徑，λ為所述單色光的波長。

進(jìn)一步地，步驟S4，具體包括：

根據(jù)每條干涉條紋處的空氣層厚度，以及預(yù)設(shè)盒厚，采用公式二得到與所述牛頓環(huán)干涉圖案臨近的顯示區(qū)域邊緣處的盒厚：

d1_n-d＝d-d_n 公式二

其中，d1_n為顯示區(qū)域邊緣處的盒厚，d為預(yù)設(shè)盒厚，d_n為干涉條紋處的空氣層的厚度；d_n至顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域分界處的第一封框膠的距離與d1_n至所述第一封框膠的距離相等。

進(jìn)一步地，步驟S5，具體包括：

根據(jù)所述d1_n-d的值，判定d1_n對應(yīng)的所述顯示區(qū)域邊緣處的發(fā)黃程度。

如此，本實(shí)施例通過測定第一封框膠與第二封框膠之間區(qū)域?qū)?yīng)的牛頓環(huán)干涉圖案的直徑，通過計(jì)算可推算出顯示區(qū)域邊緣盒厚大小，從而判定局部發(fā)黃程度。進(jìn)而在制程中對局部發(fā)黃進(jìn)行監(jiān)控，避免資材浪費(fèi)。

在本發(fā)明的一個(gè)可選實(shí)施例中，除了上述步驟，所述方法還包括如下步驟：

所述處理器根據(jù)插值計(jì)算，獲得所述牛頓環(huán)干涉圖案對應(yīng)區(qū)域的第一基板的形變曲線。

需要說明的是，上述任一實(shí)施例中的基板翹曲量的測量裝置及方法，適合各類模式的TFT-LCD制程。如TN、ADS、VA、IPS均可適用。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，術(shù)語“上”、“下”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機(jī)械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以根據(jù)具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

還需要說明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語僅僅用來將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上實(shí)施例僅用以說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對其限制；盡管參照前述實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解：其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。