1.一種治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述治理氣井環(huán)空帶壓的方法是通過地面向環(huán)空帶壓氣井的氣井環(huán)空中補(bǔ)充注入密度大于產(chǎn)氣的補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液，阻止氣井生產(chǎn)管柱內(nèi)的產(chǎn)氣向氣井環(huán)空中泄漏，降低環(huán)空帶壓氣井的氣井環(huán)空壓力。
2.如權(quán)利要求1所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，該治理方法包括以下步驟：
步驟a)、在產(chǎn)氣量為第一產(chǎn)氣量時(shí)，設(shè)立所述氣井生產(chǎn)管柱的壓力剖面，設(shè)定為第一壓力剖面；設(shè)立所述氣井環(huán)空在環(huán)空帶壓穩(wěn)定狀態(tài)下的壓力剖面，設(shè)定為第二壓力剖面，設(shè)立所述氣井環(huán)空在氣井環(huán)空井口壓力為0時(shí)的壓力剖面，設(shè)定為第三壓力剖面；
步驟b)、設(shè)定所述第一壓力剖面與所述第二壓力剖面的交點(diǎn)為穩(wěn)定壓力平衡點(diǎn)；設(shè)定所述第一壓力剖面與所述第三壓力剖面的交點(diǎn)為初始?jí)毫ζ胶恻c(diǎn)；所述氣井生產(chǎn)管柱上的泄漏點(diǎn)位于所述初始?jí)毫ζ胶恻c(diǎn)的上方，所述生產(chǎn)管柱內(nèi)的產(chǎn)氣在壓差的作用下經(jīng)所述泄漏點(diǎn)泄漏到氣井環(huán)空；
步驟c)、泄去環(huán)空帶壓氣井的氣井環(huán)空井口壓力；
步驟d)、向氣井環(huán)空內(nèi)注入預(yù)定高度的、且密度大于產(chǎn)氣的補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液，使所述泄漏點(diǎn)位置的氣井環(huán)空壓力與所述生產(chǎn)管柱內(nèi)相對(duì)位置的壓力達(dá)到平衡，使氣井環(huán)空井口壓力降為0。
3.如權(quán)利要求2所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟d)中，所述氣井環(huán)空井口的壓力降低值為ΔP，所述環(huán)空帶壓氣井的井斜角為θ，所述補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液的密度為ρ，向所述氣井環(huán)空內(nèi)注入的所述補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液的高度為ΔH，所述補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液的高度對(duì)應(yīng)的環(huán)空壓力變化值為ΔPc，則，ΔP＝cosθ·ρgΔH-ΔPc。
4.如權(quán)利要求3所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟d)中，根據(jù)向所述氣井環(huán)空內(nèi)注入所述補(bǔ)充環(huán)空保護(hù)液時(shí)的環(huán)空井口壓力值和溫度信息設(shè)立第四壓力剖面。
5.如權(quán)利要求2所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟a)中，所述生產(chǎn)管柱內(nèi)設(shè)置能測(cè)量深度和壓力數(shù)據(jù)的測(cè)井儀器，通過所述測(cè)井儀器在產(chǎn)氣量為所述第一產(chǎn)氣量時(shí)測(cè)出的所述深度和壓力數(shù)據(jù)設(shè)立所述第一壓力剖面。
6.如權(quán)利要求2所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟a)中，根據(jù)環(huán)空帶壓穩(wěn)定狀態(tài)下的環(huán)空井口壓力值和溫度信息設(shè)立所述第二壓力剖面。
7.如權(quán)利要求2所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟a)中，通過套管頭閘板閥將氣井環(huán)空帶壓后的氣井環(huán)空井口壓力泄為0，根據(jù)泄壓后的氣井環(huán)空井口壓力值和溫度信息設(shè)立所述第三壓力剖面。
8.如權(quán)利要求2所述的治理氣井環(huán)空帶壓的方法，其特征在于，所述步驟c)中，通過套管頭閘板閥泄去所述氣井環(huán)空井口壓力。