1.一種甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，包括預(yù)電鍍工作槽、預(yù)電鍍循環(huán)箱和甲基磺酸溶液提供裝置；
所述預(yù)電鍍工作槽的進(jìn)口和出口分別與所述預(yù)電鍍循環(huán)箱連通；
所述甲基磺酸溶液提供裝置的出口與所述預(yù)電鍍循環(huán)箱連通，所述甲基磺酸溶液提供裝置中盛裝有甲基磺酸溶液；
其中，所述甲基磺酸溶液提供裝置通過所述預(yù)電鍍循環(huán)箱向所述預(yù)電鍍工作槽內(nèi)添加所述甲基磺酸溶液。
2.如權(quán)利要求1所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括計(jì)量泵；
所述甲基磺酸溶液提供裝置通過所述計(jì)量泵與所述預(yù)電鍍循環(huán)箱連通。
3.如權(quán)利要求2所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括流量計(jì)；
所述計(jì)量泵通過所述流量計(jì)與所述預(yù)電鍍循環(huán)箱連通。
4.如權(quán)利要求1所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，還包括循環(huán)泵；
所述循環(huán)泵設(shè)置在所述預(yù)電鍍循環(huán)箱與所述預(yù)電鍍工作槽之間的連通管路上。
5.如權(quán)利要求1所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，還包括第一開關(guān)閥門；
所述第一開關(guān)閥門設(shè)置在所述預(yù)電鍍工作槽與所述預(yù)電鍍循環(huán)箱之間的連通管路上。
6.如權(quán)利要求1所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，還包括第二開關(guān)閥門；
所述第二開關(guān)閥門設(shè)置在所述預(yù)電鍍循環(huán)箱與所述甲基磺酸溶液提供裝置之間的連通管路上。
7.如權(quán)利要求1所述的甲基磺酸電鍍錫的預(yù)電鍍系統(tǒng)，其特征在于，所述甲基磺酸溶液提供裝置中盛裝的所述甲基磺酸溶液為甲基磺酸原液。
8.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)電鍍工作槽內(nèi)甲基磺酸溶液中甲基磺酸的濃度為5～8ml/L。