專利名稱：包括穿有不同類型孔的射流破碎器托盤的用于分布多相混合物的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在催化反應(yīng)器中分布多相流體的領(lǐng)域，更具體地，涉及一種可用于優(yōu)化催化反應(yīng)器中的流體分布的裝置，該催化反應(yīng)器具有固定的床類型，以向下流動模式工作，在瓦斯油加氫處理類型以及以氣體一液體滴流模式工作的所有氫化操作的領(lǐng)域中。具體地，本發(fā)明可應(yīng)用于氣體/液體分布器的領(lǐng)域，例如那些被用于執(zhí)行氫化裂解、加氫處理、加氫脫硫、加氫脫金屬、加氫脫氮、選擇性或全部氫化、蒸汽裂化汽油的選擇性氫化、脂肪族和/或環(huán)烷餾分(cut)中的芳香族化合物的氫化、以及芳香族餾分中的烯烴的氫化。還可應(yīng)用于執(zhí)行促進(jìn)氣相和液相的良好混合的其他反應(yīng)，例如部分或全部的氧化反應(yīng)、胺化反應(yīng)、醋酐反應(yīng)、氨氧化反應(yīng)和鹵化反應(yīng)，尤其是氯化反應(yīng)。
背景技術(shù)：
于是通常，分布裝置設(shè)置在器皿或反應(yīng)器中，該器皿或反應(yīng)器包括用于液態(tài)流體的入口以及用于氣態(tài)流體的出口，并且包括例如粒狀固體的至少一個床。該裝置可設(shè)置成
或者位于床上方的器皿頭部處；
或者位于來自一個床的出口處，具有在器皿的整個區(qū)段上的供應(yīng)，覆蓋隨后的床。為了改善使用這種裝置時的流體分布，現(xiàn)有技術(shù)中的一種方案包括例如使用分布器托盤，其包括專用于氣體和液體經(jīng)過的多個混合通道。這些混合通道可具有不同類型并且在托盤上定位成各種構(gòu)造。這種裝置已經(jīng)在專利申請F(tuán)R 2807676、FR 2745202、FR 2853260 或者 US 2007/0241467 中得以描述。該類型的混合通道的缺點(diǎn)在于離開混合通道的流形成了相對聚集的兩相射流，這是有問題的，因?yàn)橐后w沒有被灑在柱(column)的整個區(qū)段上。為了克服該問題，混合通道之間的間隔相對較小(通常在80和200 mm之間)，這顯著地增加了混合通道的數(shù)量，從而增加了分布器托盤的總成本。改善床的灑布的另一個方案是將射流散布元件定位在混合通道下面?？墒褂脦追N類型的散布元件。插入件型元件通常附接到每個混合通道，以便將射流均勻地散布在混合通道下面的較寬角度上，如專利申請EP 2075056和US2010/0019061中所描述的。該類型的方案是有效的，但是其需要在混合通道和顆粒床的頂部之間保持一定距離，使得射流能灑布在床的寬區(qū)域上。理想地，該距離必須允許由相鄰混合通道形成的射流結(jié)合到一起。另外，該方案的成本相當(dāng)高，這是因?yàn)樾枰圃齑髷?shù)量的散布元件。專利FR2807673中描述的替代方案包括將射流破碎器類型的散布元件定位在托盤下面，該托盤對于數(shù)個混合通道是公共的(或者多于整行是公共的)。通常采用屏網(wǎng)或者穿孔托盤。重要的是，所使用的各種元件保持分離，使得氣體可在散布元件之間自由地循環(huán)，而不被約束成經(jīng)過元件本身。氣體一液體射流沖擊在屏網(wǎng)上并且被散布在其表面上，而后向下流到顆粒床上。專利FR 2832075描述了對該裝置的一種改進(jìn)，其包括僅向屏網(wǎng)的周邊添加凸緣。 所述凸緣允許液體保持在屏網(wǎng)處并且不會在側(cè)邊處溢流。這種類型的裝置具有多個優(yōu)點(diǎn)
其比插入件更加便宜，并且也意味著混合通道之間的間隔可增大； 流被分布在柱部分上，從而不需要在屏網(wǎng)下面允許有射流形成距離。這種類型裝置的缺點(diǎn)是其被限制于一定的操作范圍。實(shí)際上，屏網(wǎng)的幾何結(jié)構(gòu)在一定的操作范圍(例如對于氣體和液體速度)中得以優(yōu)化，使得
眷離開立管的兩相射流被屏網(wǎng)充分地破碎，并從而分布在立管下面的一定表面區(qū)域
上；
屏網(wǎng)上保留的液體不太多，從而液體不在屏網(wǎng)的側(cè)邊處溢流，而且即使屏網(wǎng)不是非常平的話，液體水平也不帶來太多的問題。這傾向于限制屏網(wǎng)的優(yōu)化操作范圍?？傮w上，所推薦的是，總是在遠(yuǎn)離屏網(wǎng)變得阻塞時的液體流速下進(jìn)行操作，即，使用液體進(jìn)料不會超過一定臨界高度(在0. 1至1 mm范圍內(nèi))的屏網(wǎng)，因而使用相對開放的屏網(wǎng)(開口百分比在5%至20%的范圍內(nèi))。相比之下，當(dāng)反應(yīng)器中采用低液體流速時，屏網(wǎng)沒有適當(dāng)?shù)仄扑閮上嗌淞鳎瑥亩黧w分布不是優(yōu)化的。這在反應(yīng)器沒有在其最大容量(翻轉(zhuǎn)，turndown)下使用時尤其如此。這導(dǎo)致液體在床中的不良分布以及反應(yīng)性能的降低(轉(zhuǎn)化和/或選擇性的損失)。 這種類型的問題存在于立管類型的混合通道中，然而也存在于蒸汽升管(lift)類型或泡帽類型的混合通道中。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的在于通過提出一種分布裝置來克服現(xiàn)有技術(shù)中的一個或多個缺點(diǎn)，該分布裝置包括射流破碎器托盤，其具有改進(jìn)的操作范圍并且優(yōu)化液體流的分布而不論流體速度如何。為此，本發(fā)明提出了一種用于分布由至少一個氣相和至少一個液相構(gòu)成的多相混合物的裝置，所述混合物以向下流動模式經(jīng)過至少一個固體顆粒床，并且所述裝置包括位于固體顆粒床上方的至少一個托盤、用于所述液相和氣相的多個混合通道、具有孔的射流破碎器托盤型的散布系統(tǒng)，所述散布系統(tǒng)在其周邊的至少一部分上設(shè)置有凸緣并且布置在所述混合通道下面以及在所述固體顆粒床上方，所述分布裝置的特征在于所述散布系統(tǒng)包括至少兩種類型的孔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述散布系統(tǒng)包括至少一個具有凸緣的孔和至少一個沒有凸緣的孔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述具有凸緣的孔的高度在0. 1至5 mm的范圍內(nèi)并且直徑在2至20 mm的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述沒有凸緣的孔的直徑在2至20 mm的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述具有凸緣的孔包括蓋。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述散布系統(tǒng)包括與至少一行具有凸緣的孔交替的至少一行沒有凸緣的孔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述散布系統(tǒng)包括至少一行孔，所述至少一行孔包括與至少一個具有凸緣的孔交替的至少一個沒有凸緣的孔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述孔的集合按照錯列圖案或者正方形或三角形圖案布置，在每種情況中具有規(guī)則間隔或不同的間隔。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述孔的分布取決于它們關(guān)于反應(yīng)器中心的位置而不同。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述散布系統(tǒng)包括至少一個分隔元件，所述至少一個分隔元件由實(shí)心或穿通或多孔板形成，具有平面長方體的形狀，垂直于所述射流破碎器托盤定位。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述分隔元件的高度在所述射流破碎器托盤的凸緣的高度的20%至100%的范圍內(nèi)，并且封閉所述射流破碎器托盤的截面的40%至100%的范圍。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述分隔元件定位在混合通道下面或者關(guān)于所述混合通道偏置，以便定位在兩個混合通道之間。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，所述混合通道是立管或蒸汽升管或泡帽。本發(fā)明還涉及如上所述的裝置在反應(yīng)器中的用途，所述反應(yīng)器適用于加氫處理或氫化或氧化。


從下面參照附圖作出的并作為示例給出的描述，本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將被更好地理解并將變得明顯，附圖中
圖1是本發(fā)明的分布裝置的示意輪廓圖； 圖2是本發(fā)明的分布裝置的示意透視圖； 圖3是本發(fā)明的分布裝置的一個變體的示意透視圖； 圖4是本發(fā)明的分布裝置的另一個變體的示意透視圖； 圖5是本發(fā)明的分布裝置的另一個變體的示意透視圖； 圖6是本發(fā)明的分布裝置的一個變體的示意頂視圖； 圖7是本發(fā)明的分布裝置的用途示例的示意側(cè)視圖； 圖8是曲線圖，表示液體水平的高度作為液體空間速度的函數(shù)。
具體實(shí)施例方式如圖1和圖2中可見，本發(fā)明的裝置可包括多個諸如立管2的混合通道，其具有在其上部分處的至少一個上流動區(qū)段22 (例如錐形部)以及下流動區(qū)段23。這些混合通道可包括多個孔21，允許液體通過。在托盤1下面，射流破碎器型散布系統(tǒng)3接收在混合通道 2中形成的多相混合物?；旌贤ǖ赖母叨韧ǔＴ?00至500毫米(mm)的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在 200至400 mm的范圍內(nèi)。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中，混合通道也可以是蒸汽升管。蒸汽升管類型的裝置(在專利US7600742和US5942162中描述)由多個管道構(gòu)成，所述多個管道形成M形回路，用于流體循環(huán)。使用術(shù)語“升管”是因?yàn)檎羝跏嫉赝ㄟ^外管道在裝置中上升，然后通過中心管道下降。
在本發(fā)明的另一個實(shí)施例中，混合通道也可以是泡帽。混合通道管道突出超過托盤1 一高度，該高度通常在10 mm和200 mm之間并且常常在25 mm和50 mm之間。通常，混合通道延伸到分布器托盤下面一長度，該長度小于或等于混合通道的出口 23和射流破碎器型托盤3之間的距離?；旌贤ǖ?布置在托盤上方的部分在其周邊上的一個或多個水平處穿有孔21或縫槽，優(yōu)選地至少三個水平。用于確?；旌贤ǖ?中形成的兩相或多相混合物的散布的裝置是射流破碎器托盤型散布系統(tǒng)3，其位于混合通道的流動區(qū)段23的下面和附近。該射流破碎器散布系統(tǒng)具有射流破碎器托盤的形式并且可具有孔或者是多孔的?；旌贤ǖ赖某隹?23和射流破碎器托盤3之間的距離通常從5 mm變化到500 mm,常為10 mm至200 mm并且優(yōu)選為50 mm至 100 mm。射流破碎器托盤通常由多個分離的元件構(gòu)成，該多個元件布置在不同高度(關(guān)于混合通道的出口 23)，但是其全部表面覆蓋了反應(yīng)器的所述區(qū)段。射流破碎器托盤的各種元件和混合通道出口 23之間的距離的差異意味著可留出一個自由的流動區(qū)段用于氣體通過。 射流破碎器托盤3位于離粒狀固體床一距離處，以便保存在所述混合通道內(nèi)形成并通過所述下流動區(qū)段離開所述混合通道的混合物，直到其分布回到所述粒狀固體床。該距離通常在0至500 mm的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在1至100 mm的范圍內(nèi)。射流破碎器托盤可懸掛在托盤1處或者在混合通道2的下端處。射流破碎器托盤3還包括凸緣36，凸緣36可容納液體。該凸緣36布置在整個射流破碎器托盤3上，這些凸緣自身可以是多孔的。凸緣36的高度可在0. 2至1倍通道直徑的范圍內(nèi)，例如在2至50 mm的范圍內(nèi)。它們自身可具有0至80 %范圍內(nèi)的孔隙率。 它們可以或可以不相對豎直傾斜，并且它們的傾角通常在-40°至+60°的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在-30°至+45°的范圍內(nèi)，這些角度值是關(guān)于豎直方向的，正值對應(yīng)于凸緣從散布系統(tǒng)向外傾斜，負(fù)值對應(yīng)于凸緣從散布系統(tǒng)向內(nèi)傾斜。顯然，當(dāng)不同水平面內(nèi)的散布系統(tǒng)設(shè)置有凸緣時，這些水平面之間的間隔距離必須大于凸緣的高度。散布系統(tǒng)的僅僅一部分可具有凸緣36，而其他部分不具有這種凸緣。通常優(yōu)選的是對位于最接近粒狀固體的平面上的散布系統(tǒng)提供凸緣。在某些情況中，可能甚至有利的是，給定的散布系統(tǒng)僅在其周邊的一部分上具有凸緣。這些凸緣的確切幾何形狀可變化，具體地，凸緣的上端可以是向內(nèi)彎曲的。在散布系統(tǒng)的凸緣附近，散布系統(tǒng)的孔隙率可以為零或者等于散布系統(tǒng)3的表面的其余部分。 術(shù)語“在散布系統(tǒng)的凸緣附近”指的是位于距離凸緣30 mm或更小處的區(qū)域，優(yōu)選地距離凸緣20 mm或更小。所述凸緣及其接近零的孔隙率的功能之一是保持住液體進(jìn)中可含有的某些雜質(zhì)， 尤其是當(dāng)其由重的碳?xì)浠衔飿?gòu)成時，例如沸點(diǎn)高于350 ！的餾分，而這是用于重瓦斯油類型餾分的加氫處理的單元的情況。在這種情況中，凸緣附近的區(qū)域逐漸變得裝滿雜質(zhì)，由此防止粒狀固體床的污染。本發(fā)明的射流破碎器型托盤包括至少兩種類型的孔或穿孔 沒有凸緣的孔35，在屏網(wǎng)水平上；
具有凸緣的孔34，或者升高的孔，其關(guān)于屏網(wǎng)水平升高并且其僅當(dāng)保衛(wèi)液體(即射流破碎器托盤3上的液體水平)超過一定高度時允許流通過。沒有凸緣的孔35 (在圖1和圖2中示出)可具有在2至20 mm范圍內(nèi)的直徑，優(yōu)選地在2至15 mm的范圍內(nèi)。同一個托盤可包括不同直徑的沒有凸緣的孔35。具有凸緣的孔34或者立管(在圖1至圖5中示出)具有管道的形式并且可具有在 2至20 mm范圍內(nèi)的直徑，優(yōu)選地在2至15 mm的范圍內(nèi)。同一個托盤可包括不同直徑的具有凸緣的孔34。具有凸緣的孔34的凸緣340的高度在0. 1 mm至20 mm的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在0.5 mm至10 mm的范圍內(nèi)。通常，孔凸緣的高度小于托盤的凸緣的高度，優(yōu)選地在托盤的高度的5%至50%的范圍內(nèi)。這些具有凸緣的孔34可包括蓋341、342或者帽，如圖4和圖5所示。蓋341可部分地且直接地被附接到孔34的凸緣340 (圖4)。這樣，孔保持部分地打開。蓋342可借助于至少兩個突片343被附接，這意味著該蓋可保持在凸緣上方一定距離處(圖5)。這樣，孔保持完全打開但是被蓋342保護(hù)。相同或不同高度且相同或不同直徑的具有凸緣的孔34以及相同或不同直徑的沒有凸緣的孔35可按照任何可能的方式被布置在托盤上，其非限制性示例如下
至少一行沒有凸緣的孔35與至少一行具有凸緣的孔34交替； 每行孔可包括與具有凸緣的孔34交替的沒有凸緣的孔35 ； 孔(具有和沒有凸緣)的集合可按照錯列圖案或者任何其他方式布置，例如正方形或三角形圖案，在每種情況中具有規(guī)則間隔或不同的間隔；
沒有凸緣的孔35的數(shù)量大于具有凸緣的孔34的數(shù)量，例如，每行可僅包括具有凸緣的孔35 ；
具有凸緣的孔35的分布可取決于它們關(guān)于反應(yīng)器中心的位置而不同，以便適應(yīng)托盤的任何撓曲；
不同高度的具有凸緣的孔34的系列可與沒有凸緣的孔35交替； 不同直徑的沒有凸緣的孔35與不同直徑和高度的具有凸緣的孔34 —起； 具有凸緣的孔34的數(shù)量大于沒有凸緣的孔35的數(shù)量，例如，每行可僅包括沒有凸緣的孔35。對具有凸緣的孔34和沒有凸緣的孔35的數(shù)量及其直徑進(jìn)行選擇，從而維持射流破碎器托盤3的開口百分比，該開口百分比通常在5%至25%的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在5%至 20%的范圍內(nèi)。本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例采用相同直徑的沒有凸緣的孔35，或者甚至沒有穿孔，以及具有少量毫米(0.5 — 3 mm)凸緣的孔34，其具有蓋341、342。實(shí)際上，對于低流速，重要的是保持高的孔密度以便為此使用小的孔尺寸來適當(dāng)?shù)胤植家后w。對于較高的流速，尤其重要的是將過量的液體流分布在反應(yīng)器的整個區(qū)段上，但是注射點(diǎn)處的密度較不關(guān)鍵，并且間隔可略微更大。蓋是有必要的，以便在射流破碎器托盤上沒有液體水平時防止液體穿過這些孔，這意味著對于低液體空間速度，離開立管的流可被分布在屏網(wǎng)的大表面區(qū)域上。倘若本發(fā)明的射流破碎器托盤意圖在一液體水平的情況下操作，則分布對于不處于水平的射流破碎器托盤是敏感的，因而重要的是能夠插入垂直于射流破碎器托盤的分隔板以在其不處于水平時限制射流破碎器托盤上的液體流的不平衡，并且防止液體在重力作用下聚集在射流破碎器的單一位置處并然后以不規(guī)則方式溢流到顆粒床上。在本發(fā)明的一個實(shí)施例中(在圖6中示出)，射流破碎器托盤3可從而包括至少一個分隔元件32，也稱為擋板。射流破碎器托盤可包括一個或多個分隔元件32。這些分隔元件可由垂直于射流破碎器托盤定位的板形成。它們的高度通常在射流破碎器托盤3的凸緣36的高度的20%至 100 %的范圍內(nèi)，優(yōu)選地在50 %至90 %的范圍內(nèi)。它們通常布置在橫向于射流破碎器托盤 3的平面中。根據(jù)本發(fā)明的一個實(shí)施例，分隔元件32被定向?yàn)樵诖怪庇谕斜P3的最長邊的平面中。這些分隔元件32可按照不同方式布置。它們可定位在混合通道2的直接下面，從而散布其流體。它們可定位在混合通道下面但是關(guān)于混合通道偏置，從而它們定位在兩個混合通道之間。在某些情況中，射流破碎器托盤3的機(jī)械撓曲在反應(yīng)器或柱的區(qū)段上不均勻。該撓曲使托盤在接近凸緣處變形極大，而在中心處變形較小。因此，可以將散布元件按照它們關(guān)于托盤3的凸緣36的位置的函數(shù)來分布。分隔元件32的分布因而按照它們在射流破碎器托盤3上的位置的函數(shù)而變化。例如，分隔元件32可按照算術(shù)方式布置。在這種情況中， 分隔元件32不是按照規(guī)則方式布置在混合通道2之間，而是分隔不同數(shù)量的混合通道2，例如分隔每1、2、3、4等等個混合通道2。它們也可在射流破碎器托盤3的端部處以更大的數(shù)量布置，例如在這些區(qū)域中分隔每個混合通道2，而在中部分隔每2、3、4等等個混合通道2。 這些示例不以任何方式限制，并且分隔元件32的任何位置均是可設(shè)想的。例如，分隔元件 32可布置成分隔每1至10個混合通道，優(yōu)選地每1至5個混合通道。這些分隔元件32可具有平面矩形的形狀，或者任何其他適于所使用的射流破碎器托盤3的形狀。分隔元件32可以是實(shí)心的、穿通的或者多孔的，以便部分地或全部地密封射流破碎器托盤3的截面。不論它們形狀如何，分隔元件32堵塞托盤截面的40%至100% 的范圍，優(yōu)選地50%至100%的范圍。分隔元件32通過常規(guī)附接手段附接到射流破碎器托盤并且附接到凸緣36。用于將分隔元件23附接到射流破碎器托盤3的系統(tǒng)也可被設(shè)計成阻塞射流破碎器托盤3的一部分。附接系統(tǒng)可例如包括固定裝置，該固定裝置包括用于阻塞所述類型板的裝置，其將塞住射流破碎器托盤3的一個或多個沒有凸緣的孔35。該板的形狀可以是圓形、橢圓形、正方形或矩形，或者其可具有不同的形狀。板的形狀和尺寸根據(jù)待阻塞的射流破碎器托盤3的表面積或孔數(shù)量來選擇。這種板例如可阻塞一個或多個孔?？捎寐葆敽吐菟愋偷母浇酉到y(tǒng)將該板焊接或固定到射流破碎器托盤3，或者用適于本發(fā)明的裝置的任何其他附接系統(tǒng)。圖7示出了本發(fā)明的分布裝置的簡化實(shí)施方式。下面作為應(yīng)用示例給出的描述涉及在反應(yīng)器中使用的分布系統(tǒng)，該反應(yīng)器以向下流動模式操作并適用于加氫處理。反應(yīng)器包括器皿5，器皿5在其上部或反應(yīng)器頭部包括預(yù)分布器7。由預(yù)分布器7 分布的混合器以向下流動模式流到分布器托盤1，分布器托盤1位于第一粒狀固體床61或催化床的上方。該托盤包括多個混合通道2，多個混合通道2開口到散布性射流破碎器型托盤3上。在其經(jīng)過粒狀固體床61之后并經(jīng)過根據(jù)本發(fā)明的第二裝置之后，兩相混合器被直接重新分布到第二粒狀固體床62上。以下的示例對本發(fā)明進(jìn)行說明。示例
以下的示例對本發(fā)明進(jìn)行說明。計算顯示出射流破碎器托盤上的液體水平變化作為液
8體空間速度(Vsl)的函數(shù)。對于射流破碎器的適當(dāng)操作，推薦使用屏網(wǎng)，其上的液體高度無法超過一定的臨界高度(在0.1至1 mm的范圍內(nèi))。在該高度范圍內(nèi)，射流破碎器可被認(rèn)為更加柔性，其對應(yīng)于寬范圍的vsl。所有的計算均在10 cm/s的表面氣體流速Vsg和10 MPa的壓力下進(jìn)行。示例1 (比較性)
使用射流破碎器托盤3，其包括沒有凸緣的孔35。該孔的直徑為8 mm，形成36 mm三角形圖案。示例2 (比較性)
使用射流破碎器托盤3，其包括沒有凸緣的孔35。該孔的直徑為8 mm，形成22.5 mm三角形圖案。示例3 (根據(jù)本發(fā)明)
使用射流破碎器托盤3，其包括沒有凸緣的孔35和具有凸緣的孔34。該孔的直徑為9 mm，形成25 mm三角形圖案。具有凸緣的孔為0. 5 mm高。這些孔布置成行地在托盤上，沒有凸緣的孔35與具有凸緣的孔34交替(每種50% )。結(jié)論
圖8中示出了每種示例的結(jié)果，其代表液體水平的高度(H，以mm為單位的液體水平)作為液體空間速度(vsl，以cm/s為單位)的函數(shù)。對于屏網(wǎng)上的液體高度的推薦范圍(0. 1至 1 mm的范圍內(nèi))，各種射流破碎器型托盤3的操作范圍如下 示例1 在0. 15至0. 5 cm/s的范圍內(nèi)； 示例2 在0. 4至1. 3 cm/s的范圍內(nèi)； 示例3 在0. 2至1. 2 cm/s的范圍內(nèi)。從而，具有兩種類型孔的射流破碎器的操作范圍更寬，屏網(wǎng)在更寬范圍的流速下操作。本發(fā)明不限于上面給出的細(xì)節(jié)，在不超出本發(fā)明的應(yīng)用范圍的情況下，允許其他特定類型的實(shí)施例。因此，當(dāng)前實(shí)施例應(yīng)被認(rèn)為是示例性的，并且可在不超出權(quán)利要求所限定范圍的情況下被修改。
權(quán)利要求
1.一種用于分布由至少一個氣相和至少一個液相構(gòu)成的多相混合物的裝置，所述混合物以向下流動模式經(jīng)過至少一個固體顆粒床，并且所述裝置包括位于固體顆粒床上方的至少一個托盤(1)、用于所述液相和氣相的多個混合通道(2)、具有孔的射流破碎器托盤型的散布系統(tǒng)(3)，所述散布系統(tǒng)(3)在其周邊的至少一部分上設(shè)置有凸緣(36)并且布置在所述混合通道(2)下面以及在所述固體顆粒床上方，所述分布裝置的特征在于所述散布系統(tǒng)(3)包括至少兩種類型的孔(34、35)。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述散布系統(tǒng)(3)包括至少一個具有凸緣的孔(34) 和至少一個沒有凸緣的孔(35)。
3.如權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述具有凸緣的孔(34)的高度在0.1至20mm的范圍內(nèi)并且直徑在2至20 mm的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求2或3所述的裝置，其中，所述沒有凸緣的孔(35)的直徑在2至20mm 的范圍內(nèi)。
5.如權(quán)利要求2至4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述具有凸緣的孔(34)包括蓋(341、 342)。
6.如權(quán)利要求2至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述散布系統(tǒng)(3)包括與至少一行具有凸緣的孔(34)交替的至少一行沒有凸緣的孔(35)。
7.如權(quán)利要求2至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述散布系統(tǒng)(3)包括至少一行孔， 所述至少一行孔包括與至少一個具有凸緣的孔(34)交替的至少一個沒有凸緣的孔(35)。
8.如權(quán)利要求2至7中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述孔的集合按照錯列圖案或者正方形或三角形圖案布置，在每種情況中具有規(guī)則間隔或不同的間隔。
9.如權(quán)利要求2至8中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述孔的分布取決于它們關(guān)于反應(yīng)器中心的位置而不同。
10.如權(quán)利要求2至9中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述散布系統(tǒng)(3)包括至少一個分隔元件(32)，所述至少一個分隔元件(32)由實(shí)心或穿通或多孔板形成，具有平面長方體的形狀，垂直于所述射流破碎器托盤(3)定位。
11.如權(quán)利要求10所述的裝置，其中，所述分隔元件(32)的高度在所述射流破碎器托盤(3)的凸緣(36)的高度的20%至100%的范圍內(nèi)，并且封閉所述射流破碎器托盤(3)的截面的40%至100%的范圍。
12.如權(quán)利要求10或11所述的裝置，其特征在于，所述分隔元件(32)定位在混合通道 (2)下面或者關(guān)于所述混合通道(2)偏置使得其定位在兩個混合通道(2)之間。
13.如權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述混合通道是立管或蒸汽升管或泡帽。
14.根據(jù)權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)的裝置在反應(yīng)器中的用途，所述反應(yīng)器適用于加氫處理或氫化或氧化。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種包括穿有不同類型孔的射流破碎器托盤的用于分布多相混合物的裝置，所述混合物由至少一個氣相和至少一個液相構(gòu)成，所述混合物以向下流動模式經(jīng)過至少一個固體顆粒床，并且所述裝置包括位于固體顆粒床上方的至少一個托盤(1)、用于所述液相和氣相的多個混合通道(2)、具有孔的射流破碎器托盤型的散布系統(tǒng)(3)，所述散布系統(tǒng)(3)在其周邊的至少一部分上設(shè)置有凸緣(36)并且布置在所述混合通道(2)下面以及在所述固體顆粒床上方，所述分布裝置的特征在于所述散布系統(tǒng)(3)包括至少兩種類型的孔(34、35)。
文檔編號B01J4/00GK102430366SQ20111025818
公開日2012年5月2日 申請日期2011年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月3日
發(fā)明者布瓦耶 C., 加尼埃 E., 奧吉耶 F., 巴澤爾-巴希 F. 申請人:Ifp 新能源公司