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一種TiO<sub>2</sub>/石墨烯復(fù)合薄膜的制備方法

文檔序號:4995230閱讀:195來源:國知局
專利名稱:一種TiO<sub>2</sub>/石墨烯復(fù)合薄膜的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種二氧化鈦(TiO2)/石墨烯復(fù)合薄膜的制備方法,屬于納米材料和光催化領(lǐng)域。
背景技術(shù)
作為一種應(yīng)用最為廣泛的光催化劑材料,TiO2在環(huán)境污染治理和太陽能利用等方面扮演了重要角色。目前,在TiA的制備等方面已經(jīng)有了很大的突破,但由于其禁帶寬度為3. 2 eF (銳鈦礦,Anatase),只能吸收波長小于387nm的紫外光,光催化效率很低。因此,很多科學(xué)家都將研究的重點(diǎn)集中在TW2的可見光改性和提高催化效率上。目前,用于可見光改性的方法主要有摻雜和復(fù)合。這其中,碳納米材料由于其獨(dú)特的物理化學(xué)性能,使得其與 TiO2復(fù)合材料的光催化性能研究成為一個熱門方向。石墨烯是由碳六元環(huán)組成的兩維QD)周期蜂窩狀點(diǎn)陣結(jié)構(gòu),它可以翹曲成零維 (OD)的富勒烯(fullerene),卷成一維(ID)的碳納米管(carbon nanotube, CNT)或者堆垛成三維(3D)的石墨(graphite),因此石墨烯是構(gòu)成其他石墨材料的基本單元。研究表明,石墨烯的理論比表面積高達(dá)沈00 m2 g—1,具有突出的導(dǎo)熱性能(3000 Wm-IK-I))和力學(xué)性能(1060 GPa),以及室溫下高速的電子遷移率(15000cm2V-lS-l)),石墨烯特殊的結(jié)構(gòu), 使其具有完美的量子隧道效應(yīng)、半整數(shù)的量子霍爾效應(yīng)、從不消失的電導(dǎo)率等一系列性質(zhì)。 這些特殊的性質(zhì),都會使得石墨烯對光催化反應(yīng)產(chǎn)生積極的影響。因此,相對于其它碳納米材料而言,石墨烯與TW2復(fù)合可能是更為理想的光催化材料。目前,制備TiO2與石墨烯復(fù)合材料的方法主要有水熱法、溶膠-凝膠法二種。這些方法的特點(diǎn)是將TiO2納米顆粒與石墨烯進(jìn)行復(fù)合。例如
水熱法首先將石墨粉氧化處理成石墨烯氧化物,然后將其與TiA納米顆粒混合進(jìn)行水熱反應(yīng)(120 1下3小時),最后石墨烯氧化物在通過水熱還原的過程中與1102納米顆粒實(shí)現(xiàn)復(fù)合。此方法的皿=TiO2與石墨烯直接形成良好的肖脫基接觸,甚至形成化學(xué)鍵合, 很好地阻止了在光催化過程中光生電子空穴對的體內(nèi)復(fù)合問題,使得光催化性能得到明顯改善。缺點(diǎn)由于復(fù)合集中在石墨烯氧化物表面官能團(tuán)存在的位置,使得TiO2納米顆粒不能均地分布在石墨烯表面,由此難以更好的快速轉(zhuǎn)移TiO2經(jīng)光照產(chǎn)生的光生載流子。另外,由于該復(fù)合光催化劑為微納米尺度的粉末,在實(shí)際應(yīng)用中存在循環(huán)使用及回收困難等問題, 對其光催化效率及壽命帶來很大影響。溶膠凝膠法首先利用化學(xué)剝離法(又稱還原氧化石墨法)制備出石墨烯,再將石墨烯、鈦酸四丁酯、酒精、乙酸和蒸餾水依次混合制備出溶膠,并在80 °C下干燥;然后將制備出的前驅(qū)體在450 !下(空氣或氮?dú)鈿夥罩?煅燒2小時,最后得到TiO2/石墨烯復(fù)合材料。這種方法的皿在石墨烯表面直接生長出TiO2納米顆粒,復(fù)合效果均勻,有利于光生載流子的分離;同時,由于直接利用石墨烯作為前驅(qū)體,可以更為精確地控制石墨烯在復(fù)合材料中所占比例。MA:實(shí)驗(yàn)過程繁瑣復(fù)雜,需要時間周期長。另外,與水熱法相同,制備出來的復(fù)合材料是納米粉末,回收再利用困難,難于功能化和器件化。近年來,光催化材料的壽命問題及其器件化應(yīng)用是的一個重要研究方向。一般認(rèn)為在基體上制備TW2薄膜的方法能夠克服TW2納米顆粒所帶來的不足。目前制備TW2薄膜的方法有脈沖激光沉積法(PLD)、磁控濺射法(sputtering)、微弧氧化法(MAO)等。例如 脈沖激光沉積法(PLD)利用準(zhǔn)分子脈沖激光器所產(chǎn)生的高強(qiáng)度脈沖激光束聚焦于 TiO2靶材表面,使靶材表面產(chǎn)生高溫及熔蝕,并進(jìn)一步產(chǎn)生高溫高壓等離子體,等離子體定向局域膨脹發(fā)射并在襯底上沉積形成TW2薄膜。皿脈沖激光沉積法的生長參數(shù)獨(dú)立可調(diào),易于對TW2薄膜的生長過程進(jìn)行精確控制,可以制備出均勻的納米級TW2薄膜。MA 脈沖激光沉積法制備出的TiA薄膜多以非晶態(tài)的形式存在,需要進(jìn)行熱處理退火,TiO2晶型難以得到很好控制,尤其在與碳材料復(fù)合時,因?yàn)榉蔷嫉慕Y(jié)晶化溫度遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于TiO2相變溫度(銳鈦礦-金紅石)。磁控濺射法利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下高速轟擊作為陰極的TiO2 靶材表面,使靶材中的原子或分子從表面射出而沉積到被鍍工件的表面,形成所需要的薄膜。皿所獲得的TiO2薄膜純度高,與基板結(jié)合較好,可以在大面積基板上制備厚度均勻的薄膜。同時,在靶材中加入各種摻雜物質(zhì),易于制備出均勻摻雜的TiO2薄膜,是一種制備摻雜TiA光催化材料的有效途徑。皿濺射過程中的溫度、氣壓等因素對基板的要求很高,濺射工藝較為復(fù)雜,對其應(yīng)用帶來局限性。不同靶材的濺射工藝、薄膜沉積速率和沉積溫度等參數(shù)差別較大,因此,難于制備出T^2基復(fù)合光催化薄膜。微弧氧化法將Ti等閥金屬或其合金置于電解質(zhì)溶液中,利用電化學(xué)方法,在表面的微孔中產(chǎn)生火花放電斑點(diǎn),在熱化學(xué)、等離子體化學(xué)和電化學(xué)的共同作用下生成TiO2 陶瓷薄膜。皿微弧氧化所制備的TW2薄膜與鈦合金基體結(jié)合緊密,薄膜最外層為多孔、 銳鈦礦相TiO2,有利于光催化性能的充分發(fā)揮。M 微弧放電過程中基板表面溫度高達(dá) 2000 °C,因此,微弧氧化技術(shù)只能局限于對光催化TW2薄膜進(jìn)行金屬或金屬氧化物復(fù)合, 而難于與碳材料進(jìn)行有效復(fù)合。綜合TiO2光催化薄膜的制備方法,可以看出固定化的光催化薄膜材料克服了傳統(tǒng)懸浮體系中光催化納米顆粒難于分離回收的難題,對光催化材料的應(yīng)用起到了極大的推動作用。然而,這些制膜技術(shù)相對于化學(xué)制備法而言,工藝要求更為復(fù)雜,特別是難于實(shí)現(xiàn)TiO 與碳材料的復(fù)合。因此,到目前為止,關(guān)于制備TiO2/石墨烯復(fù)合薄膜的方法還未見報導(dǎo)。鑒于上述原因,我們試圖通過簡單的旋轉(zhuǎn)涂覆法制備TiO2/石墨烯層狀復(fù)合 (layer-by-layer,LBL)薄膜,這種層狀復(fù)合薄膜能夠很好的克服納米顆粒難于分離回收以及薄膜材料難于與石墨烯進(jìn)行復(fù)合的難題。其優(yōu)勢在于不同性能的材料可以很好地協(xié)同在一起,最大可能地發(fā)揮各自優(yōu)勢。并且膜層與基體間結(jié)合緊密,增強(qiáng)了 TiO2/石墨烯復(fù)合材料的光催化性能和循環(huán)壽命,在功能化和器件化的應(yīng)用方面有很好的前景。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題在于提供一種TiO2/石墨烯復(fù)合薄膜的制備方法。本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題所提供的技術(shù)方案是首先采用化學(xué)剝離法(又稱還原氧化石墨法)制備石墨烯氧化物,主要包括石墨的預(yù)氧化(除去碳納米顆粒)和二次氧化 (石墨層間插入官能團(tuán))過程;之后采用旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)依次制備厚度均勻的石墨烯氧化物薄膜和納米TiO2薄膜;最后將制備好的層狀復(fù)合薄膜放置于紫外燈下照射,在此過程中,TiA 產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原成石墨烯,形成TiO2/石墨烯層狀復(fù)合薄膜。上述技術(shù)方案,具體包括如下步驟1、石墨烯氧化物的制備按照本技術(shù)領(lǐng)域熟知的已有方法來制備,如化學(xué)剝離法。2、旋轉(zhuǎn)涂覆分別將石墨烯氧化物和T^2納米顆粒溶于有機(jī)溶劑,配成懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為0. 1 1 mg/ml, 1 10 mg/ml ;采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和納米TiO2薄膜,轉(zhuǎn)速2500 3000轉(zhuǎn)/分鐘,每層涂覆時間為30 60秒,進(jìn)液量為1 2 ml,涂覆后40 60°C下干燥,待形成均勻干燥薄膜后再進(jìn)行下次涂覆,最終形成 TiO2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜;
3.石墨烯氧化物的還原將上述制備好的石墨烯氧化物/TW2層狀復(fù)合薄膜放入2M 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射2 5小時,在此過程中,TiO2產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原成石墨烯,即得到T^2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜。所述的化學(xué)剝離法制備石墨烯氧化物的過程是將0. 3 g石墨粉、0. 5 g Kj2O4禾口 0.5 g P2O5混合加入到2 4 ml的98%中,80°C下恒溫?cái)嚢?小時,得到深藍(lán)色溶液。過濾后將初產(chǎn)物加入到12 ml的質(zhì)量濃度98%的濃中,緩慢加入1. 5 g KMnO4,使混合溶液溫度不超過20 °C,然后35 °C下恒溫?cái)嚢?小時,溶液呈黃褐色。加入25 ml蒸餾水后繼續(xù)攪拌,2小時后再次加入70 ml蒸餾水和2 ml質(zhì)量濃度為30%的H2O2,還原未完全反應(yīng)的KMnO4,溶液變?yōu)榱咙S色。再依次進(jìn)行過濾、酸洗、水洗、干燥,即得到石墨烯氧化物。本發(fā)明方法所制備的TiA /石墨烯層狀復(fù)合薄膜可用于光催化凈化領(lǐng)域。本發(fā)明方法首先制備出層數(shù)很少的石墨烯氧化物,并依次將石墨烯氧化物和TiO2 納米顆粒進(jìn)行旋轉(zhuǎn)涂覆制備出石墨烯氧化物/TiO2層狀復(fù)合薄膜,最后在紫外光的照射下利用TiO2產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原,得到石墨烯/TiO2層狀復(fù)合薄膜。這種層狀復(fù)合薄膜極大的提高了光催化劑對待降解物的吸附能力及光生載流子的轉(zhuǎn)移效率,從而提高了光催化性能。與旋轉(zhuǎn)涂覆的純TiO2納米薄膜相比,層狀復(fù)合薄膜對紫外光和可見光的吸收效率明顯提高,降解有機(jī)污染的降解效率顯著提高。另外本發(fā)明方法工藝簡單,制備過程易于控制,生產(chǎn)效率高,對環(huán)境污染小,同時,對光催化劑的器件化發(fā)展起到了推動作用。 總之,本發(fā)明具有有益的效果。


圖1為實(shí)施例1制備的TiA /石墨烯復(fù)合材料的高分辨透射電鏡(HRTEM)圖; 圖2為實(shí)施例2制備的T^2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜的拉曼光譜(Raman)圖3為實(shí)施例3制備的T^2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜的掃描電鏡(SEM)剖面圖; 圖4為對比例與實(shí)施例4制備的TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜的紫外-可見(UV-Vis) 吸收光譜對比圖5為對比例與實(shí)施例4制備的TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜對羅丹明-B溶液的降解效果對比圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)一步闡述,但并不因此將本發(fā)明限制在所述的實(shí)施例范圍之內(nèi)。實(shí)施例1
將0. 3 g石墨粉、0. 5 g K2S2O4和0. 5 g P2O5混合加入到2 4 ml的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃H2SO4中,80°C下恒溫?cái)嚢?小時,得到深藍(lán)色溶液。過濾后將初產(chǎn)物加入到12 ml的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃H2SO4中,緩慢加入1.5 g KMnO4,使混合溶液溫度不超過20 °C,然后 35 °C下恒溫?cái)嚢?小時,溶液呈黃褐色。加入25 ml蒸餾水后繼續(xù)攪拌,2小時后再次加入70 ml蒸餾水和2 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為30%的H2O2,還原未完全反應(yīng)的KMnO4,溶液變?yōu)榱咙S色。 再依次進(jìn)行過濾、酸洗、水洗、干燥,即得到石墨烯氧化物。分別配置石墨烯氧化物和TiO2納米顆粒的乙醇懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為0. 1 mg/ml, 1 mg/ml。采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和TiO2納米薄膜,轉(zhuǎn)速為 2500轉(zhuǎn)/分鐘,時間為30秒,進(jìn)液量為1 ml,每次涂覆后在60°C下干燥,再進(jìn)行下次涂覆, 最終形成TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜。將上述制備好的TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜放入254 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射2小時,在此過程中,TiO2產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原成石墨烯,即得到石墨烯/T^2層狀復(fù)合薄膜。實(shí)施例1制備的石墨烯/11 復(fù)合材料的高分辨透射電鏡(HRTEM)如圖1所示,由圖中可以看出制得的石墨烯氧化物層數(shù)較少,TiO2納米顆粒均勻分布在石墨烯表面。實(shí)施例2 將0. 3 g石墨粉、0. 5 g Kj2O4和0. 5 g P2O5混合加入到2 4 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃中,80°C下恒溫?cái)嚢?小時,得到深藍(lán)色溶液。過濾后將初產(chǎn)物加入到12 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃H2SO4中,緩慢加入1. 5 g KMnO4,使混合溶液溫度不超過20 °C,然后35 °C下恒溫?cái)嚢?小時,溶液呈黃褐色。加入25 ml蒸餾水后繼續(xù)攪拌,2小時后再次加入70 ml蒸餾水和2 ml質(zhì)量濃度為30%的H2O2,還原未完全反應(yīng)的KMnO4,溶液變?yōu)榱咙S色。再依次進(jìn)行過濾、酸洗、水洗、干燥,即得到石墨烯氧化物。分別配置石墨烯氧化物和T^2納米顆粒的丙酮懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為0. 4 mg/ml, 4mg/ml。采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和TW2納米薄膜,轉(zhuǎn)速為2500 轉(zhuǎn)/分鐘,時間為40秒,進(jìn)液量為1.5 ml,每次涂覆后在60°C下干燥,再進(jìn)行下次涂覆,最終形成TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜。將上述制備好的TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜放入254 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射3小時,最終得到石墨烯/TiO2層狀復(fù)合薄膜。由實(shí)施例2制備的TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜的拉曼光譜如圖2所示,從中可以看出11 和石墨烯的拉曼峰清晰明了,即說明石墨烯與TiA納米顆粒復(fù)合良好。實(shí)施例3 將0. 3 g石墨粉、0. 5 g Kj2O4和0. 5 g P2O5混合加入到2 4 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃中,80°C下恒溫?cái)嚢?小時,得到深藍(lán)色溶液。過濾后將初產(chǎn)物加入到12 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃H2SO4中,緩慢加入1. 5 g KMnO4,使混合溶液溫度不超過20 °C,然后35 °C下恒溫?cái)嚢?小時,溶液呈黃褐色。加入25 ml蒸餾水后繼續(xù)攪拌,2小時后再次加入70 ml蒸餾水和2 ml質(zhì)量濃度為30%的H2O2,還原未完全反應(yīng)的KMnO4,溶液變?yōu)榱咙S色。再依次進(jìn)行過濾、酸洗、水洗、干燥,即得到石墨烯氧化物。分別配置石墨烯氧化物和T^2納米顆粒的乙醇懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為0. 7 mg/ml, 7 mg/ml。采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和TiO2納米薄膜,轉(zhuǎn)速為 3000轉(zhuǎn)/分鐘,時間為50秒,進(jìn)液量為2 ml,每次涂覆后在60°C下干燥,再進(jìn)行下次涂覆, 最終形成TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜。將上述制備好的TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜放入254 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射4小時,即得到石墨烯/TiO2層狀復(fù)合薄膜。
由實(shí)施例3制備的TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜的掃描電鏡(SEM)剖面圖如圖3所示,
實(shí)施例4:將0.3 g石墨粉、0.5 g K2S2O4 ^P 0. 5 g P2O5混合加入到2 4 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃中,80°C下恒溫?cái)嚢?小時,得到深藍(lán)色溶液。過濾后將初產(chǎn)物加入到 12 ml質(zhì)量分?jǐn)?shù)為98%的濃H2SO4中,緩慢加入1. 5 g KMnO4,使混合溶液溫度不超過20 °C, 然后35 °C下恒溫?cái)嚢?小時,溶液呈黃褐色。加入25 ml蒸餾水后繼續(xù)攪拌,2小時后再次加入70 ml蒸餾水和2 ml質(zhì)量濃度為30%的H2O2,還原未完全反應(yīng)的KMnO4,溶液變?yōu)榱咙S色。再依次進(jìn)行過濾、酸洗、水洗、干燥,即得到石墨烯氧化物。分別配置石墨烯氧化物和TW2納米顆粒乙醇懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為1 mg/ml, 10 mg/ml。采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和TiO2納米薄膜,轉(zhuǎn)速為3000轉(zhuǎn)/ 分鐘,時間為60秒,進(jìn)液量為2 ml,每次涂覆后在60°C下干燥,再進(jìn)行下次涂覆,最終形成 TiO2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜。將上述制備好的TW2 /石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜放入254 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射5小時,即得到石墨烯/TiO2層狀復(fù)合薄膜。對比例配置10 mg/ml的TW2納米顆粒乙醇懸浮液,采用旋轉(zhuǎn)涂覆法制備TW2納米薄膜,轉(zhuǎn)速為3000轉(zhuǎn)/分鐘,時間為60秒,進(jìn)液量為2 ml,干燥后即得到TiO2納米薄膜。圖4所示為實(shí)施例4制備的TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜與對比例制備的TW2納米薄膜的紫外-可見(UV-Vis)吸收光譜對比圖,從中可以看出實(shí)施例4制備的層狀復(fù)合薄膜對可見光波段的吸收強(qiáng)度提高,且發(fā)生了紅移現(xiàn)象。將實(shí)施例4和對比例的兩個樣品用于降解羅丹明B溶液的對比實(shí)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)中羅丹明B溶液的濃度為12毫克/升,所采用光源為高壓汞燈。對比實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖5所示,由圖 5可得出層狀復(fù)合薄膜對羅丹明B溶液的降解率相對于T^2納米薄膜明顯提高。
權(quán)利要求
1.一種TW2復(fù)合薄膜的制備方法,其特征在于,首先采用化學(xué)剝離法制備石墨烯氧化物;之后采用旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)依次制備厚度均勻的石墨烯氧化物薄膜和納米T^2薄膜;最后將制備好的層狀復(fù)合薄膜放置于紫外燈下照射,在此過程中,TiO2產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原成石墨烯,形成TiO2/石墨烯層狀復(fù)合薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的制備方法,其特征在于,具體包括如下步驟1)石墨烯氧化物的制備;2)旋轉(zhuǎn)涂覆分別將石墨烯氧化物和TiA納米顆粒溶于有機(jī)溶劑,配成懸浮液,其質(zhì)量濃度分別為0. 1 1 mg/ml, 1 10 mg/ml ;采用旋轉(zhuǎn)涂覆法依次制備石墨烯氧化物薄膜和納米TiO2薄膜,轉(zhuǎn)速2500 3000轉(zhuǎn)/分鐘,每層涂覆時間為30 60秒,進(jìn)液量為1 2 ml,涂覆后40 60°C下干燥,待形成均勻干燥薄膜后再進(jìn)行下次涂覆,最終形成TW2 / 石墨烯氧化物層狀復(fù)合薄膜;3)石墨烯氧化物的還原將上述制備好的石墨烯氧化物/TW2層狀復(fù)合薄膜放入254 325nm波段范圍內(nèi)的紫外光下照射2 5小時,在此過程中,TiO2產(chǎn)生的光生電子將石墨烯氧化物還原成石墨烯,即得到TW2 /石墨烯層狀復(fù)合薄膜。
全文摘要
本發(fā)明提供一種TiO2/石墨烯層狀復(fù)合薄膜的制備方法。首先采用化學(xué)剝離法(又稱還原氧化石墨法)制備石墨烯氧化物,之后采用旋轉(zhuǎn)涂覆技術(shù)依次制備大面積均勻的石墨烯氧化物和TiO2納米薄膜。最后將制備好的層狀復(fù)合薄膜放置于紫外燈下照射,在此過程中,TiO2產(chǎn)生的光生電子能將石墨烯氧化物還原成石墨烯,形成TiO2/石墨烯層狀復(fù)合薄膜。本發(fā)明應(yīng)用于光催化凈化領(lǐng)域,與TiO2納米薄膜相比,層狀復(fù)合薄膜對可見光的吸收效率明顯提高,降解有機(jī)污染的降解效率顯著提高。
文檔編號B01J21/06GK102380364SQ201110258050
公開日2012年3月21日 申請日期2011年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月2日
發(fā)明者張?jiān)i, 潘春旭, 許俊杰 申請人:武漢大學(xué)
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