1.一種蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源包括：蒸鍍本體和n個加熱部件，所述n大于1，
所述蒸鍍本體包括為中空結構的坩堝、環(huán)繞設置在所述坩堝外壁的加熱絲和設置有n個噴嘴的坩堝蓋，所述坩堝蓋設置在所述坩堝開口端；
所述n個加熱部件設置在所述坩堝內，每個所述加熱部件位于一個噴嘴的下方，每個所述加熱部件設置有加熱絲。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，所述蒸鍍源還包括：噴嘴疏通部件，所述噴嘴疏通部件包括激光發(fā)生器、金屬棒、控制器和第一驅動部件，
所述噴嘴疏通部件位于所述坩堝內部或者外部；
所述金屬棒為中空結構，所述金屬棒的頂端為密閉結構，所述激光發(fā)生器與所述控制器連接，所述激光發(fā)生器用于在所述控制器的控制下發(fā)射激光，并采用所述激光對所述金屬棒加熱，加熱的金屬棒能夠在所述第一驅動部件的驅動力下穿入所述噴嘴內。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍源，其特征在于，
每個所述加熱部件的高度相等，且大于所述坩堝所能容納的待蒸鍍材料的最大厚度。
4.根據權利要求2所述的蒸鍍源，其特征在于，所述噴嘴疏通部件位于所述坩堝內部，所述噴嘴疏通部件的數量為n，每個所述噴嘴疏通部件還包括：底座、激光傳導部件和第二驅動部件，
所述坩堝底面設置有n個開口，每個所述噴嘴在所述坩堝底面上的正投影的中心與一個開口的中心重合；
每個所述加熱部件包括套管和管蓋，所述管蓋設置在所述套管的頂端，所述套管的管壁包括內層壁和外層壁，所述加熱部件的加熱絲環(huán)繞設置在所述內層壁上，所述套管的底端與所述坩堝底面的開口為一體型結構；
對于每個所述噴嘴疏通部件，所述金屬棒設置在所述套管內，所述底座設置在所述金屬棒的底端，所述底座為中空結構，所述金屬棒和所述底座連通，所述激光發(fā)生器和所述激光傳導部件設置在所述底座內，所述激光傳導部件能夠將所述激光發(fā)生器發(fā)射的激光經過所述金屬棒傳輸至所述金屬棒的頂端，所述第一驅動部件設置在所述底座的一端，
所述內層壁和所述外層壁形成的環(huán)形空間中設置有容納管，所述容納管內設置有第一支撐桿，所述第一支撐桿的一端與所述第二驅動部件連接，所述第一支撐桿能夠在所述第二驅動部件的驅動力下發(fā)生垂直位移，以及沿水平方向旋轉，所述第一支撐桿的另一端與所述管蓋固定連接。
5.根據權利要求2所述的蒸鍍源，其特征在于，所述噴嘴疏通部件位于所述坩堝外部，所述噴嘴疏通部件還包括承載臺、導軌和第二支撐桿，
所述第一驅動部件和所述導軌設置在所述承載臺上，所述第二支撐桿的一端位于所述導軌內，所述第二支撐桿與所述第一驅動部件連接，所述第二支撐桿能夠在所述第一驅動部件的驅動力下沿著所述導軌在水平面上移動并發(fā)生垂直位移，所述第二支撐桿遠離所述承載臺的一端設置有激光頭，所述金屬棒設置在所述激光頭遠離所述第二支撐桿的一端。
6.根據權利要求5所述的蒸鍍源，其特征在于，所述第二支撐桿為中空結構，所述噴嘴疏通部件還包括激光傳導部件，
所述激光發(fā)生器設置在所述承載臺上，所述激光傳導部件設置在所述第二支撐桿內。
7.根據權利要求5所述的蒸鍍源，其特征在于，
所述激光發(fā)生器設置在所述第二支撐桿遠離所述承載臺的一端，且靠近所述激光頭的位置處。
8.根據權利要求4所述的蒸鍍源，其特征在于，
所述套管的外層壁的內側設置有第一溫度傳感器，所述第一溫度傳感器用于監(jiān)測所述套管上的溫度，并將監(jiān)測到的溫度傳輸至所述控制器。
9.根據權利要求4所述的蒸鍍源，其特征在于，
所述金屬棒的外壁設置有第二溫度傳感器，所述第二溫度傳感器用于監(jiān)測所述金屬棒上的溫度，并將監(jiān)測到的溫度傳輸至所述控制器。
10.根據權利要求4或6所述的蒸鍍源，其特征在于，
所述噴嘴疏通部件還包括保護部件，所述激光傳導部件設置在所述保護部件內。