一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)。該遮擋裝置包括動力機構(gòu)和遮擋機構(gòu)，動力機構(gòu)用于帶動遮擋機構(gòu)變換不同位置，遮擋機構(gòu)用于遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；還用于開啟蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。該遮擋裝置實現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
【專利說明】
一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]在顯示技術(shù)領(lǐng)域，OLED蒸鍍工藝在進行蒸鍍過程中需要進行蒸鍍材料的速率控制。目前，在OLED的蒸鍍腔室內(nèi)通常設(shè)置有多個蒸鍍源，每個蒸鍍源中的蒸鍍材料用于蒸鍍形成OLED器件的一個功能層(如發(fā)光層、電子傳輸層或空穴傳輸層)。每個蒸鍍源的正上方都分別設(shè)置有一塊擋板，擋板與蒸鍍源的蒸鍍面平行，且擋板的大小恰好能夠遮擋與其對應(yīng)的蒸鍍源的蒸鍍面。
[0003]每個蒸鍍源在蒸鍍開始時，擋板拿掉之后才能開始對蒸鍍材料的速率進行控制，同時向待鍍基板上進行蒸鍍。一個蒸鍍源蒸鍍完后，下一個蒸鍍源重復(fù)同樣的過程進行另一種蒸鍍材料的速率控制和蒸鍍。這種蒸鍍方法不僅蒸鍍時間過長，而且往往在蒸鍍材料的速率還沒有穩(wěn)定時，部分蒸鍍材料就已經(jīng)蒸鍍到待鍍基板上，使待鍍基板上的蒸鍍膜厚控制不夠精準(zhǔn)，既浪費蒸鍍材料，又影響基板上該蒸鍍膜層的品質(zhì)。
[0004]目前的蒸鍍工藝不但使OLED顯示器件良率低，而且極大地提高了OLED顯示器件的成本，使OLED顯示器件一直處于難以取代IXD顯示器件的境地。特別是對于G2.5產(chǎn)線產(chǎn)生了諸如產(chǎn)能低、材料成本高、時間伴隨成本高、重復(fù)性穩(wěn)定性差等問題，且這些問題成為阻礙OLED發(fā)展的瓶頸問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，提供一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)。該遮擋裝置實現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0006]本發(fā)明提供一種遮擋裝置，包括動力機構(gòu)和遮擋機構(gòu)，所述動力機構(gòu)用于帶動所述遮擋機構(gòu)變換不同位置，所述遮擋機構(gòu)用于遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；還用于開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。
[0007]優(yōu)選地，所述蒸鍍速率感應(yīng)器和所述待鍍基板均位于所述蒸鍍源的上方，且所述蒸鍍速率感應(yīng)器和所述待鍍基板在所述蒸鍍源所在平面上的正投影分別位于所述蒸鍍源的相對兩側(cè)；
[0008]所述動力機構(gòu)用于設(shè)置在所述蒸鍍源的與所述待鍍基板位置相對應(yīng)的一側(cè)，所述動力機構(gòu)包括動力源、第一帶動件和第二帶動件，所述動力源與所述第一帶動件活動連接，所述第一帶動件與所述第二帶動件活動連接，所述動力源能帶動所述第一帶動件轉(zhuǎn)動，以使所述第一帶動件帶動所述第二帶動件轉(zhuǎn)動；
[0009]所述遮擋機構(gòu)連接所述第二帶動件，所述遮擋機構(gòu)能在所述第二帶動件的帶動下在與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。
[0010]優(yōu)選地，所述遮擋機構(gòu)呈矩形板狀，所述遮擋機構(gòu)的長邊沿遠離所述動力機構(gòu)的方向延伸，所述遮擋機構(gòu)的寬度大于等于所述蒸鍍源的直徑;所述遮擋機構(gòu)能在其板面與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。
[0011]優(yōu)選地，所述遮擋機構(gòu)呈圓筒狀，所述圓筒的一端筒口用于與所述蒸鍍源的蒸鍍面相對，所述圓筒的筒徑沿遠離所述動力機構(gòu)的方向延伸，所述圓筒的直徑大于等于所述蒸鍍源的直徑;所述遮擋機構(gòu)能在其筒徑與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。
[0012]優(yōu)選地，所述遮擋機構(gòu)采用金屬材料。
[0013]優(yōu)選地，所述遮擋機構(gòu)的用于面向所述蒸鍍源的遮擋面設(shè)置為網(wǎng)格狀。
[0014]優(yōu)選地，所述動力源包括氣動源或電動源，所述第一帶動件包括蝸桿，所述第二帶動件包括渦輪;所述蝸桿與所述渦輪相互活動嚙合，所述動力源能帶動所述蝸桿轉(zhuǎn)動，所述蝸桿能帶動所述禍輪轉(zhuǎn)動。
[0015]優(yōu)選地，還包括控制模塊，所述控制模塊與所述動力機構(gòu)連接，用于控制所述動力機構(gòu)動作，以帶動所述遮擋機構(gòu)遮擋所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道；以及帶動所述遮擋機構(gòu)變換位置，以使所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道開啟。
[0016]本發(fā)明還提供一種蒸鍍系統(tǒng)，包括上述遮擋裝置。
[0017]優(yōu)選地，還包括蒸鍍源、蒸鍍速率感應(yīng)器和蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍源用于向待鍍基板上蒸鍍膜層;所述蒸鍍速率感應(yīng)器用于采集所述蒸鍍源的蒸鍍速率，并將采集的所述蒸鍍速率發(fā)送給所述蒸鍍膜厚控制器;所述蒸鍍膜厚控制器用于根據(jù)所述蒸鍍速率控制蒸鍍到所述待鍍基板上的膜層厚度；
[0018]所述遮擋裝置的控制模塊連接所述蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍膜厚控制器還用于控制所述控制模塊向動力機構(gòu)發(fā)出控制指令。
[0019]本發(fā)明還提供一種如上述遮擋裝置的遮擋方法，包括:
[0020]在蒸鍍速率控制階段，動力機構(gòu)帶動遮擋機構(gòu)遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；
[0021]在蒸鍍階段，所述動力機構(gòu)帶動所述遮擋機構(gòu)開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。
[0022]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所提供的遮擋裝置，通過設(shè)置遮擋機構(gòu)，既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟，實現(xiàn)了在蒸鍍之前能夠提前進行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時，蒸鍍材料的速率已經(jīng)達到穩(wěn)定，從而實現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，進而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0023]本發(fā)明所提供的蒸鍍系統(tǒng)，通過采用上述遮擋裝置，實現(xiàn)了該蒸鍍系統(tǒng)的連續(xù)性蒸鍍控制，使該蒸鍍系統(tǒng)不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
【附圖說明】
[0024]圖1為本發(fā)明實施例1中遮擋裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖2為圖1中遮擋機構(gòu)的遮擋面的結(jié)構(gòu)俯視圖；
[0026]圖3為圖1中的遮擋機構(gòu)在蒸鍍速率控制階段的設(shè)置位置示意圖；
[0027]圖4為圖1中的遮擋機構(gòu)在蒸鍍階段的設(shè)置位置示意圖；
[0028]圖5為本發(fā)明實施例2中遮擋裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]其中的附圖標(biāo)記說明:
[0030]1.動力機構(gòu)；11.第一帶動件；12.第二帶動件;2.遮擋機構(gòu);L.遮擋機構(gòu)的長邊;W.遮擋機構(gòu)的寬度;3.蒸鍍源;31.蒸鍍源的軸線;4.待鍍基板;5.蒸鍍速率感應(yīng)器。
【具體實施方式】
[0031]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明所提供的一種遮擋裝置及其遮擋方法和蒸鍍系統(tǒng)作進一步詳細描述。
[0032]實施例1:
[°033 ]本實施例提供一種遮擋裝置，如圖1所示，包括動力機構(gòu)I和遮擋機構(gòu)2，動力機構(gòu)I用于帶動遮擋機構(gòu)2變換不同位置，遮擋機構(gòu)2用于遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟;還用于開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟。
[0034]該遮擋裝置通過設(shè)置遮擋機構(gòu)2，實現(xiàn)了既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟，從而實現(xiàn)了在蒸鍍之前能夠提前進行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時，蒸鍍材料的速率已經(jīng)達到穩(wěn)定，進而實現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，同時不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0035]本實施例中，蒸鍍速率感應(yīng)器5和待鍍基板4均位于蒸鍍源3的上方，且蒸鍍速率感應(yīng)器5和待鍍基板4在蒸鍍源3所在平面上的正投影分別位于蒸鍍源3的相對兩側(cè)。動力機構(gòu)I用于設(shè)置在蒸鍍源3的與待鍍基板4位置相對應(yīng)的一側(cè)，動力機構(gòu)I包括動力源(圖中未示出)、第一帶動件11和第二帶動件12，動力源與第一帶動件11活動連接，第一帶動件11與第二帶動件12活動連接，動力源能帶動第一帶動件11轉(zhuǎn)動，以使第一帶動件11帶動第二帶動件12轉(zhuǎn)動。遮擋機構(gòu)2連接第二帶動件12，遮擋機構(gòu)2能在第二帶動件12的帶動下在與蒸鍍源3的軸線31夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。
[0036]其中，動力源包括氣動源(如氣缸)或電動源(如電機)，第一帶動件11包括蝸桿，第二帶動件12包括渦輪;蝸桿與渦輪相互活動嚙合，動力源能帶動蝸桿轉(zhuǎn)動，蝸桿能帶動渦輪轉(zhuǎn)動。當(dāng)然，第一帶動件11和第二帶動件12的結(jié)構(gòu)并不僅僅局限于上述渦輪和蝸桿的結(jié)構(gòu)。第一帶動件11和第二帶動件12的設(shè)置，使遮擋機構(gòu)2轉(zhuǎn)動起來更加靈活，從而能更加靈活地實現(xiàn)遮擋機構(gòu)2對蒸鍍通道的遮擋和開啟，同時還大大減小了遮擋機構(gòu)2轉(zhuǎn)動時消耗的能量。
[0037]基于遮擋裝置的上述結(jié)構(gòu)，遮擋機構(gòu)2逆時針轉(zhuǎn)動，能夠?qū)崿F(xiàn)在蒸鍍速率控制階段對蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道進行遮擋，從而確保在蒸鍍源3的蒸鍍材料速率沒有達到穩(wěn)定之前，不會蒸鍍到待鍍基板4上;遮擋機構(gòu)2順時針轉(zhuǎn)動，能夠?qū)崿F(xiàn)在蒸鍍階段開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟，從而確保了待鍍基板4上的鍍膜質(zhì)量。
[0038]其中，遮擋機構(gòu)2呈矩形板狀，遮擋機構(gòu)2的長邊L沿遠離動力機構(gòu)I的方向延伸，遮擋機構(gòu)2的寬度W大于等于蒸鍍源3的直徑;遮擋機構(gòu)2能在其板面與蒸鍍源3的軸線31夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。蒸鍍源3為將蒸鍍材料設(shè)置在圓柱體狀的蒸鍍腔室內(nèi)，蒸鍍時，對腔室內(nèi)的蒸鍍材料進行加熱升溫，使蒸鍍材料向上蒸發(fā)。在蒸鍍前的蒸鍍速率控制階段，遮擋機構(gòu)2逆時針轉(zhuǎn)動到其板面與蒸鍍源3的軸線31夾角在0-90°范圍內(nèi)的某一角度如60°時，能使其恰好遮擋住蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，使蒸鍍材料無法蒸鍍到待鍍基板4上，從而避免在蒸鍍速率控制階段速率不穩(wěn)定的蒸鍍材料蒸鍍到待鍍基板4上，造成蒸鍍膜層異常。當(dāng)蒸鍍源3開始蒸鍍時，遮擋機構(gòu)2順時針轉(zhuǎn)動到其板面與蒸鍍源3的軸線31夾角在0-90°范圍內(nèi)的某一角度如90°時，能使遮擋機構(gòu)2的板面不再遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，同時還能保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟，此時，蒸鍍源3能夠?qū)⒄翦儾牧险Ｕ翦兊酱兓?上，同時，蒸鍍速率感應(yīng)器5能夠正常監(jiān)測并控制蒸鍍速率。當(dāng)蒸鍍源3不蒸鍍時，遮擋機構(gòu)2轉(zhuǎn)動到其板面恰好將蒸鍍源3的蒸鍍開口蓋合的位置。
[0039]本實施例中，遮擋機構(gòu)2采用金屬材料。金屬材料的遮擋機構(gòu)2具有對蒸鍍材料的良好的承載作用，即由于在蒸鍍速率控制階段，遮擋機構(gòu)2遮擋了蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，所以蒸鍍材料在該階段會有部分蒸鍍到遮擋機構(gòu)2上，金屬材料的遮擋機構(gòu)2不容易使蒸鍍到其上的蒸鍍材料脫落下來，從而避免了脫落的蒸鍍材料落入蒸鍍源3中后對蒸鍍的質(zhì)量造成不良影響。
[0040]本實施例中，如圖2所示，遮擋機構(gòu)2的用于面向蒸鍍源3的遮擋面設(shè)置為網(wǎng)格狀。網(wǎng)格狀的遮擋面能使蒸鍍到該面上的蒸鍍材料牢固地附著于網(wǎng)格內(nèi)，從而進一步提高了遮擋機構(gòu)2對蒸鍍到其上的蒸鍍材料的承載能力，使蒸鍍到其上的蒸鍍材料不容易脫落，確保蒸鍍能夠正常進行。
[0041]需要說明的是，也可以只讓遮擋機構(gòu)2的遮擋面采用金屬材料，而遮擋機構(gòu)2的其他部分采用塑料或陶瓷等重量比較輕的材料，如此還能夠減小遮擋機構(gòu)2整體的重力，使遮擋機構(gòu)2不容易因為重力而發(fā)生轉(zhuǎn)動位置改變。
[0042]本實施例中，遮擋裝置還包括控制模塊(圖中未示出)，控制模塊與動力機構(gòu)I連接，用于控制動力機構(gòu)I動作，以帶動遮擋機構(gòu)2遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道；以及帶動遮擋機構(gòu)2變換位置，以使蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道開啟?？刂颇K的設(shè)置，使遮擋機構(gòu)2的位置變換更加智能化，從而進一步提高了蒸鍍效率。
[0043]基于遮擋裝置的上述結(jié)構(gòu)，本實施例還提供一種該遮擋裝置的遮擋方法，包括:在蒸鍍速率控制階段，動力機構(gòu)I帶動遮擋機構(gòu)2遮擋蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟(如圖3所示)。在蒸鍍階段，動力機構(gòu)I帶動遮擋機構(gòu)2開啟蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道開啟(如圖4所示)。
[0044]實施例2:
[0045]本實施例提供一種遮擋裝置，與實施例1不同的是，如圖5所示，遮擋機構(gòu)2呈圓筒狀，圓筒的一端筒口用于與蒸鍍源3的蒸鍍面相對，圓筒的筒徑沿遠離動力機構(gòu)I的方向延伸，圓筒的直徑大于等于蒸鍍源3的直徑;遮擋機構(gòu)2能在其筒徑與蒸鍍源3的軸線31夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。
[0046]本實施例中，在蒸鍍速率控制階段，圓筒狀的遮擋機構(gòu)2轉(zhuǎn)動到遮擋位置時，恰好能將蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道完全遮擋住，避免在蒸鍍速率控制階段速率不穩(wěn)定的蒸鍍材料蒸鍍到待鍍基板4上，造成蒸鍍膜層異常。
[0047]其中，在蒸鍍速率控制階段，圓筒狀遮擋機構(gòu)2恰好能轉(zhuǎn)到其另一端筒口與蒸鍍速率感應(yīng)器5正相對，即圓筒筒徑的延伸方向恰好與蒸鍍源3與蒸鍍速率感應(yīng)器5之間的蒸鍍通道延伸方向一致，此時，蒸鍍源3蒸發(fā)出來的蒸鍍材料恰好沿圓筒狀遮擋機構(gòu)2的筒內(nèi)向蒸鍍速率感應(yīng)器5蒸鍍，以對蒸鍍材料的蒸鍍速率進行控制；同時，在該階段，蒸鍍源3的蒸鍍材料無法蒸鍍到待鍍基板4上。在這種情況下，優(yōu)選地，圓筒狀遮擋機構(gòu)2的內(nèi)筒面設(shè)置為網(wǎng)格狀。
[0048]本實施例中遮擋裝置的其他結(jié)構(gòu)以及遮擋方法與實施例1中相同，此處不再贅述。
[0049]另外需要說明的是，遮擋機構(gòu)2也可以采用其他形狀的結(jié)構(gòu)，只要能夠在蒸鍍速率控制階段對蒸鍍源3與待鍍基板4之間的蒸鍍通道實現(xiàn)遮擋即可。
[0050]實施例1-2的有益效果:實施例1-2所提供的遮擋裝置，通過設(shè)置遮擋機構(gòu)，既能在蒸鍍速率控制階段遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟；又能在蒸鍍階段開啟蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟，實現(xiàn)了在蒸鍍之前能夠提前進行蒸鍍材料的速率控制，蒸鍍開始時，蒸鍍材料的速率已經(jīng)達到穩(wěn)定，從而實現(xiàn)了蒸鍍的連續(xù)性控制，不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，進而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0051 ] 實施例3:
[0052 ]本實施例提供一種蒸鍍系統(tǒng)，包括實施例1 -2任意一個中的遮擋裝置。
[0053]其中，蒸鍍系統(tǒng)還包括蒸鍍源、蒸鍍速率感應(yīng)器和蒸鍍膜厚控制器，蒸鍍源用于向待鍍基板上蒸鍍膜層。蒸鍍速率感應(yīng)器用于采集蒸鍍源的蒸鍍速率，并將采集的蒸鍍速率發(fā)送給蒸鍍膜厚控制器。蒸鍍膜厚控制器用于根據(jù)蒸鍍速率控制蒸鍍到待鍍基板上的膜層厚度。遮擋裝置的控制模塊連接蒸鍍膜厚控制器，蒸鍍膜厚控制器還用于控制該控制模塊向動力機構(gòu)發(fā)出控制指令。
[0054]通過采用實施例1-2任意一個中的遮擋裝置，實現(xiàn)了該蒸鍍系統(tǒng)的連續(xù)性蒸鍍控制，使該蒸鍍系統(tǒng)不僅縮短了蒸鍍時間，而且節(jié)約了蒸鍍材料，從而不僅提高了產(chǎn)能，而且節(jié)約了成本，同時還提高了蒸鍍的穩(wěn)定性和良率。
[0055]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權(quán)項】
1.一種遮擋裝置，包括動力機構(gòu)和遮擋機構(gòu)，其特征在于，所述動力機構(gòu)用于帶動所述遮擋機構(gòu)變換不同位置，所述遮擋機構(gòu)用于遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟;還用于開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮擋裝置，其特征在于，所述蒸鍍速率感應(yīng)器和所述待鍍基板均位于所述蒸鍍源的上方，且所述蒸鍍速率感應(yīng)器和所述待鍍基板在所述蒸鍍源所在平面上的正投影分別位于所述蒸鍍源的相對兩側(cè)； 所述動力機構(gòu)用于設(shè)置在所述蒸鍍源的與所述待鍍基板位置相對應(yīng)的一側(cè)，所述動力機構(gòu)包括動力源、第一帶動件和第二帶動件，所述動力源與所述第一帶動件活動連接，所述第一帶動件與所述第二帶動件活動連接，所述動力源能帶動所述第一帶動件轉(zhuǎn)動，以使所述第一帶動件帶動所述第二帶動件轉(zhuǎn)動； 所述遮擋機構(gòu)連接所述第二帶動件，所述遮擋機構(gòu)能在所述第二帶動件的帶動下在與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述遮擋機構(gòu)呈矩形板狀，所述遮擋機構(gòu)的長邊沿遠離所述動力機構(gòu)的方向延伸，所述遮擋機構(gòu)的寬度大于等于所述蒸鍍源的直徑;所述遮擋機構(gòu)能在其板面與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述遮擋機構(gòu)呈圓筒狀，所述圓筒的一端筒口用于與所述蒸鍍源的蒸鍍面相對，所述圓筒的筒徑沿遠離所述動力機構(gòu)的方向延伸，所述圓筒的直徑大于等于所述蒸鍍源的直徑;所述遮擋機構(gòu)能在其筒徑與所述蒸鍍源的軸線夾角為0-90°的范圍內(nèi)順時針和逆時針轉(zhuǎn)動。5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項所述的遮擋裝置，其特征在于，所述遮擋機構(gòu)采用金屬材料。6.根據(jù)權(quán)利要求1-4任意一項所述的遮擋裝置，其特征在于，所述遮擋機構(gòu)的用于面向所述蒸鍍源的遮擋面設(shè)置為網(wǎng)格狀。7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的遮擋裝置，其特征在于，所述動力源包括氣動源或電動源，所述第一帶動件包括蝸桿，所述第二帶動件包括渦輪;所述蝸桿與所述渦輪相互活動嚙合，所述動力源能帶動所述蝸桿轉(zhuǎn)動，所述蝸桿能帶動所述渦輪轉(zhuǎn)動。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的遮擋裝置，其特征在于，還包括控制模塊，所述控制模塊與所述動力機構(gòu)連接，用于控制所述動力機構(gòu)動作，以帶動所述遮擋機構(gòu)遮擋所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道；以及帶動所述遮擋機構(gòu)變換位置，以使所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道開啟。9.一種蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任意一項所述的遮擋裝置。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的蒸鍍系統(tǒng)，其特征在于，還包括蒸鍍源、蒸鍍速率感應(yīng)器和蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍源用于向待鍍基板上蒸鍍膜層;所述蒸鍍速率感應(yīng)器用于采集所述蒸鍍源的蒸鍍速率，并將采集的所述蒸鍍速率發(fā)送給所述蒸鍍膜厚控制器;所述蒸鍍膜厚控制器用于根據(jù)所述蒸鍍速率控制蒸鍍到所述待鍍基板上的膜層厚度； 所述遮擋裝置的控制模塊連接所述蒸鍍膜厚控制器，所述蒸鍍膜厚控制器還用于控制所述控制模塊向動力機構(gòu)發(fā)出控制指令。11.一種如權(quán)利要求1-8任意一項所述的遮擋裝置的遮擋方法，其特征在于，包括:在蒸鍍速率控制階段，動力機構(gòu)帶動遮擋機構(gòu)遮擋蒸鍍源與待鍍基板之間的蒸鍍通道，并保持所述蒸鍍源與蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟； 在蒸鍍階段，所述動力機構(gòu)帶動所述遮擋機構(gòu)開啟所述蒸鍍源與所述待鍍基板之間的蒸鍍通道，并繼續(xù)保持所述蒸鍍源與所述蒸鍍速率感應(yīng)器之間的蒸鍍通道開啟。
【文檔編號】C23C14/54GK106086783SQ201610509680
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年6月30日
【發(fā)明人】付文悅, 王小虎, 陳立強
【申請人】京東方科技集團股份有限公司