本實(shí)用新型涉及一種鍍膜設(shè)備，特別涉及一種納米離化表面金屬復(fù)合膜層智能化設(shè)備，屬于鍍膜設(shè)備領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質(zhì)量，在現(xiàn)代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進(jìn)行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據(jù)光學(xué)的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(zhì)(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復(fù)地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經(jīng)鍍膜的透鏡每個(gè)表面的反射率為5％，單層鍍膜后降至2％，而多層鍍膜可降至0.2％，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，從而提高影像的反差和明銳度。但是現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備，在對金屬表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品噴涂表面進(jìn)行鍍膜時(shí)，不夠環(huán)保、高效，生產(chǎn)成本高。因此我們需要一種納米離化表面金屬復(fù)合膜層智能化設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備，在對金屬表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品噴涂表面進(jìn)行鍍膜時(shí)，不夠環(huán)保、高效，生產(chǎn)成本高的缺陷，提供一種納米離化表面金屬復(fù)合膜層智能化設(shè)備，從而解決上述問題。

為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了如下的技術(shù)方案：

本實(shí)用新型一種納米離化表面金屬復(fù)合膜層智能化設(shè)備，包括鍍膜真空腔體、電控柜、過渡真空腔體和料架臺(tái)，所述料架臺(tái)上設(shè)置有所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體，所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體內(nèi)均設(shè)置有精抽泵、增壓泵、機(jī)械泵、維持泵、數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)、進(jìn)水管、出水管、進(jìn)氣管和出氣管，所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體外表面均設(shè)置有伺服電機(jī)、觀察窗和加強(qiáng)筋，所述過渡真空腔體外表面上設(shè)置有離子源電源、混氣儀和水分離器，所述過渡真空腔體和所述鍍膜真空腔體的內(nèi)底部設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪組和加熱管道，所述驅(qū)動(dòng)輪組上設(shè)置有工件架，所述工件架上設(shè)置有若干掛桿軸，所述加熱管道內(nèi)設(shè)置有熱電偶，所述過渡真空腔體內(nèi)設(shè)置有離子源清洗器，所述離子源清洗器上設(shè)置有質(zhì)量流量控制器和高真空截止閥，所述鍍膜真空腔體上設(shè)置有若干電弧電源和磁控濺射中頻電源，所述鍍膜真空腔體的兩側(cè)均設(shè)置有靶座門，所述靶座門上設(shè)置有若干圓柱旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶和電弧離子靶，所述電控柜內(nèi)設(shè)置有控制面板和PID控制器，所述控制面板內(nèi)設(shè)置有過載保護(hù)器和PLC控制器，所述控制面板上設(shè)置有觸摸顯示屏和操作鍵盤，所述電控柜的頂端設(shè)置有警報(bào)器，所述PID控制器上設(shè)置有溫度控制器和固態(tài)繼電器。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述過渡真空腔體通過大型真空插板閥與所述鍍膜真空腔體真空連接，用于鍍膜真空腔體和過渡真空腔體真空連接。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述伺服電機(jī)上設(shè)置有變頻器，用于對伺服電機(jī)的無級調(diào)速。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述精抽泵上設(shè)置有精抽閥和水冷冷阱，用于控制精抽泵的工作狀態(tài)。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述出氣管的出氣口處設(shè)置有電動(dòng)節(jié)流閥，可實(shí)現(xiàn)任何角度定向開關(guān)。

作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選技術(shù)方案，所述過渡真空腔體的一端設(shè)置有自動(dòng)平移真空門，自動(dòng)平移真空門可自動(dòng)開關(guān)，所述鍍膜真空腔體的一端設(shè)置有常閉門，常閉門用作設(shè)備檢修和后期設(shè)備增加腔體用。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：該種納米離化表面復(fù)合膜層智能化設(shè)備，通過設(shè)置的電動(dòng)節(jié)流閥，可自由角度調(diào)節(jié)的工藝節(jié)流閥，可隨工藝需求設(shè)定任意的工作角度進(jìn)行調(diào)節(jié)室體真空度，傳動(dòng)輸入采用蝸輪蝸桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)，傳動(dòng)精度高，誤差小。通過設(shè)置的離子源清洗器，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進(jìn)行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力。通過設(shè)置的驅(qū)動(dòng)輪組和工件架，保證工件鍍膜均勻，工件從過渡腔體進(jìn)出，鍍膜腔體連續(xù)鍍膜工作。采用PLC控制，抽真空、鍍膜可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)控制。

附圖說明

附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與本實(shí)用新型的實(shí)施例一起用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的限制。在附圖中：

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本實(shí)用新型所述過渡真空腔體的表面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本實(shí)用新型所述鍍膜真空腔體的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型所述過渡真空腔體的的整體結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本實(shí)用新型所述靶座門的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本實(shí)用新型所述電控柜的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本實(shí)用新型所述PID控制器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8為本實(shí)用新型所述精抽泵的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖中：1、過渡真空腔體；2、大型真空插板閥；3、鍍膜真空腔體；4、靶座門；5、料架臺(tái)；6、自動(dòng)平移真空門；7、觀察窗；8、加強(qiáng)筋；9、電弧離子靶；10、圓柱旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶；11、警報(bào)器；12、PLC控制器；13、過載保護(hù)器；14、控制面板；15、觸摸顯示屏；16、操作鍵盤；17、加熱管道；18、熱電偶；19、PID控制器；20、溫度控制器；21、固態(tài)繼電器；22、數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；23、精抽泵；24、增壓泵；25、機(jī)械泵；26、磁控濺射中頻電源；27、電弧電源；28、維持泵；29、工件架；30、掛桿軸；31、離子源電源；32、變頻器；33、驅(qū)動(dòng)輪組；34、水分離器；35、混氣儀；36、伺服電機(jī)；37、進(jìn)水管；38、出水管；39、進(jìn)氣管；40、出氣管；41、離子源清洗器；42、質(zhì)量流量控制器；43、高真空截止閥；44、精抽閥；45、水冷冷阱；46、電動(dòng)節(jié)流閥；47、電控柜；48、常閉門。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

請參閱圖1-8，本實(shí)用新型公開一種技術(shù)方案：一種納米離化表面金屬復(fù)合膜層智能化設(shè)備，包括鍍膜真空腔體3、電控柜47、過渡真空腔體1和料架臺(tái)5，料架臺(tái)5上設(shè)置有鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1，鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1內(nèi)均設(shè)置有精抽泵23、增壓泵24、機(jī)械泵25、維持泵28、數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)22、進(jìn)水管37、出水管38、進(jìn)氣管39和出氣管40，鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1外表面均設(shè)置有伺服電機(jī)36、觀察窗7和加強(qiáng)筋8，過渡真空腔體1外表面上設(shè)置有離子源電源31、混氣儀35和水分離器34，過渡真空腔體1和鍍膜真空腔體3的內(nèi)底部設(shè)置有驅(qū)動(dòng)輪組33和加熱管道17，驅(qū)動(dòng)輪組33上設(shè)置有工件架29，工件架29上設(shè)置有若干掛桿軸30，加熱管道17內(nèi)設(shè)置有熱電偶18，過渡真空腔體1內(nèi)設(shè)置有離子源清洗器41，離子源清洗器41上設(shè)置有質(zhì)量流量控制器42和高真空截止閥43，鍍膜真空腔體3上設(shè)置有若干電弧電源27和磁控濺射中頻電源26，鍍膜真空腔體3的兩側(cè)均設(shè)置有靶座門4，靶座門4上設(shè)置有若干圓柱旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶10和電弧離子靶9，電控柜47內(nèi)設(shè)置有控制面板14和PID控制器19，控制面板14內(nèi)設(shè)置有過載保護(hù)器13和PLC控制器12，控制面板14上設(shè)置有觸摸顯示屏15和操作鍵盤16，電控柜47的頂端設(shè)置有警報(bào)器11，PID控制器19上設(shè)置有溫度控制器20和固態(tài)繼電器21。過渡真空腔體1通過大型真空插板閥2與鍍膜真空腔體3真空連接，用于鍍膜真空腔體和過渡真空腔體1真空連接。伺服電機(jī)36上設(shè)置有變頻器32，用于對伺服電機(jī)36的無級調(diào)速。精抽泵23上設(shè)置有精抽閥44和水冷冷阱45，用于控制精抽泵23的工作狀態(tài)。出氣管40的出氣口處設(shè)置有電動(dòng)節(jié)流閥46，可實(shí)現(xiàn)任何角度定向開關(guān)。過渡真空腔體1的一端設(shè)置有自動(dòng)平移真空門6，自動(dòng)平移真空門6可自動(dòng)開關(guān)，鍍膜真空腔體3的一端設(shè)置有常閉門48，常閉門48用作設(shè)備檢修和后期設(shè)備增加腔體用。

使用時(shí)，通過控制面板14內(nèi)的PLC控制器12可對伺服電機(jī)36、磁控濺射中頻電源26、電弧電源27和離子源電源31進(jìn)行控制，通過設(shè)置的驅(qū)動(dòng)輪組33和工件架29，用于懸掛工件，通過設(shè)置的離子源清洗器41，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進(jìn)行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力，通過設(shè)置的電弧離子靶9和圓柱旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶10進(jìn)行鍍膜處理，電弧離子靶9使用時(shí)需將圓柱磁控靶10拆卸下來，在鍍膜過程中，工件在鍍膜腔體內(nèi)作直線行走和自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，保證工件鍍膜均勻，鍍膜腔體抽氣口配可自由角度調(diào)節(jié)的電動(dòng)節(jié)流閥46，可隨工藝需求設(shè)定任意的工作角度進(jìn)行調(diào)節(jié)室體真空度，傳動(dòng)輸入采用蝸輪蝸桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)，傳動(dòng)精度高，誤差小，通過設(shè)置的PID控制器19，可實(shí)現(xiàn)對加熱管道17的溫度控制，通過設(shè)置的精抽泵23、增壓泵24、機(jī)械泵25和維持泵28，可用以制造真空環(huán)境。

該種納米離化表面復(fù)合膜層智能化設(shè)備，通過設(shè)置的電動(dòng)節(jié)流閥，可自由角度調(diào)節(jié)的工藝節(jié)流閥，可隨工藝需求設(shè)定任意的工作角度進(jìn)行調(diào)節(jié)室體真空度，傳動(dòng)輸入采用蝸輪蝸桿電機(jī)驅(qū)動(dòng)，傳動(dòng)精度高，誤差小。通過設(shè)置的離子源清洗器，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進(jìn)行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力。通過設(shè)置的驅(qū)動(dòng)輪組和工件架，保證工件鍍膜均勻，工件從過渡腔體進(jìn)出，鍍膜腔體連續(xù)鍍膜工作。采用PLC控制，抽真空、鍍膜可實(shí)現(xiàn)手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)控制。

最后應(yīng)說明的是：以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，盡管參照前述實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換,凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。