成膜裝置和載體的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及成膜裝置和載體。在抑制在輸送載體過(guò)程中產(chǎn)生的載體振動(dòng)的同時(shí)穩(wěn)定地輸送載體。由于第一桿狀構(gòu)件（310）的從下方支撐載體（25）的第一支撐面（7X）相對(duì)于水平方向傾斜45°，因此，作用于水平方向上的第一水平方向負(fù)載（7B）施加于載體（25）。此外，由于第二桿狀構(gòu)件（320）的從下方支撐載體（25）的第二支撐面（7Y）相對(duì)于水平方向傾斜45°，因此，作用于水平方向上的第二水平方向負(fù)載（7C）施加于載體（25）。在這種情況下，載體（25）通過(guò)第一水平方向負(fù)載（7B）壓抵第二桿狀構(gòu)件（320），且通過(guò)第二水平方向負(fù)載（7C）壓抵第一桿狀構(gòu)件（310）。因此，抑制了載體（25）在其厚度方向上的振動(dòng)。
【專利說(shuō)明】成膜裝置和載體
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及成膜裝置和載體。
【背景技術(shù)】
[0002]硬盤(pán)裝置等中使用的磁性記錄介質(zhì)例如具有晶種膜、基膜、磁性記錄膜、保護(hù)膜和潤(rùn)滑劑膜依次形成于非磁性基板的一個(gè)或兩個(gè)表面的結(jié)構(gòu)，且通常，這種磁性記錄介質(zhì)通過(guò)在輸送保持基板的載體的同時(shí)執(zhí)行成膜工序的連續(xù)式成膜裝置制造(例如，專利文獻(xiàn)I和專利文獻(xiàn)2)。
[0003]專利文獻(xiàn)I披露的連續(xù)式成膜裝置具有執(zhí)行成膜工序的多個(gè)室通過(guò)閘閥連接的結(jié)構(gòu)。在每個(gè)室中，圍繞水平軸線轉(zhuǎn)動(dòng)的多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體被成排地設(shè)置于載體的輸送方向上，且載體由多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體引導(dǎo)。此外，在每個(gè)室中，圍繞鉛直軸轉(zhuǎn)動(dòng)的多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體被成排地設(shè)置于載體的輸送方向上，且載體也由多個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體弓I導(dǎo)。
[0004]另一方面，載體包括多個(gè)保持件，每個(gè)保持件設(shè)置有用于將基板配置于其內(nèi)部的孔部以及可彈性變形且圍繞孔部安裝的多個(gè)夾子。保持件可拆裝地保持安裝于夾子內(nèi)部的基板。
[0005]同樣，在專利文獻(xiàn)2披露的連續(xù)式的成膜裝置中，提供了進(jìn)行成膜工序的多個(gè)室通過(guò)門(mén)連接的結(jié)構(gòu)。同樣在該成膜裝置中，在輸送保持基板的載體的同時(shí)進(jìn)行成膜工序。在成膜裝置中，在通過(guò)利用磁力等將載體的側(cè)表面壓抵軌道的側(cè)表面的同時(shí)輸送載體。因此，在抑制載體的振動(dòng)的同時(shí)輸送載體。
[0006]引用列表
[0007]專利文獻(xiàn)
[0008]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平8-274142號(hào)公報(bào)
[0009]專利文獻(xiàn)2:美國(guó)專利N0.8382965
實(shí)用新型內(nèi)容
[0010]實(shí)用新型要解決的問(wèn)題
[0011]附帶地，如上述描述，在利用轉(zhuǎn)動(dòng)體引導(dǎo)載體的情況下，容易導(dǎo)致載體的振動(dòng)。在設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)體的構(gòu)造中，每次載體到達(dá)轉(zhuǎn)動(dòng)體時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)體和載體彼此碰撞，由此載體振動(dòng)。如果載體以這種方式振動(dòng)，則由載體保持的基板容易掉落。此外，載體的振動(dòng)引起載體和周邊組件之間的磨擦，且由于磨擦產(chǎn)生磨擦顆粒。此時(shí)，磨擦顆粒導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量的下降。
[0012]另一方面，如上述描述，在利用磁力等使載體的側(cè)表面壓抵軌道的側(cè)表面的同時(shí)輸送載體的構(gòu)造中，相比于上述利用轉(zhuǎn)動(dòng)體的構(gòu)造抑制了載體的振動(dòng)。然而，在利用磁力等使載體壓抵軌道的情況下，結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。此外，在這種情況下，存在載體的輸送變得不穩(wěn)定的可能性，從而使得載體難以在磁場(chǎng)強(qiáng)度大的位置被輸送，而在磁場(chǎng)強(qiáng)度小的位置容易移動(dòng)。
[0013]考慮到傳統(tǒng)情況而提出本實(shí)用新型的目的，且本實(shí)用新型的目的在于抑制輸送載體時(shí)產(chǎn)生的載體振動(dòng)，由此穩(wěn)定地輸送載體。
[0014]用于解決問(wèn)題的方案
[0015]本實(shí)用新型所應(yīng)用到的成膜裝置包括:引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在載體保持基板的情況下引導(dǎo)被沿著輸送路徑輸送的所述載體，在所述基板上進(jìn)行成膜處理，其中，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括:第一支撐面，所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側(cè)方，并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分；以及第二支撐面，所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對(duì)的對(duì)向側(cè)，并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分，其中，所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置，并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置。
[0016]這里，所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側(cè)方，且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分，且所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側(cè)方，且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。
[0017]此外，所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。在這種情況下，能夠平穩(wěn)地輸送載體。
[0018]此外，待由所述第一支撐面支撐的部分設(shè)置有第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，且待由所述第二支撐面支撐的部分設(shè)置有第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜，且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述另一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。在這種情況下，易于沿著所述第一支撐面配置所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的外周面，且易于沿著所述第二支撐面配置所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的外周面，因此，能夠更穩(wěn)定地通過(guò)所述第一支撐面支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件且通過(guò)所述第二支撐面支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。
[0019]此外，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件均包括圓筒狀的轉(zhuǎn)動(dòng)體，所述第一支撐面從下方與所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸，以支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，并且所述第二支撐面從下方與所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸，以支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。在這種情況下，能夠減少由于所述第一支撐面和所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件之間的磨擦產(chǎn)生的磨擦顆粒以及由于所述第二支撐面和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件之間的磨擦產(chǎn)生的磨擦顆粒。
[0020]此外，所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分都位于所述載體的重心的上方。在這種情況下，能夠減小所述載體的上部的振動(dòng)。
[0021]在本實(shí)用新型為載體的情況下，應(yīng)用本實(shí)用新型的載體是如下載體，待進(jìn)行成膜處理的基板安裝于該載體，該載體在由設(shè)置于輸送路徑的一側(cè)方的引導(dǎo)部以及設(shè)置于所述輸送路徑的另一側(cè)方的引導(dǎo)部引導(dǎo)的同時(shí)被沿著所述輸送路徑輸送，其中，所述輸送路徑設(shè)置于成膜裝置中，所述載體包括:載體主體，所述基板安裝于所述載體主體，該載體主體在所述成膜裝置中的所述輸送路徑上被輸送；第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，設(shè)置于所述一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件；和第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，設(shè)置于所述另一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件；其中，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜，且所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述另一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。
[0022]這里，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的設(shè)定位置在輸送方向上彼此不同。這種情況下，與當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的設(shè)定位置在輸送方向上相同的情況相比，能夠減小所述載體在垂直于所述輸送方向的方向上的厚度。
[0023]實(shí)用新型的效果
[0024]根據(jù)本實(shí)用新型，能夠在穩(wěn)定地輸送載體的同時(shí)，抑制輸送載體時(shí)產(chǎn)生的載體振動(dòng)。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0025]圖1是通過(guò)磁性記錄介質(zhì)制造裝置制造的磁性記錄介質(zhì)的截面圖；
[0026]圖2是用于圖示制造裝置的圖；
[0027]圖3是載體的立體圖；
[0028]圖4是示出從圖3的箭頭IV的方向觀察時(shí)位于圖3的最右側(cè)的位置的上輥對(duì)的圖；
[0029]圖5是用于圖示圖2中所示的載體引導(dǎo)件的圖；
[0030]圖6是示出從側(cè)方觀察的載體輸送輥的圖；
[0031]圖7是示出從載體的輸送方向上的上游側(cè)觀察的由上側(cè)載體引導(dǎo)件和下側(cè)載體引導(dǎo)件引導(dǎo)的載體的圖；
[0032]圖8是示出載體和載體引導(dǎo)件的比較例的圖；
[0033]圖9是示出載體和載體引導(dǎo)件的比較例的圖；
[0034]圖10是示出示例性實(shí)施方式中的載體的振動(dòng)和比較例中的載體的振動(dòng)的圖。
[0035]附圖標(biāo)記列表
[0036]7X 第一支撐面
[0037]7Y 第二支撐面
[0038]25 載體
[0039]80 基板(非磁性基板)[0040]200制造裝置(成膜裝置)
[0041]2IOU上側(cè)載體引導(dǎo)件
[0042]250載體主體
[0043]911第一輥狀構(gòu)件
[0044]91IA轉(zhuǎn)動(dòng)體
[0045]91IB轉(zhuǎn)動(dòng)軸
[0046]912第二輥狀構(gòu)件
[0047]912A轉(zhuǎn)動(dòng)體
[0048]912B轉(zhuǎn)動(dòng)軸
【具體實(shí)施方式】 [0049]以下，將參照附圖描述根據(jù)本實(shí)用新型的示例性實(shí)施方式。
[0050]圖1是磁性記錄介質(zhì)的截面圖，通過(guò)根據(jù)本實(shí)用新型的磁性記錄介質(zhì)制造裝置(以下，稱為“制造裝置”)制造該磁性記錄介質(zhì)。
[0051]圖1示出的磁性記錄介質(zhì)100 (以下，稱為“記錄介質(zhì)100”)是硬盤(pán)裝置等中使用的圓盤(pán)狀記錄介質(zhì)100。記錄介質(zhì)100設(shè)置有基板(非磁性基板)80。
[0052]此外，在基板80的一個(gè)或兩個(gè)表面上，晶種層81、基膜82、磁性記錄膜83、保護(hù)膜84和潤(rùn)滑劑層85朝向記錄介質(zhì)100的表面依次形成。通過(guò)圖2 (用于圖示制造裝置的圖)中示出的連續(xù)式(in line)制造裝置(成膜裝置)200制造記錄介質(zhì)100。
[0053]圖2示出的制造裝置200設(shè)置有多個(gè)載體25，該多個(gè)載體25在保持基板80的同時(shí)在圖中的順時(shí)針?lè)较蛏媳谎h(huán)輸送。制造裝置200還設(shè)置有:機(jī)器人平臺(tái)I ;基板移動(dòng)機(jī)器人3 ;基板供給機(jī)器人室2 ;基板供給機(jī)器人34 ;基板安裝室52 ;用于轉(zhuǎn)動(dòng)載體25的拐角室4、7、14和17 ;通過(guò)濺射在基板80上形成膜的濺射成膜室5、6、8-13、15和16 ;形成保護(hù)膜的保護(hù)膜形成室18-20 ;基板卸載室54 ;基板卸載機(jī)器人室22 ;基板卸載機(jī)器人49 ;和用于載體25的灰化室(ashing chamber) 3A。
[0054]未示出的真空泵連接于基板供給機(jī)器人室2，基板安裝室52，拐角室4、7、14和17，濺射成膜室5、6、8-13、15和16，保護(hù)膜形成室18-20、基板卸載室54和灰化室3A中的每一個(gè)，且這些室中的每一個(gè)均通過(guò)真空泵進(jìn)入減壓狀態(tài)。
[0055]此外，每個(gè)室均設(shè)置有引導(dǎo)被輸送的載體25的載體引導(dǎo)件210。應(yīng)當(dāng)注意，在圖2中，為了使得圖更明顯，僅在濺射成膜室8中示出了載體引導(dǎo)件210。在示例性實(shí)施方式中，保持基板80的載體25在由載體引導(dǎo)件210引導(dǎo)的同時(shí)在已進(jìn)入減壓狀態(tài)的每個(gè)室中移動(dòng)。此外，通過(guò)穿過(guò)每個(gè)室，參照?qǐng)D1描述的晶種層81、基膜82、磁性記錄膜83、保護(hù)膜84等形成于基板80的表面。
[0056]圖3是載體25的立體圖。
[0057]應(yīng)當(dāng)注意，在本說(shuō)明書(shū)中，在某些情況下，圖3中的箭頭3A表示的方向被稱為載體25的寬度方向，圖3中的箭頭3B表示的方向被稱為載體25的高度方向，且圖3中的箭頭3C表不的方向被稱為載體25的厚度方向。
[0058]如圖3所示，載體25設(shè)置有板狀載體主體250。在載體主體250的下部，設(shè)置支撐板26。此外，在載體主體250的上部，設(shè)置有基板安裝部27，基板80安裝于該基板安裝部27。應(yīng)當(dāng)注意，在示例性實(shí)施方式中，設(shè)置兩個(gè)基板安裝部27，因此，載體25被構(gòu)造成能夠安裝兩個(gè)基板80 (圖3中未示出)。
[0059]支撐板26設(shè)置有將通過(guò)設(shè)置于每個(gè)室中的載體引導(dǎo)件210 (參見(jiàn)圖2)引導(dǎo)的下側(cè)被引導(dǎo)部28。此外，在下側(cè)被引導(dǎo)部28的上方，設(shè)置將通過(guò)設(shè)置于每個(gè)室中的載體引導(dǎo)件210同樣地引導(dǎo)的上側(cè)被引導(dǎo)部29。
[0060]這里，上側(cè)被弓丨導(dǎo)部29總共設(shè)置有五對(duì)輥91 (以下，稱為“上輥對(duì)91”)，每對(duì)輥91均通過(guò)兩個(gè)輥狀構(gòu)件構(gòu)成。這里，沿著載體25的寬度方向排成一排地配置上輥對(duì)91。進(jìn)一步描述，在示例性實(shí)施方式中，載體25在由圖中的箭頭3X表示的方向上被輸送，且每個(gè)上輥對(duì)91均沿著載體25的輸送方向配置。
[0061]下側(cè)被引導(dǎo)部28也設(shè)置有輥對(duì)92 (以下，稱為“下輥對(duì)92”)，每對(duì)輥92均通過(guò)兩個(gè)輥狀構(gòu)件構(gòu)成。這里，下側(cè)被引導(dǎo)部28總共設(shè)置有四個(gè)下輥對(duì)92。與上輥對(duì)91類似，該四個(gè)下輥對(duì)92沿著載體25的寬度方向排成一排地配置。進(jìn)一步描述，下輥對(duì)92沿著載體25的輸送方向配置。
[0062]圖4是示出上輥對(duì)91的圖，從圖3中的箭頭IV的方向觀察，該上輥對(duì)91位于圖3的最右側(cè)的位置。
[0063]如圖所示，上輥對(duì)91設(shè)置有作為第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的示例的第一輥狀構(gòu)件911以及作為第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的示例的第二輥狀構(gòu)件912。這里，第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912被配置于載體25的寬度方向上的彼此不同的位置。
[0064]進(jìn)一步描述,第一棍狀構(gòu)件911和第二棍狀構(gòu)件912配置于載體25的輸送方向上的彼此不同的位置，即，第一輥狀構(gòu)件911定位于載體25的輸送方向上的上游側(cè)，而第二輥狀構(gòu)件912定位于載體25的輸送方向上的下游側(cè)。
[0065]第一輥狀構(gòu)件911設(shè)置有圓盤(pán)狀(圓筒狀)的轉(zhuǎn)動(dòng)體911A。轉(zhuǎn)動(dòng)軸91IB穿過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)體911A，且轉(zhuǎn)動(dòng)體91IA圍繞轉(zhuǎn)動(dòng)軸91IB轉(zhuǎn)動(dòng)。這里，在示例性實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)動(dòng)軸91IB被配置成處于相對(duì)于鉛垂方向(圖中的上下方向)傾斜45°的狀態(tài)。進(jìn)一步描述，轉(zhuǎn)動(dòng)軸911B具有一端91ID和另一端911E，且轉(zhuǎn)動(dòng)軸91IB被配置成傾斜狀態(tài)，使得另一端91IE定位于一端91ID的上方。
[0066]進(jìn)一步描述，在示例性實(shí)施方式中，載體25沿著包括由圖4中的鏈狀雙點(diǎn)虛線表示的直線SL的平面被輸送，該平面也是與圖4的紙面垂直的平面(該垂直平面通過(guò)的部分成為載體25的輸送路徑,且載體25在輸送路徑上被輸送)；然而，在不例性實(shí)施方式中，一端911D被定位于直線SL側(cè)，且另一端911E被定位在設(shè)置了直線SL的一側(cè)的相反側(cè)。進(jìn)一步描述，另一端911E定位于載體25的輸送路徑的一側(cè)方側(cè)。此外，在不例性實(shí)施方式中，另一端911E定位于一端911D的上方。
[0067]此外，第二輥狀構(gòu)件912側(cè)也是如此，第二輥狀構(gòu)件912設(shè)置有圓盤(pán)狀(圓筒狀)的轉(zhuǎn)動(dòng)體912A以及穿過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)體912A的轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B。然后，類似于第一輥狀構(gòu)件911側(cè)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B被配置成處于相對(duì)于鉛垂方向(圖中的上下方向)傾斜45°的狀態(tài)。
[0068]進(jìn)一步描述，第二輥狀構(gòu)件912也處于轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B傾斜從而使另一端912G定位于一端912F的上方的狀態(tài)。進(jìn)一步描述，類似于第一輥狀構(gòu)件911側(cè)，轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B的一端912F定位于直線SL側(cè)，而另一端912G定位于直線SL所在側(cè)的相反側(cè)。進(jìn)一步描述，另一端912G定位于載體25的輸送路徑的另一側(cè)方側(cè)。此外，另一端912G定位于一端912F的上方。
[0069]應(yīng)當(dāng)注意，在示例性實(shí)施方式中，在第一輥狀構(gòu)件911的轉(zhuǎn)動(dòng)軸91IB的傾斜方向與第二輥狀構(gòu)件912的轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B的傾斜方向之間具有差異；第一輥狀構(gòu)件911的轉(zhuǎn)動(dòng)軸911B朝向載體25的一個(gè)表面?zhèn)?載體25的輸送路徑的一側(cè)方側(cè))傾斜，而第二輥狀構(gòu)件912的轉(zhuǎn)動(dòng)軸912B朝向載體25的另一表面?zhèn)?載體25的輸送路徑的另一側(cè)方側(cè))傾斜。
[0070]圖5是用于圖示圖2中所示的載體引導(dǎo)件210的圖。應(yīng)當(dāng)注意，圖5示出了處于從圖2的箭頭V的方向觀察的狀態(tài)的載體引導(dǎo)件210。進(jìn)一步描述，圖5示出了處于從載體25的輸送方向的上游側(cè)觀察的狀態(tài)的載體引導(dǎo)件210。
[0071]如圖5所示，載體引導(dǎo)件210構(gòu)造有引導(dǎo)圖3中所示的上側(cè)被引導(dǎo)部29的上側(cè)載體引導(dǎo)件210U以及引導(dǎo)圖3中所示的下側(cè)被引導(dǎo)部28的下側(cè)載體引導(dǎo)件210L。
[0072]這里，上側(cè)載體引導(dǎo)件210U和下側(cè)載體引導(dǎo)件210L沿著載體25的輸送方向配置。此外，上側(cè)載體引導(dǎo)件210U和下側(cè)載體引導(dǎo)件210L被設(shè)置于設(shè)置在制造裝置200中的上述每個(gè)室中，且在每個(gè)室中，被設(shè)置成橋接室的入口和出口。
[0073]作為引導(dǎo)機(jī)械的示例的上側(cè)載體引導(dǎo)件210U構(gòu)造有具有矩形截面形狀的第一桿狀構(gòu)件310以及第二桿狀構(gòu)件320。這里，在示例性實(shí)施方式中，第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320被配置成在兩者之間形成間隙Kl的狀態(tài)。在示例性實(shí)施方式中，載體25穿過(guò)間隙K1。進(jìn)一步描述，示例性實(shí)施方式具有如下構(gòu)造:載體25的輸送路徑設(shè)置在作為引導(dǎo)部的第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320之間。
[0074]進(jìn)一步描述，第一桿狀構(gòu)件310配置于輸送路徑的一側(cè)方且沿著輸送路徑配置，由此支撐載體25的在輸送路徑上被輸送的一部分并且引導(dǎo)該部分。此外，第二桿狀構(gòu)件320配置于輸送路徑的另一側(cè)方且沿著輸送路徑配置，由此支撐載體25的在輸送路徑上被輸送的另一部分且引導(dǎo)該另一部分。
[0075]此外，第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320中的每一個(gè)均被配置成定位于間隙Kl側(cè)的一側(cè)位于定位于間隙Kl側(cè)的一側(cè)的相反側(cè)的另一側(cè)的上方的傾斜狀態(tài)。應(yīng)當(dāng)注意，在示例性實(shí)施方式中，相對(duì)于水平方向的傾斜角度是45°。
[0076]應(yīng)當(dāng)注意，在示例性實(shí)施方式中，設(shè)置形成具有槽的V形的第一塊體BKl和第二塊體BK2，該槽具有90°的開(kāi)口角。之后，在示例性實(shí)施方式中，第一桿狀構(gòu)件310載置于形成于第一塊體BKl的槽中，而第二桿狀構(gòu)件320載置于形成于第二塊體BK2的槽中。此外，第一桿狀構(gòu)件310通過(guò)螺栓BL緊固于第一塊體BKl，且第二桿狀構(gòu)件320也通過(guò)螺栓BL緊固于第二塊體BK2。
[0077]接著，將描述下側(cè)載體引導(dǎo)件210L。
[0078]下側(cè)載體引導(dǎo)件210L也設(shè)置有具有矩形截面形狀的第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420。這里，在下側(cè)載體引導(dǎo)件2IOL中，在第一桿狀構(gòu)件410與第二桿狀構(gòu)件420之間也形成有間隙K2。應(yīng)當(dāng)注意，第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420中的每一個(gè)均不像第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320那樣傾斜，而是被配置成沿水平方向布置的狀態(tài)。
[0079]將參照?qǐng)D5進(jìn)一步描述制造裝置200的結(jié)構(gòu)。
[0080]在示例性實(shí)施方式中，在下側(cè)載體引導(dǎo)件210L的下方(在形成于第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420之間的間隙K2的下方)，設(shè)置利用磁性輸送載體25的載體輸送輥500。[0081]圖6是示出從側(cè)方觀察的載體輸送輥500的圖。應(yīng)當(dāng)注意，圖5還示出了載體25。
[0082]載體輸送輥500是圓柱狀或者圓筒狀構(gòu)件，且如圖所示，以螺旋形式配置的磁極51和52形成于載體輸送棍500的周面上。
[0083]通過(guò)將形成于載體輸送輥500的周面上的螺旋部分割成較小的部分且磁化每個(gè)部分來(lái)構(gòu)成磁極51和52。此外，在示例性實(shí)施方式中，如圖6所示，以前-后錯(cuò)位的方式配置兩個(gè)螺旋磁極51和52。在兩個(gè)磁極51和52中，磁極51形成S極,且磁極52形成N極。
[0084]另一方面,盡管以上省略了圖不和描述,但是磁體35也被設(shè)置于載體25側(cè)(以下，稱為“載體側(cè)磁體35”)。這里，載體側(cè)磁體35被設(shè)置于載體25的下緣部。此外，載體側(cè)磁體35是具有長(zhǎng)方體形狀的小磁體，且多個(gè)載體側(cè)磁體35以預(yù)定的間隔沿著載體25的下緣配置。
[0085]此外，載體側(cè)磁體35以磁極出現(xiàn)在其頂面和底面的方式配置。此外，載體側(cè)磁體35以在定位載體輸送棍500的一側(cè)的磁極在載體輸送棍500的軸向上交替出現(xiàn)的方式配置。此外，載體側(cè)磁體35的配置間隔對(duì)應(yīng)于設(shè)置于下方的載體輸送輥500上的兩個(gè)磁極51和52的配置間隔。
[0086]在示例性實(shí)施方式中，載體側(cè)磁體35磁性耦合于下方的載體輸送輥500上的磁極51和52。具體地，N極的載體側(cè)磁體35耦合于載體輸送輥500上的S極的磁極51，且S極的載體側(cè)磁體35耦合于N極的磁極52。這種條件下，當(dāng)載體輸送輥500轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，載體25沿著載體輸送棍500的軸向被輸送。
[0087]圖7是示出從載體25的輸送方向上的上游側(cè)觀察的通過(guò)上側(cè)載體引導(dǎo)件210U和下側(cè)載體引導(dǎo)件2IOL引導(dǎo)的載體25的圖。
[0088]應(yīng)當(dāng)注意，在圖7中，示出了設(shè)置的五個(gè)上輥對(duì)91中的一個(gè)上輥對(duì)91 ;然而，其余的四個(gè)上輥對(duì)91也處于圖7示出的相同的狀態(tài)。此外，關(guān)于下輥對(duì)92，示出了設(shè)置的四個(gè)下輥對(duì)92中的一個(gè)下輥對(duì)92 ;然而，其余的三個(gè)下輥對(duì)92也處于圖7示出的相同的狀態(tài)。
[0089]如圖7所不,在不例性實(shí)施方式中，上棍對(duì)91載置于上側(cè)載體引導(dǎo)件210U,且載體25由上側(cè)載體引導(dǎo)件210U從下方支撐。在這種條件下，載體25被朝向下游側(cè)輸送；然而，此時(shí)，設(shè)置上輥對(duì)91的部分由上側(cè)載體引導(dǎo)件210U引導(dǎo)。這里，此時(shí)，設(shè)置于上輥對(duì)91的兩個(gè)轉(zhuǎn)動(dòng)體911A和912A轉(zhuǎn)動(dòng)，因此，載體25被朝向下游側(cè)平滑地輸送。
[0090]此外，示例性實(shí)施方式具有載體25壓抵上側(cè)載體引導(dǎo)件210U的構(gòu)造，因此，在示例性實(shí)施方式中載體25難以在高度方向上產(chǎn)生移位。為了具體描述，在例性實(shí)施方式中，重力作用于載體25。此外,通過(guò)在載體輸送棍500 (參見(jiàn)圖6)與載體25之間互相作用的磁力，載體25被向下拉。結(jié)果，載體25壓抵上側(cè)載體引導(dǎo)件210U，由此使得載體25將難以在高度方向上移位。
[0091]此外,在不例性實(shí)施方式中，由于使得載體25壓抵上側(cè)載體引導(dǎo)件210U,如圖中的箭頭7A所示，從下方對(duì)載體25施加負(fù)載。
[0092]此外，在不例性實(shí)施方式中，由于設(shè)置于上側(cè)載體引導(dǎo)件210U的第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320如上述那樣相對(duì)于水平方向傾斜45°，因此，如圖7所示，作用于水平方向上的第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C施加于載體25。
[0093]進(jìn)一步描述，在示例性實(shí)施方式中，第一桿狀構(gòu)件310的從下方支撐載體25的支撐面(由圖中的附圖標(biāo)記7X表示的表面，以下稱為“第一支撐面7X”)相對(duì)于水平方向傾斜45° ;因此，作用于水平方向上的第一水平方向負(fù)載7B已被施加于載體25。
[0094]此外，第二桿狀構(gòu)件320的從下方支撐載體25的支撐面(由圖中的附圖標(biāo)記7Y表示的表面，以下稱為“第二支撐面7Y”)相對(duì)于水平方向傾斜45° ;因此，作用于水平方向上的第二水平方向負(fù)載7C已被施加于載體25。
[0095]進(jìn)一步描述，在示例性實(shí)施方式中，由于第一支撐面7X朝向設(shè)置第二支撐面7Y的一側(cè)下降地傾斜設(shè)置，且第二支撐面7Y朝向設(shè)置第一支撐面7X的一側(cè)下降地傾斜設(shè)置，因此，施加第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C。
[0096]接著，在這種情況下，載體25通過(guò)第一水平方向負(fù)載7B壓抵第二桿狀構(gòu)件320，且載體25通過(guò)第二水平方向負(fù)載7C壓抵第一桿狀構(gòu)件310。因此，也抑制了載體25在厚度方向上的移位。進(jìn)一步描述，抑制了載體25在垂直于載體25的輸送方向的方向上的輸送。
[0097]此外，如圖7所示，示例性實(shí)施方式具有如下構(gòu)造:其中，載體25的重心G定位于上輥對(duì)91的下方，且載體25的重心G定位于載體25被上側(cè)載體引導(dǎo)件210U支撐的位置的下方。
[0098]在這種情況下，與載體25的重心G定位于載體25被上側(cè)載體引導(dǎo)件210U支撐的位置的上方的構(gòu)造的情況相比，能夠抑制載體25的上部側(cè)中的振動(dòng)。因而，在這種情況下，也能夠抑制基板安裝部27 (參見(jiàn)圖3)中的振動(dòng)。
[0099]接著，將參照?qǐng)D7描述下輥對(duì)92和下側(cè)載體引導(dǎo)件210L。
[0100]這里，盡管以上省略了描述，但是如圖7所示，下輥對(duì)92也設(shè)置有第一輥狀構(gòu)件921和第二輥狀構(gòu)件922。這里，第一輥狀構(gòu)件921和第二輥狀構(gòu)件922配置于載體25的寬度方向上的彼此不同的位置。進(jìn)一步描述，第一輥狀構(gòu)件921和第二輥狀構(gòu)件922配置于載體25的輸送方向上的彼此不同的位置。進(jìn)一步描述，第一輥狀構(gòu)件921定位于載體25的輸送方向上的上游側(cè)，而第二輥狀構(gòu)件922定位于載體25的輸送方向上的下游側(cè)。
[0101]此外，第一輥狀構(gòu)件921由圓盤(pán)狀(圓筒狀)的轉(zhuǎn)動(dòng)體921A和穿過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)體921A的轉(zhuǎn)動(dòng)軸921B構(gòu)成。第二輥狀構(gòu)件922也由圓盤(pán)狀(圓筒狀)的轉(zhuǎn)動(dòng)體922A和穿過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)體922A的轉(zhuǎn)動(dòng)軸922B構(gòu)成。
[0102]這里，在下輥對(duì)92中，不同于上輥對(duì)91，轉(zhuǎn)動(dòng)軸92IB和轉(zhuǎn)動(dòng)軸922B沿著鉛垂方向(圖中的上下方向)配置。此外，在下輥對(duì)92中，第一輥狀構(gòu)件921移向載體25的一側(cè)表面?zhèn)蓛x圖中的右側(cè)表面?zhèn)?，而第二輥狀構(gòu)件922移向載體25的另一側(cè)表面?zhèn)?圖中的左側(cè)表面?zhèn)?。
[0103]在示例性實(shí)施方式中，載體25不僅在設(shè)置上輥對(duì)91的部分處被引導(dǎo)，還在下輥對(duì)92所在的部分處被引導(dǎo)。這里，下輥對(duì)92中的引導(dǎo)通過(guò)與第一桿狀構(gòu)件410接觸的第一輥狀構(gòu)件921的轉(zhuǎn)動(dòng)體921A和與第二桿狀構(gòu)件420接觸的第二輥狀構(gòu)件922的轉(zhuǎn)動(dòng)體922A進(jìn)行。因此，在示例性實(shí)施方式中，在設(shè)置上輥對(duì)91的位置的下方，載體25在厚度方向上的移位也被抑制。
[0104]圖8和9是示出了載體25和載體引導(dǎo)件210的比較例的圖。應(yīng)當(dāng)注意，圖8示出了從載體25的輸送方向上的上游側(cè)觀察狀態(tài)下的載體25和載體引導(dǎo)件210，圖9示出了從上方觀察狀態(tài)下的載體25和載體引導(dǎo)件210。
[0105]如圖8所示，在比較例中，凹部25A形成于載體25的一個(gè)側(cè)表面?zhèn)?。此外，在凹?5A中，設(shè)置從下方支撐載體25的第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216。這里，載體25的V形槽25C形成于被第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216支撐的部分(由附圖標(biāo)記25B表示的部分，以下稱為“被支撐部25B”)，且在比較例中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216的外周緣進(jìn)入槽25C。
[0106]此外，在該比較例中，第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217位于載體25的一個(gè)側(cè)表面?zhèn)?，且第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218位于載體25的另一個(gè)側(cè)表面?zhèn)?，因此，載體25在載體25的厚度方向上的輸送由第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217和第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218限制。應(yīng)當(dāng)注意，在比較例中，如圖9所示，多個(gè)第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216、多個(gè)第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217和多個(gè)第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218被設(shè)置成沿著載體25的輸送方向配置。
[0107]在比較例的構(gòu)造的情況下，產(chǎn)生載體25的端部與第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216、第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217或第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218的碰撞，因此,相對(duì)于示例性實(shí)施方式的構(gòu)造,載體25的振動(dòng)變大。這里，如果載體25的振動(dòng)大，則產(chǎn)生基板80掉落的可能。此外，在載體25與第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216、第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217或第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218碰撞的情況下，載體25與第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216、第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217或第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218磨擦，因此產(chǎn)生很多磨擦顆粒。如果以這種方式產(chǎn)生大量的磨擦顆粒，則磨擦顆粒易于混入待制造的記錄介質(zhì)100中，由此導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量的下降。
[0108]另一方面，在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320形成長(zhǎng)條形狀，且載體25總是壓抵第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320。進(jìn)一步描述，該構(gòu)造在輸送載體25的同時(shí)保持了載體25與載體引導(dǎo)件210之間的接觸。
[0109]在這種情況下，能夠避免上述的碰撞，且相比于上述比較例，能夠抑制載體25的振動(dòng)。此外，與上述比較例相比，能夠抑制磨擦顆粒的產(chǎn)生。
[0110]應(yīng)當(dāng)注意，在第一桿狀構(gòu)件410、第二桿狀構(gòu)件420與載體25 (載體25的下輥對(duì)92)之間，存在第一桿狀構(gòu)件410、第二桿狀構(gòu)件420與載體25之間反復(fù)接觸和分離的可能性；然而，在這種情況下，下輥對(duì)92只接觸定位于下輥對(duì)92的前進(jìn)方向的側(cè)方的第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420，在此種情況下，不產(chǎn)生上述的碰撞。
[0111]進(jìn)一步描述，在示例性實(shí)施方式中，下輥對(duì)92不接觸在下輥對(duì)92的前進(jìn)方向的前方定位的一些構(gòu)件，但是接觸在下輥對(duì)92的前進(jìn)方向的側(cè)方定位的一些構(gòu)件(第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420)，因此，不產(chǎn)生上述的碰撞。
[0112]然而，即使在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，當(dāng)載體25被輸送到不同的室(相鄰的室)時(shí)，載體25(載體25的上輥對(duì)91或下輥對(duì)92)也與設(shè)置于不同的室中的第一桿狀構(gòu)件310、第二桿狀構(gòu)件320、第一桿狀構(gòu)件410或第二桿狀構(gòu)件420的端部碰撞，因此，產(chǎn)生關(guān)于載體25的振動(dòng)的顧慮或者產(chǎn)生磨擦顆粒的顧慮。
[0113]然而，通過(guò)示例性實(shí)施方式的構(gòu)造，也能夠在這種情況下抑制載體25的振動(dòng)或者抑制產(chǎn)生磨擦顆粒。
[0114]在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，在載體引導(dǎo)件21(H則，只設(shè)置了四個(gè)構(gòu)件——即，第一桿狀構(gòu)件310、第二桿狀構(gòu)件320、第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420，即構(gòu)成載體引導(dǎo)件210的組件的數(shù)量少。
[0115]在這種情況下，通過(guò)保持四個(gè)構(gòu)件一即，第一桿狀構(gòu)件310、第二桿狀構(gòu)件320、第一桿狀構(gòu)件410和第二桿狀構(gòu)件420的位置精度，能夠抑制載體25與該四個(gè)構(gòu)件的碰撞。因而，在這種情況下，能夠抑制載體25的振動(dòng)或者抑制產(chǎn)生磨擦顆粒。
[0116]另一方面，在比較例的構(gòu)造中，設(shè)置了大量的第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216、第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217和第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218，因此，難以保持所有轉(zhuǎn)動(dòng)體的位置精度，且難以避免載體25與轉(zhuǎn)動(dòng)體的碰撞。
[0117]此外，在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，在保持設(shè)置在安裝于載體25的上輥對(duì)91和下輥對(duì)92中的轉(zhuǎn)動(dòng)體911A、912A、921A和922A轉(zhuǎn)動(dòng)的狀態(tài)下，載體25被輸送到不同的室(相鄰的室)時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)體911A、912A、921A和922A與位于不同室中的上述四個(gè)桿狀構(gòu)件接觸。在這種構(gòu)造的情況下，已抑制了磨擦顆粒的產(chǎn)生。
[0118]在上述比較例中，由于載體25與停止的轉(zhuǎn)動(dòng)體216、217和218接觸，因此，載體25與轉(zhuǎn)動(dòng)體216、217和218兩者之間的相對(duì)速度差變大，由此將產(chǎn)生更多的磨擦顆粒。在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，相對(duì)速度差變小，因此能夠抑制磨擦顆粒的產(chǎn)生。
[0119]此外，在比較例中，如圖8所示，由第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216支撐的被支撐部25B不在載體25的中心線CL (穿過(guò)載體25的重心(未示出)的鉛垂線)上,而是被設(shè)置于偏離中心線CL的位置處。因此，在比較例中，由箭頭8A表示的轉(zhuǎn)動(dòng)運(yùn)動(dòng)作用于載體25，因此，當(dāng)載體25被輸送時(shí)，載體25的行為容易不穩(wěn)定。
[0120]另一方面，在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，由于這種轉(zhuǎn)矩難以作用于載體25上，因此，載體25的行為變得穩(wěn)定且抑制了載體25的振動(dòng)。為了具體描述，在示例性實(shí)施方式中，如圖7所示，載體25的支撐結(jié)構(gòu)(載體引導(dǎo)件210的結(jié)構(gòu))關(guān)于作為對(duì)稱軸的載體25的中心線(穿過(guò)載體25的重心G的鉛垂線)線性對(duì)稱，因此，抑制了轉(zhuǎn)矩的產(chǎn)生，由此使得載體25以更穩(wěn)定的狀態(tài)被支撐。
[0121 ] 此外，在比較例中，如圖8所示，在第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216與被支撐部25B之間的接觸部，第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216和被支撐部25B點(diǎn)接觸。在這種情況下，載體25的支撐變得不穩(wěn)定，由此載體25容易振動(dòng)。此外，當(dāng)?shù)谝晦D(zhuǎn)動(dòng)體216和被支撐部25B點(diǎn)接觸時(shí)，第一轉(zhuǎn)動(dòng)體216和被支撐部25B趨于磨損，且產(chǎn)生更多的磨擦顆粒。
[0122]另一方面，在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，如圖7所示，第一輥狀構(gòu)件911和第一桿狀構(gòu)件310線接觸，且第二輥狀構(gòu)件912和第二桿狀構(gòu)件320也線接觸。進(jìn)一步描述，第一輥狀構(gòu)件911和第一桿狀構(gòu)件310之間的接觸部以及第二輥狀構(gòu)件912和第二桿狀構(gòu)件320之間的接觸部形成線狀。
[0123]進(jìn)一步描述，在不例性實(shí)施方式中，第一支撐面7X接觸設(shè)置于第一棍狀構(gòu)件911中的圓筒狀轉(zhuǎn)動(dòng)體911A的外周面，且第二支撐面7Y接觸設(shè)置于第二輥狀構(gòu)件912中的圓筒狀轉(zhuǎn)動(dòng)體912A的外周面，因此，第一輥狀構(gòu)件911和第一桿狀構(gòu)件310之間的接觸部以及第二輥狀構(gòu)件912和第二桿狀構(gòu)件320之間的接觸部形成線狀。在這種情況下，載體25被穩(wěn)定地支撐，且抑制了載體25的振動(dòng)。此外，在這種情況下，抑制了磨擦顆粒的產(chǎn)生。
[0124]此外，在示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中，與比較例相比，試圖減小載體25的重量。具體地，如圖3所示，在彼此相鄰的兩個(gè)下輥對(duì)92之間形成通孔98，且通過(guò)形成通孔98使得載體25的重量變得較輕。
[0125]這里，在比較例的構(gòu)造中，由于載體25的下部由第二轉(zhuǎn)動(dòng)體217 (參見(jiàn)圖8)和第三轉(zhuǎn)動(dòng)體218引導(dǎo)，因此難以在載體25的下部中形成通孔。另一方面，由于示例性實(shí)施方式具有下輥對(duì)92被引導(dǎo)的構(gòu)造，因此能夠在相鄰的下輥對(duì)92之間形成通孔98。
[0126]這里，本發(fā)明人對(duì)示例性實(shí)施方式的構(gòu)造和上述比較例的構(gòu)造進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)，以對(duì)載體25的振動(dòng)(振動(dòng)加速度)進(jìn)行研究。
[0127]圖10是示出示例性實(shí)施方式中的載體25的振動(dòng)以及比較例中的載體25的振動(dòng)的圖。
[0128]應(yīng)當(dāng)注意，在圖中，“峰”表示測(cè)量的振動(dòng)加速度的最大值。此外“平均”表示測(cè)量的振動(dòng)加速度的平均值。此外，在圖中，“高度方向”表示載體25在載體25的高度方向上的振動(dòng)加速度，“前進(jìn)方向”表示載體25在載體25的前進(jìn)方向上的振動(dòng)加速度，且“厚度方向”表不載體25在載體25的厚度方向上的振動(dòng)加速度。
[0129]為了參照?qǐng)D10描述實(shí)驗(yàn)結(jié)果，如圖10所示，在峰和平均兩者中，示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中的振動(dòng)加速度小于比較例的構(gòu)造中的振動(dòng)加速度。特別地，關(guān)于峰值，示例性實(shí)施方式的構(gòu)造中的振動(dòng)加速度的值是比較例的構(gòu)造中的振動(dòng)加速度的值的1/3至1/5。
[0130](其他)
[0131]在上述描述中，在每個(gè)上輥對(duì)91中第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912在載體25的輸送方向上彼此錯(cuò)開(kāi)的情況被描述為不例。這是由于，在不例性實(shí)施方式中，載體25的厚度小，因此，不能將第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912設(shè)置于相同的位置。這里，在載體25的厚度大的情況下，第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912可被設(shè)定于相同的位置。
[0132]進(jìn)一步描述，在第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912如示例性實(shí)施方式那樣在載體25的輸送方向上彼此錯(cuò)開(kāi)的情況下，能夠減小載體25的厚度。另一方面，在第一輥狀構(gòu)件911和第二輥狀構(gòu)件912被設(shè)置于相同的位置的情況下，需要增大載體25的厚度。
[0133]此外，在上述描述中，第一支撐面7X和第二支撐面7Y的每個(gè)相對(duì)于水平方向的傾斜角度被設(shè)定為45°且設(shè)置于上輥對(duì)91 (參見(jiàn)圖4)中的轉(zhuǎn)動(dòng)軸911B和912B相對(duì)于水平方向的傾斜角度被設(shè)定為45°的情況被描述為示例；然而，該傾斜角度僅是示例，且該傾斜角度可不是45°，即為30°、60°等。
[0134]應(yīng)當(dāng)注意，根據(jù)本發(fā)明人進(jìn)行的載體25的運(yùn)行測(cè)試的結(jié)果，相對(duì)于水平方向的傾斜角度優(yōu)選35° -55° (45° ±10° )且更優(yōu)選地位于40° -50° (45° ±5° )的范圍內(nèi)。
[0135]這里，如果傾斜角度小于35°，則圖7中描述的第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C相比于傾斜角度為45°的情況以10%的程度減小。此外，如果傾斜角度小于35°，則難以抑制載體25在載體25的高度方向上的振動(dòng)。
[0136]此外，同樣地，如果傾斜角度大于55 °，則圖7中描述的第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C相比于傾斜角度為45°的情況以10%的程度減小。此外，如果傾斜角度大于55° ,則難以抑制載體25在載體25的厚度方向上的振動(dòng)。
[0137]應(yīng)當(dāng)注意，在上述描述中，通過(guò)使用相對(duì)于水平方向傾斜的第一桿狀構(gòu)件310和第二桿狀構(gòu)件320產(chǎn)生第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C的情況被描述為不例；然而，不僅能夠通過(guò)類似這樣的桿狀構(gòu)件產(chǎn)生第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C，還能夠通過(guò)將類似于圖4所示的轉(zhuǎn)動(dòng)體911A的轉(zhuǎn)動(dòng)體設(shè)置于載體25的輸送路徑的一側(cè)方和另一側(cè)方的每個(gè)產(chǎn)生第一水平方向負(fù)載7B和第二水平方向負(fù)載7C。應(yīng)當(dāng)注意，在這種情況下，轉(zhuǎn)動(dòng)體的轉(zhuǎn)動(dòng)軸傾斜以使得用于支撐載體25的轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面的部分相對(duì)于水平方向傾斜。此外，在這種情況下，載體25的與外周面接觸的部分相對(duì)于水平方向傾斜。
【權(quán)利要求】
1.一種成膜裝置，其特征在于，所述成膜裝置包括: 引導(dǎo)機(jī)構(gòu)，所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)在載體保持基板的情況下引導(dǎo)被沿著輸送路徑輸送的載體，在所述基板上進(jìn)行成膜處理，其中， 所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)包括: 第一支撐面，所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側(cè)方，并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分；以及 第二支撐面，所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對(duì)的對(duì)向側(cè)，并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分，其中， 所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置，并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置，其特征在于， 所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側(cè)方，并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分，并且 所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側(cè)方，并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置，其特征在于，所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置，其特征在于， 所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分設(shè)置有第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分設(shè)置有第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)， 所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜，并且 所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述另一端被定位于所述另一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置，其特征在于， 所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件均包括圓筒狀的轉(zhuǎn)動(dòng)體， 所述第一支撐面從下方與所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸，以支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，并且 所述第二支撐面從下方與所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動(dòng)體的外周面接觸，以支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任意一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分都位于所述載體的重心的上方。
7.一種載體，待進(jìn)行成膜處理的基板安裝于該載體，該載體在由設(shè)置于輸送路徑的一側(cè)方的引導(dǎo)部以及設(shè)置于所述輸送路徑的另一側(cè)方的引導(dǎo)部引導(dǎo)的同時(shí)被沿著所述輸送路徑輸送，其中，所述輸送路徑設(shè)置于成膜裝置中，其特征在于，所述載體包括:載體主體，所述基板安裝于所述載體主體，該載體主體在所述成膜裝置中的所述輸送路徑上被輸送； 第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，設(shè)置于所述一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件；和 第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動(dòng)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，設(shè)置于所述另一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的同時(shí)引導(dǎo)所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件；其中， 所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜，且 所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被配置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的轉(zhuǎn)動(dòng)軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述另一側(cè)方，且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動(dòng)軸相對(duì)于水平方向傾斜。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的載體，其特征在于，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件被設(shè)置成使得，當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時(shí)，所述第一轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)構(gòu)件的設(shè)定 位置在輸送方向上彼此不同。
【文檔編號(hào)】C23C14/50GK203794979SQ201420182418
【公開(kāi)日】2014年8月27日 申請(qǐng)日期:2014年4月15日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月27日
【發(fā)明者】歌代智也 申請(qǐng)人:昭和電工株式會(huì)社