專利名稱：真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
目前，在待鍍膜基板上需要進(jìn)行多層鍍膜時(shí)，尤其是利用不同的鍍膜技術(shù)進(jìn)行多 層鍍膜時(shí)，需將待鍍膜基板分別放置在對應(yīng)的鍍膜裝置內(nèi)進(jìn)行對應(yīng)膜層的鍍膜。然而，采用此種鍍膜方式鍍膜時(shí)，由于需要將基板在不同的鍍膜裝置之間進(jìn)行移 動(dòng)，操作麻煩，同時(shí)也影響了鍍膜效果。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，有必要提供一種操作簡單、鍍膜效果好的鍍膜裝置。一種真空鍍膜裝置，其用于對一個(gè)待鍍膜基板進(jìn)行鍍膜。所述鍍膜裝置包括一個(gè) 反應(yīng)腔、一個(gè)蓋體、一個(gè)間隔部、一個(gè)承載組件、一個(gè)第一開合部及一個(gè)第二開合部。所述待 鍍膜基板收容于所述反應(yīng)腔內(nèi)。所述反應(yīng)腔開設(shè)一個(gè)通孔。所述蓋體活動(dòng)設(shè)置在所述反應(yīng) 腔并用以暴露或密封所述通孔。所述間隔部設(shè)置在所述反應(yīng)腔內(nèi)將所述反應(yīng)腔分為一個(gè)第 一收容腔及一個(gè)第二收容腔。所述間隔部開設(shè)一個(gè)與所述通孔相對應(yīng)的貫穿開口。所述承 載組件可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在所述開口內(nèi)以承載并帶動(dòng)所述待鍍膜基板翻轉(zhuǎn)。所述第一開合部可 移動(dòng)的設(shè)置在所述第一收容腔內(nèi)用以暴露或密封所述開口。所述第二開合部可移動(dòng)的設(shè)置 在所述第二收容腔內(nèi)用以暴露或密封所述開口。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述鍍膜裝置通過設(shè)置間隔部將反應(yīng)腔分為第一收容腔及第二 收容腔，及在間隔部的開口內(nèi)設(shè)置可轉(zhuǎn)動(dòng)的待鍍膜基板的承載組件，從而可分別在第一收 容腔及第二收容腔內(nèi)對待鍍膜基板進(jìn)行不同膜層的鍍膜，無需將待鍍膜基板移出反應(yīng)腔， 操作簡單，鍍膜效果較好。


圖1為本發(fā)明實(shí)施方式提供的真空鍍膜裝置的示意圖。圖2為圖1的真空鍍膜裝置沿II-II方向的剖視圖。圖3為圖2的真空鍍膜裝置在蒸鍍時(shí)第一開合部與第二開合部的位置狀態(tài)示意 圖。圖4為圖2的真空鍍膜裝置在濺鍍時(shí)第一開合部與第二開合部的位置狀態(tài)示意 圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖對本發(fā)明實(shí)施方式作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。請參閱圖1至圖4，其為本發(fā)明實(shí)施方式提供的真空鍍膜裝置10，其用于對一個(gè)待 鍍膜基板40(見圖2)進(jìn)行鍍膜。所述真空鍍膜裝置10包括一個(gè)反應(yīng)腔110、一個(gè)蓋體120、一個(gè)間隔部130、一個(gè)承載組件140、一個(gè)第一開合部150、一個(gè)第二開合部160及一個(gè)抽真 空裝置170。所述待鍍膜基板40收容于所述反應(yīng)腔110內(nèi)。本實(shí)施方式中，鍍膜裝置10利 用一個(gè)蒸鍍源20 (見圖3)及一個(gè)靶材30對待鍍膜基板40進(jìn)行鍍膜。如圖2所示，反應(yīng)腔110開設(shè)一個(gè)通孔112及一個(gè)與通孔112相對應(yīng)的第一收容 槽114。蒸鍍源20收容在所述第一收容槽114內(nèi)。所述蓋體120活動(dòng)設(shè)置在反應(yīng)腔110上用以暴露或密封所述通孔112。蓋體120 包括一個(gè)承載面122。所述承載面122開設(shè)一個(gè)第二收容槽124用于收容靶材30，當(dāng)蓋體 120密封反應(yīng)腔110的通孔112時(shí)，所述第二收容槽124與通孔112相對應(yīng)。本實(shí)施方式 中，靶材30通過耐熱膠粘貼固定在第二收容槽124的槽底。所述間隔部130設(shè)置在反應(yīng)腔110內(nèi)將反應(yīng)腔110分為第一收容腔116及一個(gè)第 二收容腔118。間隔部130開設(shè)一個(gè)貫穿間隔部130且與通孔112相對應(yīng)的開口 132。所 述開口 132將間隔部130分為第一間隔板130a及一個(gè)與所述第一間隔板130a相對應(yīng)的第 二間隔板130b。本實(shí)施方式中，第一間隔板130a與第二間隔板130b相對的側(cè)壁開設(shè)一個(gè) 貫穿第一間隔板130a的第一收容孔134。所述第二間隔板130b開設(shè)一個(gè)與所述第一收容 孔134相對應(yīng)的第二收容孔136。開口 132將第一收容腔116分為第一子收容腔116a及一 個(gè)第二子收容腔116b。開口 132將第二收容腔118分為第一子收容腔118a及一個(gè)第二子 收容腔118b。所述承載組件140包括一個(gè)承載板142及一個(gè)轉(zhuǎn)軸144。所述承載板142與所述 轉(zhuǎn)軸144固定連接。承載板142用于承載待鍍膜基板40。本實(shí)施方式中，待鍍膜基板40通 過耐熱膠粘貼固定在承載板142上。轉(zhuǎn)軸144可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置于第一間隔板130a與第二間 隔板130b之間。本實(shí)施方式中，轉(zhuǎn)軸144的兩端分別可轉(zhuǎn)動(dòng)地收容在第一收容孔134與第 二收容孔136內(nèi)。一驅(qū)動(dòng)件(圖未示)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)軸144轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)承載板142及固定在 承載板142上的待鍍膜基板40轉(zhuǎn)動(dòng)。如圖3所示，所述第一開合部150可移動(dòng)的設(shè)置在第一收容腔116內(nèi)用以暴露或 密封開口 132。本實(shí)施方式中，第一開合部150包括一個(gè)第一開合件152、一個(gè)與所述第一 開合件152相對應(yīng)的第二開合件154及兩個(gè)第一驅(qū)動(dòng)桿180。所述第一開合件152收容在 第一子收容腔116a內(nèi)。所述第二開合件154收容在第二子收容腔116b內(nèi)。各第一驅(qū)動(dòng)桿 180分別可移動(dòng)地與第一開合件150與第二開合件154相固定連接。各第一驅(qū)動(dòng)桿180通 過外部驅(qū)動(dòng)裝置(圖未示)來控制其移動(dòng)以帶動(dòng)第一開合件152及第二開合件154的移動(dòng)。如圖4所示，所述第二開合部160可移動(dòng)的設(shè)置在第二收容腔118內(nèi)用以暴露或 密封開口 132。本實(shí)施方式中，第二開合部160包括一個(gè)第三開合件162、一個(gè)與所述第三 開合件162相對應(yīng)的第四開合件164及兩個(gè)第二驅(qū)動(dòng)桿182。所述第三開合件162收容在 第三子收容腔118a內(nèi)。第四開合件164收容在第四子收容腔118b內(nèi)。各第二驅(qū)動(dòng)桿182 分別可移動(dòng)地與第三開合件162與第四開合件164相固定連接。各第二驅(qū)動(dòng)桿182通過外 部驅(qū)動(dòng)裝置(圖未示)來控制其移動(dòng)以帶動(dòng)第三開合件162及第四開合件164移動(dòng)。所述抽真空裝置170包括一個(gè)真空泵172及一個(gè)管道174。所述真空泵172通過 管道174與反應(yīng)腔110相連通并對反應(yīng)腔110進(jìn)行抽真空(見圖1)，從而使鍍膜裝置10在 真空狀態(tài)下工作。為便于第一開合部150與第二開合部160分別在第一收容腔116及第二收容腔118內(nèi)移動(dòng)，可在鍍膜裝置10的第一收容腔116的兩相對側(cè)壁沿第一開合件152及第二開 合件154的移動(dòng)方向，及在第二收容腔118的兩相對側(cè)壁沿第三開合件162及第四開合件 164的移動(dòng)方向分別設(shè)置多個(gè)滾輪119。第一開合件152、第二開合件154、第三開合件162 及第四開合件164分別開設(shè)與滾輪119相對應(yīng)的滑槽146，從而使第一開合件152及第二開 合件154與第一收容腔116的滾輪119相配合進(jìn)行移動(dòng)以暴露或密封開口 132，以及使第三 開合件162及所述第四開合件164的滑槽146與第二收容腔116的滾輪119相配合進(jìn)行移 動(dòng)以暴露或密封開口 132。鍍膜裝置10工作時(shí)，首先，將蒸鍍源20與靶材30分別對應(yīng)安裝至第一收容槽114 及第二收容槽124內(nèi)，將蓋體120合上以密封通孔112，再利用抽真空裝置170抽真空以使 反應(yīng)腔110內(nèi)為真空狀態(tài)，進(jìn)行蒸鍍時(shí)，如圖3所示，使第一開合件152及第二開合件154密 封開口 132，同時(shí)且第三開合件162及第四開合件164暴露開口 132，從而使蒸鍍源20通過 開口 132對待鍍膜基板40進(jìn)行蒸鍍。當(dāng)蒸鍍完成后，使第一開合件152及第二開合件154 暴露開口 132，使承載組件140的轉(zhuǎn)軸144轉(zhuǎn)動(dòng)大約180度以帶動(dòng)承載部132上的待鍍膜基 板40在開口 132內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)180度，以使待鍍膜基板40的鍍膜面對準(zhǔn)開口 132，同時(shí)使第三開 合件162及第四開合件164密封開口 132，如圖4所示，此時(shí)利用靶材30通過通孔112對待 鍍膜基板40進(jìn)行濺鍍。靶材30可直接從蓋體120上取下進(jìn)行更換，若需要更換蒸鍍源20及待鍍膜基板 40，則同時(shí)使第一開合件152及第二開合件154與第三開合件162及第四開合件164移動(dòng) 暴露開口 132即可。所述鍍膜裝置10通過設(shè)置間隔部130將反應(yīng)腔110分為第一收容腔116及第二 收容腔118，及在間隔部130的開口 132內(nèi)設(shè)置可轉(zhuǎn)動(dòng)的待鍍膜基板40的承載組件140，從 而可分別在第一收容腔116及第二收容腔118內(nèi)對待鍍膜基板40進(jìn)行不同膜層的鍍膜，無 需將待鍍膜基板40移出反應(yīng)腔110，操作簡單，鍍膜效果較好。另外，本領(lǐng)域技術(shù)人員還可以在本發(fā)明精神內(nèi)做其它變化，當(dāng)然，這些依據(jù)本發(fā)明 精神所做的變化，都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜裝置，其用于對一個(gè)待鍍膜基板進(jìn)行鍍膜，所述鍍膜裝置包括一個(gè)反 應(yīng)腔及一個(gè)蓋體，所述待鍍膜基板收容于所述反應(yīng)腔內(nèi)，所述反應(yīng)腔開設(shè)一個(gè)通孔，所述蓋 體活動(dòng)設(shè)置在所述反應(yīng)腔并用以暴露或密封所述通孔，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括 一個(gè)間隔部、一個(gè)承載組件、一個(gè)第一開合部及一個(gè)第二開合部，所述間隔部設(shè)置在所述反 應(yīng)腔內(nèi)將所述反應(yīng)腔分為一個(gè)第一收容腔及一個(gè)第二收容腔，所述間隔部開設(shè)一個(gè)與所述 通孔相對應(yīng)的貫穿開口，所述承載組件可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在所述開口內(nèi)以承載并帶動(dòng)所述待鍍 膜基板在所述開口內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)，所述第一開合部可移動(dòng)的設(shè)置在所述第一收容腔內(nèi)用以暴露或 密封所述開口，所述第二開合部可移動(dòng)的設(shè)置所述第二收容腔內(nèi)用以暴露或密封所述開
2.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述承載組件包括一個(gè)承載板及 一個(gè)轉(zhuǎn)軸，所述承載板與所述轉(zhuǎn)軸可拆卸地固定在所述間隔部上，所述承載板用于承載所 述待鍍膜基板，所述開口將所述間隔部分為第一間隔板及一個(gè)與所述第一間隔板相對應(yīng)的 第二間隔板，所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置于所述所述第一間隔板與所述第二間隔板之間，所述 轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)以帶動(dòng)所述承載板轉(zhuǎn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求2所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述第一間隔板與所述第二間隔 板相對的側(cè)壁開設(shè)一個(gè)第一收容孔，所述第二間隔板開設(shè)一個(gè)與所述第一收容孔相對應(yīng)的 第二收容孔，所述轉(zhuǎn)軸的兩端分別可轉(zhuǎn)動(dòng)地收容在所述第一收容孔與所述第二收容孔內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述反應(yīng)腔開設(shè)一個(gè)與所述開口 相對應(yīng)的第一收容槽，所述第一收容槽用于放置一個(gè)蒸鍍源。
5.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述蓋體包括一個(gè)承載面，所述承 載面開設(shè)一個(gè)第二收容槽，所述第二收容槽用于收容一個(gè)靶材，當(dāng)所述蓋體密封所述反應(yīng) 腔的開口時(shí)，所述第二收容槽與所述開口相對應(yīng)。
6.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述第一收容腔的相對兩側(cè)壁沿 所述第一開合部的移動(dòng)方向分別設(shè)置多個(gè)滾輪，所述第一開合部包括一個(gè)第一開合件、一 個(gè)第二開合件及及兩個(gè)第一驅(qū)動(dòng)桿，各第一驅(qū)動(dòng)桿分別可移動(dòng)地與所述第一開合件與所述 第二開合件相固定連接，所述第一開合件及所述第二開合件分別開設(shè)一個(gè)與所述多個(gè)滾輪 相對應(yīng)的滑槽，所述第一驅(qū)動(dòng)桿移動(dòng)以帶動(dòng)所述滑槽與所述多個(gè)滾輪相配合進(jìn)行移動(dòng)以使 所述第一開合件及所述第二開合件暴露或密封所述開口。
7.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述第二收容腔的相對兩側(cè)壁沿 所述第二開合部的移動(dòng)方向分別設(shè)置多個(gè)滾輪，所述第二開合部包括一個(gè)第三開合件、一 個(gè)第四開合件及兩個(gè)第二驅(qū)動(dòng)桿，各第二驅(qū)動(dòng)桿分別可移動(dòng)地與所述第三開合件及所述第 四開合件相固定連接，所述第三開合件及所述第四開合件分別開設(shè)一個(gè)與所述多個(gè)滾輪相 對應(yīng)的滑槽，所述第二驅(qū)動(dòng)桿移動(dòng)以帶動(dòng)所述滑槽與所述多個(gè)滾輪相配合進(jìn)行移動(dòng)以使所 述第三開合件及所述第四開合件暴露或密封所述開口。
8.如權(quán)利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于，所述鍍膜裝置還包括一個(gè)用于對 所述反應(yīng)腔進(jìn)行抽真空的抽真空裝置。
全文摘要
一種真空鍍膜裝置，其用于對待鍍膜基板進(jìn)行鍍膜。真空鍍膜裝置包括反應(yīng)腔、蓋體、間隔部、承載組件、第一開合部及第二開合部。反應(yīng)腔開設(shè)一通孔。蓋體活動(dòng)設(shè)置在反應(yīng)腔上用以暴露或密封通孔。間隔部設(shè)置在反應(yīng)腔內(nèi)將反應(yīng)腔分為第一收容腔及第二收容腔。間隔部開設(shè)一與通孔相對應(yīng)的貫穿開口。承載組件可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在開口內(nèi)以承載并帶動(dòng)基板翻轉(zhuǎn)。第一開合部與第二開合部分別可移動(dòng)的設(shè)置在第一收容腔與第二收容腔內(nèi)用以暴露或密封開口。鍍膜裝置通過設(shè)置間隔部將反應(yīng)腔分為第一收容腔及第二收容腔，及在開口內(nèi)設(shè)置可轉(zhuǎn)動(dòng)的承載組件，從而分別在第一收容腔及第二收容腔內(nèi)對基板進(jìn)行不同膜層的鍍膜，無需將基板移出反應(yīng)腔，操作簡單，鍍膜效果較好。
文檔編號C23C14/34GK101994096SQ200910305660
公開日2011年3月30日 申請日期2009年8月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月14日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司