本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途，特別適用于生產(chǎn)低輻射鍍膜玻璃，屬于機械領域。

背景技術：

低輻射鍍膜玻璃，(low-e玻璃)即采用物理或化學方法在玻璃表面上鍍上含有一層或兩層甚至多層膜系的金屬薄膜或金屬氧化物薄膜，來降低能量吸收或控制室內(nèi)外能量交換，保障生活、工作的舒適性，并以此達到環(huán)保節(jié)能的目的。

隨著節(jié)能減排政策的倡導，人們對低輻射鍍膜玻璃提出更高的要求。普通用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段生產(chǎn)的產(chǎn)品已經(jīng)不能滿足人們提出的更高要求。大面積磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線包含許多組成部分，其中核心區(qū)域是鍍膜高真空區(qū)的工藝布置，即鍍膜段。

現(xiàn)有技術中存在鍍膜單元安裝復雜，靈活性差，隔離系數(shù)低，真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題，例如，每個隔離腔室中所要安裝的元件都是固定的，無法隨意的拆分，當整個設備需要有所變化時，則無形中給用戶增加不必要的人力、物力和時間等成本，同時隔離系數(shù)低、真空環(huán)境差、冷卻效果低會嚴重影響制備的膜層質(zhì)量。

技術實現(xiàn)要素：

鑒于以上所述現(xiàn)有技術的缺點，本發(fā)明的目的在于提供一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途，用于解決現(xiàn)有技術中用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段安裝復雜，靈活性差，隔離系數(shù)低，真空環(huán)境差、冷卻效率低等問題。

為實現(xiàn)上述目的及其他相關目的，本發(fā)明提供一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段，所述鍍膜段至少包括：若干隔離腔室、傳輸單元、氣體隔離單元，陰極靶材、抽真空單元、以及冷卻單元；每個所述隔離腔室依次連接，每個所述隔離腔室的頂部設置可打開的蓋板，每個所述蓋板大小和形狀一致；每個所述隔離腔室的內(nèi)部設置氣體隔離單元或者陰極靶材；所述傳輸單元設置在隔離腔室內(nèi)的下部且貫通所有隔離腔室；每個裝有所述氣體隔離單元的隔離腔室上的蓋板上設置抽真空裝置；安裝有所述陰極靶材的隔離腔室內(nèi)部還設置冷卻單元。

優(yōu)選地，相鄰的兩個隔離腔室之間設置抽氣口。

優(yōu)選地，每個所述隔離腔室都是規(guī)則的6面體且大小一致。

優(yōu)選地，每個所述蓋板和所述隔離腔室之間設有密封圈。

優(yōu)選地，所述氣體隔離單元包括橫向設置的橫向隔板和縱向設置的縱向隔板，所述橫向隔板位于傳輸單元的上方，所述縱向隔板上端達到隔離腔室的頂部，下端達到橫向隔板。

優(yōu)選地，安裝有所述陰極靶材的隔離腔室內(nèi)部還設置冷卻單元，所述冷卻單元包括設置在第二隔離腔室內(nèi)下方的冷卻水管道，所述冷卻水管道與外部水源連通。

優(yōu)選地，所述傳輸單元采用傳輸輥道，所述傳輸輥道包括若干輥子。

優(yōu)選地，所述陰極靶材選自sial靶材、tio靶材、snal靶材、znal靶材、znsn靶材、azo靶材、ni靶材、cr靶材、nicr靶材、ag靶材中的任意一種或幾種

優(yōu)選地，所述陰極靶材按照sial靶材、znal靶材、nicr靶材、ag靶材、nicr靶材、snzn靶材、znal靶材、nicr靶材、ag靶材、nicr靶材、snzn靶材、sial靶材順序分別安裝在隔離腔室內(nèi)。

以上順序是在玻璃上鍍膜的生產(chǎn)工藝順序，在玻璃上依次采用上述靶材鍍膜。所述分別安裝，是指在每個隔離腔室中安裝一個陰極靶材。

優(yōu)選地，所述隔離腔室共40個，并依次連接，其中第2個隔離腔室和第3個隔離腔室中設置sial靶材、第7個隔離腔室和第8個隔離腔室安裝znal靶材、第11個隔離腔室安裝nicr靶材、第13個隔離腔室安裝ag靶材、第15個隔離腔室安裝nicr靶材、第18個隔離腔室和第19個隔離腔室安裝snzn靶材、第22個隔離腔室和第23個隔離腔室安裝znal靶材、第26個隔離腔室安裝nicr靶材、第28個隔離腔室安裝ag靶材、第30個隔離腔室安裝nicr靶材、第33個隔離腔室和第34個隔離腔室安裝snzn靶材、第38個隔離腔室和第39個隔離腔室安裝sial靶材，其余的隔離腔室中安裝氣體隔離單元。

本發(fā)明的另一方面提供了上述的用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的用途。

如上所述，本發(fā)明的用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段及其用途，具有以下有益效果：

由于每個隔離腔室采用標準化設計，大小一致，因此，在每個蓋板以及內(nèi)部的工作單元都適用于其他隔離腔室；因此其中的氣體隔離單元也是適用于任意一個隔離腔室的。當工藝需要調(diào)整時，可以隨意調(diào)節(jié)其中所安裝的元件的位置。合理的工藝布置可以滿足：多種單、雙銀產(chǎn)品的生產(chǎn)；生產(chǎn)不同的產(chǎn)品，靶材位置需要變動時，可以簡便、及時的變動；未來產(chǎn)品更新?lián)Q代，需預留一定的工藝升級空間。

附圖說明

圖1顯示為本發(fā)明結構整體結構示意圖。

圖2顯示為圖1中第4個隔離腔室的結構示意圖。

元件標號說明

2第2個隔離腔室

3第3個隔離腔室

4第4個隔離腔室

41蓋板

42抽真空單元

43抽氣口

44進片口

45輥子

46t形隔板

403縱向隔板

404橫向隔板

7第7個隔離腔室

8第8個隔離腔室

11第11個隔離腔室

13第13個隔離腔室

15第15個隔離腔室

33第33個隔離腔室

34第34個隔離腔室

38第38個隔離腔室

39第39個隔離腔室

具體實施方式

須知，本說明書所附圖式所繪示的結構、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供熟悉此技術的人士了解與閱讀，并非用以限定本發(fā)明可實施的限定條件，故不具技術上的實質(zhì)意義，任何結構的修飾、比例關系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達成的目的下，均應仍落在本發(fā)明所揭示的技術內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本發(fā)明可實施的范圍，其相對關系的改變或調(diào)整，在無實質(zhì)變更技術內(nèi)容下，當亦視為本發(fā)明可實施的范疇。

如圖1～2所示，本發(fā)明提供一種用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段，所述用于生產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段包括到不限于：40個隔離腔室、每個隔離腔室采用標準化設計，都是規(guī)則的6面體，因此，大小相同，形狀一致。每個所述隔離腔室長3900mm，寬900mm，高1000mm。當然，所述隔離腔室的個數(shù)是可以根據(jù)需要而調(diào)節(jié)的，其大小和具體的形狀也是可以調(diào)節(jié)的。

圖2顯示為其中第4個隔離腔室4的結構示意圖。由于其他隔離腔室與其結構類似，因此，可以作為參考。每個隔離腔室的下方都設置進片口44，在最后一個隔離腔室還設置出片口相鄰的兩個隔離腔室之間還設置抽氣口43。所述進片口的面積約為0.07m²，所述抽氣孔的面積約為0.24m²。因此相鄰的兩個隔離腔室通過進片口和抽氣口連通。

每個隔離腔室的頂部都設置可打開的蓋板41，每個所述蓋板41大小都相等。

優(yōu)選地，所述蓋板和所述隔離腔室之間還設有密封圈，使得密封效果更好。

在每個隔離腔室的內(nèi)部的下方都設置傳輸單元，因此，傳輸單元時貫通所有隔離腔室的。在本實施例中，所述傳輸單元采用的是傳輸輥道，所述傳輸輥道包括若干個輥子45，每個輥子都水平的設置在隔離腔室進片口的下方，保證從進片口進來的玻璃能被傳輸?shù)较乱粋€隔離腔室。在本實施例中，每個隔離腔室的下方安裝3個輥子。

在其他實施例中，所述傳輸單元也可以采用傳輸帶。

在本實施例中，所述隔離腔室共40個，并依次連接，其中第2個隔離腔室2和第3個隔離腔室3中設置sial靶材、第7個隔離腔室7和第8個隔離腔室8安裝znal靶材、第11個隔離腔室11安裝nicr靶材、第13個隔離腔室13安裝ag靶材、第15個隔離腔室15安裝nicr靶材、第18個隔離腔室和第19個隔離腔室安裝snzn靶材、第22個隔離腔室和第23個隔離腔室安裝znal靶材、第26個隔離腔室安裝nicr靶材、第28個隔離腔室安裝ag靶材、第30個隔離腔室安裝nicr靶材、第33個隔離腔室33和第34個隔離腔室34安裝snzn靶材、第38個隔離腔室38和第39個隔離腔室39安裝sial靶材，其余的隔離腔室中安裝氣體隔離單元。

采用上述實施例制備的鍍膜玻璃，使其不僅具有良好的光學和熱學性能(u值小于1.5)。

一般的，上述靶材的安裝的順序和個數(shù)，是根據(jù)所需制備的玻璃而調(diào)節(jié)的。例如第2和第3個安裝的是sial靶材，且是連續(xù)安裝的，但是在其他實施例中可以只安裝了一個sial靶材，也可以安裝更多的sial靶材，此時可以不連續(xù)安裝。

在本發(fā)明中，由于蓋板的大小相等，因此是可以隨意調(diào)節(jié)的。

一般所安裝的陰極靶材的種類和個數(shù)是根據(jù)需要而調(diào)節(jié)的。根據(jù)本發(fā)明，可以在玻璃上依次進行鍍膜。

一般的，所述陰極靶材可以是平面陰極，可以是旋轉陰極。在本實施例中，第11、13、15、26、28、30安裝平面陰極，其他都是旋轉陰極。其中旋轉陰極可以制備鍍膜玻璃的介質(zhì)層，起到增透、減反等作用；平面陰極可以制備金屬層和功能層，金屬層起到保護功能層的作用，功能層能起到降低輻射率作用。

在本實施例中，在蓋板的下方安裝把靶材固定件，陰極靶材或者旋轉靶材通過靶材固定件安裝在蓋板的下方。在本實施例中，所述靶材固定件包括4個端頭，每兩個端頭為一組，分別位于蓋板的兩端將陰極靶材固定。所述端頭含有傳動組件，能固定陰極靶材且與腔體蓋板絕緣。

每個裝有所述氣體隔離單元的隔離腔室上的蓋板上設置抽真空單元42。在本實施例中所述抽真空單元選用分子泵(市購)。在本實施例中共安裝了四個分子泵，一般的可以安裝1～6個分子泵。所述分子泵可以將隔離腔室抽成真空狀態(tài)。

在另一實施例中，所述氣體隔離單元包括橫向設置的橫向隔板404和縱向設置的縱向隔板403，所述橫向隔板位于傳輸單元的上方，所述縱向隔板上端達到隔離腔室的頂部，下端達到橫向隔板。氣體隔離裝置將隔離腔室分為左右兩個完全隔離的空間，能將通入的工藝氣體相對的密封在隔離空間內(nèi)，阻止工藝氣體間的相互竄動，影響相鄰膜層質(zhì)量。橫向隔板的兩端采用螺釘固定在隔離墻上，縱向隔板采用夾板立在橫向隔板上固定在隔離腔室中。所述橫向隔板水平的設置在進片口上方處，縱向隔板位于隔離腔使的中央位置，因此隔離腔室被分割成兩個幾乎相同大小的隔離空間。

在另一實施例中，安裝有所述陰極靶材的隔離腔室內(nèi)部還設置冷卻單元，所述冷卻單元包括設置在隔離腔室內(nèi)下方的冷卻水管道(圖中未示出)，所述冷卻水管道與外部水源連通。所述冷卻水管道盤繞在輥子之間。所述冷卻單元能夠降低隔離腔室內(nèi)部的溫度，使得鍍膜時更加的均勻。

在本實施例中，輥子之間設置橫截面為t形的t形隔板46。t形隔板的縱向部分插入輥子之間，橫向部分位于相鄰的兩個輥子之間，所述t形隔板將輥子之間的孔隙得以密封，提高整個裝置的密封性能。所述t形隔板的水平部分略低于輥子的最高點。

在另一實施例中，所述布水管道采用銅質(zhì)材料制作，因為銅的導熱性能較好，因此具有較好的傳遞熱量的功能。

以上的鍍膜段是用于給鍍膜玻璃鍍膜的鍍膜段，是整個鍍膜玻璃生產(chǎn)線的一部分。

以上的實施例是為了說明本發(fā)明公開的實施方案，并不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，本文所列出的各種修改以及發(fā)明中方法、組合物的變化，在不脫離本發(fā)明的范圍和精神的前提下對本領域內(nèi)的技術人員來說是顯而易見的。雖然已結合本發(fā)明的多種具體優(yōu)選實施例對本發(fā)明進行了具體的描述，但應當理解，本發(fā)明不應僅限于這些具體實施例。事實上，各種如上所述的對本領域內(nèi)的技術人員來說顯而易見的修改來獲取發(fā)明都應包括在本發(fā)明的范圍內(nèi)。