專利名稱：鍍膜傘架的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜裝置，尤其涉及一種用于蒸鍍過程中能夠防止待鍍工件被污 染的鍍膜傘架。
背景技術：
當前，許多工業(yè)產(chǎn)品表面都鍍有功能薄膜，以改善產(chǎn)品表面的各種性能。如在光 學鏡片的表面鍍上一層抗反射膜，以降低鏡片表面的反射率，降低入射光通過鏡片的能量 損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜，可濾掉某一預定波段的光，制成各種各 樣的濾光片。一般地，鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發(fā)法、化學氣 相沉積法等。Ichiki，M.等人在 2003 年 5 月發(fā)表于 2003Symposium on Design, Test, Integration andPackaging of MEMS/MOEMS StJife^I Thin film formation-a fabrication on non-planarsurface by spray coating method中介紹了通過噴涂在__平面形成薄膜的 方法。蒸鍍是一種物理氣相沉積技術，即以物理的方式進行薄膜沉積。具體地，其通過離 子束或電子束對蒸鍍材料進行加熱，使蒸鍍材料變成氣態(tài)或離子態(tài)，而沉積在待鍍工件表 面以形成一蒸鍍材料膜層。在對工件的某一面進行鍍膜時，通常是將待鍍工件固定于鍍膜傘架上。在將待鍍 工件固定于傘架的過程時，待鍍工件暴露在環(huán)境中，環(huán)境中的粒子附著于待鍍工件的表面， 使得上述粒子形成于鍍膜內(nèi)，造成鍍膜產(chǎn)品不良。另外，蒸鍍靶材設置于鍍膜傘架下方，通 過蒸發(fā)而將靶材沖至鍍膜傘架，從而對待鍍工件的朝向鍍膜傘架下方的一面進行鍍膜。然 而，由于在蒸鍍制程中，蒸鍍源的離子在真空腔體內(nèi)是以無序的方式運動，其容易從固定式 傘架的周圍流動至傘架上方，附著在待鍍工件的周緣及另一面從而污染待鍍工件。

發(fā)明內(nèi)容
因此，有必要提供一種鍍膜傘架，能夠避免在待鍍工件安裝及進行鍍膜過程時防 止待鍍工件污染。一種鍍膜傘架，其包括傘架本體、轉(zhuǎn)軸及遮罩。所述傘架本體開設有多個容置通 孔，用于容置多個待鍍工件。所述遮罩通過所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地設置于傘架本體，所述遮罩與 所述傘架本體同軸并相互對應，用于遮擋傘架本體。所述遮罩具有自其中心向其邊緣開設 的第一開口，以使傘架本體的部分容置通孔從所述第一開口露出。相較于現(xiàn)有技術，本技術方案提供的鍍膜傘架，其包括有可以相對轉(zhuǎn)動的傘架本 體和遮罩，遮罩遮擋傘架本體，遮罩開設有開口，待鍍工件通過開口放置于傘架本體的容置 通孔內(nèi)，并通過轉(zhuǎn)動遮罩，使得放置有待鍍工件的容置通孔被遮罩遮擋，從而可以減少外界 中的粒子附著于待鍍工件的表面，從而可以提高鍍膜工件鍍膜的質(zhì)量。


圖1是本技術方案第一實施例提供的鍍膜傘架的立體示意圖。圖2是本技術方案第一實施例提供的鍍膜傘架的立體分解示意圖。圖3是本技術方案第二實施例提供的鍍膜傘架的立體分解示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合多個附圖及實施例，對本技術方案提供的鍍膜傘架作進一步的詳細說明。請一并參閱圖1及圖2，本發(fā)明實施例提供一種鍍膜傘架100，其包括一個傘架本 體110、旋轉(zhuǎn)軸120、一個遮罩130、一個擋板140及一個固定件150。傘架本體110具有相對的第一表面111和第二表面112。其中，第一表面111為 內(nèi)凹表面，其與蒸鍍源相對。第二表面112為外凸表面。自第一表面111向第二表面112 開設有多個容置通孔113，用于容置待鍍工件。多個容置通孔113大小相等，且在傘架本體 110上整齊排布。本實施例中，多個容置通孔113排列于以傘架本體110中心為圓心的多個 同心圓周上。位于同一圓周上的多個容置通孔113等間距等角度設置。轉(zhuǎn)軸120固定于傘架本體110，并使得遮罩130和擋板140可相對傘架本體110轉(zhuǎn) 動。轉(zhuǎn)軸120設置于傘架本體110的第二表面112中心向遠離傘架本體110的方向延伸。 轉(zhuǎn)軸120與傘架本體110同軸設置。本實施例中，轉(zhuǎn)軸120包括同軸設置且均為圓柱形的 支撐段121和延伸段122。支撐段121的直徑大于延伸段122的直徑。在延伸段122遠離 支撐段121的一端，形成有外螺紋123。遮罩130用于遮擋傘架本體110。遮罩130與傘架本體110的第二表面112相對。 本實施例中，遮罩130也呈傘狀，其尺寸與傘架本體110相當。遮罩130與傘架本體110相 互平行且同軸設置。在遮罩130的中心開設有第一配合孔131，第一配合孔131的孔徑小于 支撐段121的直徑且略大于延伸段122的直徑。遮罩130通過第一配合孔131配合套入轉(zhuǎn) 軸120的延伸段122上，并使得遮罩130可以繞轉(zhuǎn)軸120轉(zhuǎn)動。由于支撐段121的直徑大 于第一配合孔131的直徑，使得遮罩130與傘架本體110相互分離。自遮罩130的中心向 其邊緣開設有開口 132，開口 132的寬度大于容置通孔113的孔徑。本實施例中，開口 132 與配合孔131不相連通。遮罩130遮擋傘架本體110時，傘架本體110的部分容置通孔113 從開口 132露出。擋板140設置于遮罩130遠離傘架本體110的一側(cè)。擋板140用于在進行鍍膜時 遮擋開口 132。本實施例中，擋板140的包括相互連接的安裝部141和遮擋部142。安裝部 141呈圓片狀，在其中心開設有第二配合孔143，第二配合孔143的孔徑與第一配合孔131 的孔徑相等。第二配合孔143也配合套入延伸段122，擋板140可以繞轉(zhuǎn)軸120轉(zhuǎn)動。遮擋 部142的形狀與開口 132的形狀相同。通過旋轉(zhuǎn)擋板140，可以使得擋板140的遮擋部142 與遮罩130的開口 132相對應，從而使得傘架本體110上從開口 132露出的容置通孔113 被遮擋部142遮擋。當然，遮擋部142也可以為其他形狀，只需要其能夠全部遮擋開口 132 即可。固定件150設置于延伸段122上，從而使得遮罩130和第一擋板140與延伸段122 相配合。固定件150可以為本技術領域常見的螺帽等結(jié)構(gòu)。固定件150呈圓筒狀，其內(nèi)壁 設置有與外螺紋123相配合的內(nèi)螺紋151。固定件150螺合于延伸段122上的外螺紋123。
本實施例提供的鍍膜傘架100，進行鍍膜前，可以使得第一擋板140不遮擋遮罩 130的開口 132，從而可以往從開口 132露出的容置通孔113內(nèi)放置待鍍工件。并且，可以 通過相對于傘架本體110轉(zhuǎn)動遮罩130，從而使得未放置待鍍工件的容置通孔113依次從開 口 132露出，同時使得放置有待鍍工件的容置通孔113被遮罩130遮擋，以避免放置于容置 通孔113的待鍍工件表面附著雜質(zhì)粒子。如此通過不斷轉(zhuǎn)動遮罩130，可以使得全部的容置 通孔113都從開口 132露出過并均可被放置入待鍍工件。在整個傘架本體110的容置通孔 113內(nèi)放置待鍍工件完成后，旋轉(zhuǎn)擋板140，使得擋板140遮擋開口 132，從而使得全部的待 鍍工件均被有效遮蔽。如此在進行鍍膜時，可以使得待鍍工件不需要進行鍍膜的一面被遮 擋，從而可以使得鍍膜工件不需要鍍膜的表面不會沉積蒸鍍粒子，保證鍍膜的質(zhì)量。請參見圖3，本技術方案第二實施例提供一種鍍膜傘架200，其結(jié)構(gòu)與第一實施例 提供的鍍膜傘架100的結(jié)構(gòu)相近，鍍膜傘架200包括一個傘架本體210、旋轉(zhuǎn)軸220、一個遮 罩230、一個第一擋板240及一個固定件260。不同之處在于，鍍膜傘架200還包括一個第 二擋板250，并且遮罩230上開設有第一開口 232和第二開口 233。第一開口 232與第二開 口 233均自遮罩230的中心向其邊緣開設。第一擋板240和第二擋板250的形狀與第一實 施例中的擋板140的結(jié)構(gòu)相同。本實施例中，第一開口 232與第二開口 233關于第一配合 孔231的中心對稱設置。第一擋板240與第一開口 232相對應，用于遮擋從第一開口 231。 第二擋板250與第二開口 233相對應，用于遮擋從第二開口 233。本實施例提供的鍍膜傘架200，進行鍍膜前，可以使得第一擋板240不遮擋遮罩 230的第一開口 232，第二擋板250不遮擋遮罩230的第二開口 233，從而可以往從第一開口 232和第二開口 233露出的容置通孔211內(nèi)放置待鍍工件。并且，可以通過相對于傘架本體 210轉(zhuǎn)動遮罩230，從而使得未放置待鍍工件的容置通孔211依次從第一開口 232和第二開 口 233露出，同時使得放置有待鍍工件的容置通孔211被遮罩230遮擋，以避免放置于容置 通孔211的待鍍工件表面附著雜質(zhì)粒子。如此通過不斷轉(zhuǎn)動遮罩230，可以使得全部的容置 通孔211都從第一開口 232或第二開口 233露出過并均可被放置入待鍍工件。在整個傘架 本體210的容置通孔211內(nèi)放置待鍍工件完成后，旋轉(zhuǎn)第一擋板240，使得第一擋板240遮 擋第一開口 232，旋轉(zhuǎn)第二擋板250，使得第二擋板250遮擋第二開口 233，從而使得全部的 待鍍工件均被有效遮蔽。如此在進行鍍膜時，可以使得待鍍工件不需要進行鍍膜的一面被 遮擋，從而可以使得鍍膜工件不需要鍍膜的表面不會沉積蒸鍍粒子，保證鍍膜的質(zhì)量。本實 施提供的鍍膜傘架，可以從兩個開口同時放置待鍍工件，可以提升放置待鍍工件的速度。本技術方案提供的鍍膜傘架，其包括有可以相對轉(zhuǎn)動的傘架本體和遮罩，遮罩遮 擋傘架本體，遮罩開設有開口，待鍍工件通過開口放置于傘架本體的容置通孔內(nèi)，并通過轉(zhuǎn) 動遮罩，使得放置有待鍍工件的容置通孔被遮罩遮擋，從而可以減少外界中的粒子附著于 待鍍工件的表面，從而可以提高鍍膜工件鍍膜的質(zhì)量?？梢岳斫獾氖牵瑢τ诒绢I域的普通技術人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術構(gòu)思做 出其它各種相應的改變與變形，而所有這些改變與變形都應屬于本發(fā)明權利要求的保護范圍。
權利要求
1.一種鍍膜傘架，其包括傘架本體、轉(zhuǎn)軸及遮罩，所述傘架本體開設有多個容置通孔， 用于容置多個待鍍工件，所述遮罩通過所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地設置于傘架本體，所述遮罩與所 述傘架本體同軸并相互對應，用于遮擋傘架本體，所述遮罩具有自其中心向其邊緣開設的 第一開口，以使傘架本體的部分容置通孔從所述第一開口露出。
2.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述傘架本體與遮罩均呈傘狀，所述遮 罩與傘架本體基本平行地設置于傘架本體一側(cè)。
3.如權利要求2所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸設置于傘架本體的中心，所 述遮罩的中心開設有與轉(zhuǎn)軸相對應的第一配合孔，所述遮罩通過第一配合孔套設于所述轉(zhuǎn) 軸ο
4.如權利要求3所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述轉(zhuǎn)軸包括同軸連接的支撐段和延 伸段，所述支撐段靠近所述傘架本體，其直徑大于第一配合孔的直徑，所述延伸段遠離所述 傘架本體，其直徑小于或等于第一配合孔的直徑，所述遮罩通過第一配合孔配合套設于所 述延伸段。
5.如權利要求4所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述鍍膜傘架還包括固定件，所述固定 件固定于延伸段，所述遮罩位于固定件與傘架本體之間。
6.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述鍍膜傘架還包括第一擋板，所述第 一擋板可轉(zhuǎn)動地設置于遮罩遠離傘架本體的一側(cè)，所述第一擋板用于遮擋所述第一開口。
7.如權利要求6所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述第一擋板包括安裝部和遮擋部，所 述安裝部開設有與轉(zhuǎn)軸相對應的第二配合孔，所述第一擋板通過第二配合孔套設于轉(zhuǎn)軸， 所述遮擋部的形狀與第一開口的形狀相對應。
8.如權利要求6所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述遮罩還具有自其中心向其邊緣開 設的第二開口，所述鍍膜傘架還包括第二擋板，所述第二擋板可轉(zhuǎn)動地設置于遮罩遠離傘 架本體的一側(cè)，用于遮擋所述第二開口。
9.如權利要求8所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述第一開口和第二開口關于遮罩的 中心對稱設置。
10.如權利要求1所述的鍍膜傘架，其特征在于，所述多個容置通孔環(huán)繞傘架本體的中 心軸線排列，且排列在傘架本體的中心為圓心的多個同心圓周上。
全文摘要
本發(fā)明提供一種鍍膜傘架，其包括傘架本體、轉(zhuǎn)軸及遮罩。所述傘架本體開設有多個容置通孔，用于容置多個待鍍工件。所述遮罩通過所述轉(zhuǎn)軸可轉(zhuǎn)動地設置于傘架本體，所述遮罩與所述傘架本體同軸并相互對應，用于遮擋傘架本體。所述遮罩具有自其中心向其邊緣開設的第一開口，以使傘架本體的部分容置通孔從所述第一開口露出。
文檔編號C23C14/56GK101994095SQ20091030561
公開日2011年3月30日 申請日期2009年8月14日 優(yōu)先權日2009年8月14日
發(fā)明者林后堯, 蔡泰生 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司