一種真空鍍膜裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及真空鍍膜領(lǐng)域，尤其是涉及一種真空鍍膜裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]真空鍍膜技術(shù)中，往往將材料高溫加熱，然后冷卻到基片形成薄膜，在鍍膜過(guò)程中，由于材料會(huì)形成氣體，氣體具有不穩(wěn)定性，并且由于真空鍍膜的腔體的腔體較大，這樣會(huì)使薄膜形成的不均勻；另外，由于真空腔體內(nèi)存在多個(gè)蒸發(fā)源，當(dāng)使用其中一個(gè)蒸發(fā)源時(shí)，會(huì)對(duì)其他的蒸發(fā)源造成污染，影響鍍膜的質(zhì)量。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是提供一種真空鍍膜裝置，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過(guò)程中的交叉污染。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種真空鍍膜裝置，包括腔體，所述的腔體內(nèi)設(shè)置有探頭、放置基片的模板、第一蒸發(fā)源和第二蒸發(fā)源；所述的腔體旁側(cè)設(shè)置有氣管；所述的氣管與外部的真空泵連接；所述的第一蒸發(fā)源上設(shè)置有圓錐形的防護(hù)罩。
[0005]進(jìn)一步的，所述的圓錐形的防護(hù)罩可以用設(shè)置在第一蒸發(fā)源和第二蒸發(fā)源之間的擋板替代。
[0006]進(jìn)一步的，所述擋板為可活動(dòng)的。
[0007]本發(fā)明具有的優(yōu)點(diǎn)和積極效果是:由于采用上述技術(shù)方案，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過(guò)程中的交叉污染。
【附圖說(shuō)明】
[0008]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0009]圖2是本發(fā)明實(shí)施例二的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:
[0011]1、腔體2、探頭3、氣管4、真空泵5、模板6、第一蒸發(fā)源7、第二蒸發(fā)源8、防護(hù)罩9、擋板
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做詳細(xì)說(shuō)明。
[0013]實(shí)施例一
[0014]如圖1所示，本發(fā)明一種真空鍍膜裝置，包括腔體1，所述的腔體I內(nèi)設(shè)置有探頭2、放置基片的模板5、第一蒸發(fā)源6和第二蒸發(fā)源7 ;所述的腔體I旁側(cè)設(shè)置有氣管3 ;所述的氣管3與外部的真空泵4連接；所述的第一蒸發(fā)源6上設(shè)置有圓錐形的防護(hù)罩8。因此，圓錐形的防護(hù)罩8既避免了蒸發(fā)源的污染，由于使氣態(tài)的蒸渡材料受到了空間的限制，又可以使鍍膜均勻。
[0015]實(shí)施例二
[0016]實(shí)施例二與實(shí)施例一的不同之處在于:如圖1-2所示，所述的圓錐形的防護(hù)罩8可以用設(shè)置在第一蒸發(fā)源6和第二蒸發(fā)源7之間的擋板9替代；所述擋板9為可活動(dòng)的。擋板9的作用是避免蒸發(fā)源的污染，使之不影響鍍膜的質(zhì)量。
[0017]以上對(duì)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)說(shuō)明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，不能被認(rèn)為用于限定本發(fā)明的實(shí)施范圍。凡依本發(fā)明申請(qǐng)范圍所作的均等變化與改進(jìn)等，均應(yīng)仍歸屬于本發(fā)明的專(zhuān)利涵蓋范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種真空鍍膜裝置，包括腔體(1)，其特征在于:所述的腔體(I)內(nèi)設(shè)置有探頭(2)、放置基片的模板(5)、第一蒸發(fā)源(6)和第二蒸發(fā)源(7);所述的腔體(I)旁側(cè)設(shè)置有氣管(3);所述的氣管(3)與外部的真空泵(4)連接；所述的第一蒸發(fā)源(6)上設(shè)置有圓錐形的防護(hù)罩(8)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于:所述的圓錐形的防護(hù)罩(8)可以用設(shè)置在第一蒸發(fā)源(6)和第二蒸發(fā)源(7)之間的擋板(9)替代。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種真空鍍膜裝置，其特征在于:所述擋板(9)為可活動(dòng)的。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種真空鍍膜裝置，包括腔體，所述的腔體內(nèi)設(shè)置有探頭、放置基片的模板、第一蒸發(fā)源和第二蒸發(fā)源；所述的腔體旁側(cè)設(shè)置有氣管；所述的氣管與外部的真空泵連接；所述的第一蒸發(fā)源上設(shè)置有圓錐形的防護(hù)罩，本發(fā)明的有益效果是結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用方便，鍍膜均勻，能夠避免蒸渡過(guò)程中的交叉污染。
【IPC分類(lèi)】C23C14-24
【公開(kāi)號(hào)】CN104762596
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410009010
【發(fā)明人】吳軍
【申請(qǐng)人】天津普利愛(ài)特真空鍍膜有限公司
【公開(kāi)日】2015年7月8日
【申請(qǐng)日】2014年1月6日