一種解決半球凹面鏡成像不良的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及鏡片生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及鏡片光學(xué)真空鍍膜中半球凹面鏡成像不 良的方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 目前，半球形凹面鏡廣泛運(yùn)用于倒車影像，監(jiān)控儀器設(shè)備，由于其作用明顯，國內(nèi) 外均積極推廣。鏡片光學(xué)鍍膜，是半球凹面鏡成像效果好壞的關(guān)鍵工序。近半球凹面鏡鍍 膜通常會因?yàn)楦叨炔?鏡片凹面中心與邊緣部的距離)原因，導(dǎo)致凹面研磨面的邊緣的色差 較大，從而造成鏡頭組裝后拍照成像出現(xiàn)"鬼影"（成像圖的邊緣與中心位置有較明顯的顏 色差)，主要原因是：1、設(shè)定的鍍膜規(guī)格及光波段要求范圍不夠?qū)?，最高設(shè)定420-780nm不 足以做到凹面鏡全面較廣的鍍膜范圍；2、膜系設(shè)計方面，各層之間的膜厚搭配對凹面鏡不 夠精準(zhǔn)，所以在目前光學(xué)鏡片真空鍍膜領(lǐng)域，解決凹面鏡組裝后成像出現(xiàn)"鬼影"的現(xiàn)象就 顯得非常重要了。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種解決半球凹面鏡成像不良 的方法，是通過設(shè)計廣波段的薄膜和鍍膜加工膜系設(shè)定來得到一種半球凹面鏡成像不良 的方法。
[0004] 本發(fā)明的目的通過以下技術(shù)解決方案來實(shí)現(xiàn)的：一種解決半球凹面鏡成像不良的 方法，包括以下步驟：1)薄膜設(shè)計、2)光學(xué)反射率規(guī)格設(shè)定、3)鍍膜加工膜系設(shè)定、4)真空 鍍膜；特征在于： 1) 、薄膜設(shè)計：使用TFC薄膜設(shè)計軟件設(shè)定廣波段的范圍：425nm-1050nm; 2) 、光學(xué)反射率規(guī)格設(shè)定：425nm-1050nm:Rmax< 1. 2%，Rave< 0. 8% ; 3) 、鍍膜加工膜系設(shè)定：H4:Ti02與La203混合物，MGF2氟化鎂；
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種解決半球凹面鏡成像不良的方法，包括以下步驟：1)薄膜設(shè)計、2)光學(xué)反射率 規(guī)格設(shè)定、3)鍍膜加工膜系設(shè)定、4)真空鍍膜；特征在于： 1) 、薄膜設(shè)計：使用TFC薄膜設(shè)計軟件設(shè)定廣波段的范圍：425nm-1050nm ; 2) 、光學(xué)反射率規(guī)格設(shè)定：425nm-1050nm :Rmax < 1. 2%，Rave < 0. 8% ; 3) 、鍍膜加工膜系設(shè)定：H4:Ti02與La203混合物，MGF2氟化鎂；
4) 、真空鍍膜：將設(shè)定好膜系的光學(xué)鏡片放在真空鍍膜機(jī)內(nèi)，待鍍膜鏡片面朝下放在套 環(huán)里，再把鏡片套環(huán)放在鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)卡傘上，關(guān)上真空腔門抽真空，設(shè)定抽真空時間30分 鐘，鍍膜溫度320±20°C，鍍膜真空度在2. 0*10-5Torr以下鍍膜，鍍膜結(jié)束即得到光學(xué)鏡 片。
【專利摘要】一種解決半球凹面鏡成像不良的方法,包括以下步驟：1）薄膜設(shè)計、2）光學(xué)反射率規(guī)格設(shè)定、3）鍍膜加工膜系設(shè)定、4）真空鍍膜。本發(fā)明,設(shè)計合理，構(gòu)造簡單，作用可靠，能夠切實(shí)滿足鏡片生產(chǎn)過程中半球凹面鏡片鍍膜的工藝要求，確保產(chǎn)品質(zhì)量。經(jīng)多方面綜合測試，半球凹面鏡光學(xué)反射率最大值要在1.2%以下，且平均值要在0.8%以下時，整個成像面沒有色差且易于生產(chǎn)加工，穩(wěn)定性強(qiáng)，又能完全達(dá)到光學(xué)成像要求。
【IPC分類】C23C14-22, G02B1-10
【公開號】CN104762594
【申請?zhí)枴緾N201510147654
【發(fā)明人】馬云燕, 彭偉森
【申請人】江蘇雙儀光學(xué)器材有限公司
【公開日】2015年7月8日
【申請日】2015年3月31日