專利名稱：真空設(shè)備的加熱裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種加熱裝置，特別是指一種真空設(shè)備的加熱裝置。
背景技術(shù)：
目前，最廣泛用來制備薄膜的方法當(dāng)屬真空鍍膜技術(shù)。以真空鍍膜
技術(shù)中屬于物理氣相沉積(PVD)范疇的熱蒸鍍法、濺鍍法來說，其操作 原理就是在一真空腔體中，透過電阻加熱、電子束、離子束、激光、熱 輻射、電漿、電弧等加熱方式，將鍍膜材料氣化成分子或原子，并沉積、 附著于目標(biāo)基座表面上以形成薄膜。
不論是使用哪一種加熱設(shè)備，為使其能維持良好的加熱效率，且避 免因積附雜質(zhì)而生污染，加熱設(shè)備必須要定期進(jìn)行清理、檢修等維護(hù)作 業(yè)，所以，本實(shí)用新型申請人將立設(shè)式加熱設(shè)備中的發(fā)熱體以插掛方式 定位，在拆裝時相當(dāng)簡便，能增進(jìn)維護(hù)便利性。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種加熱效率佳且維護(hù)便利的真空設(shè)備 的加熱裝置。
本實(shí)用新型的真空設(shè)備的加熱裝置，其能直立設(shè)置于該真空設(shè)備的 一腔體內(nèi)部，并包含一座基座、 一個呈直立狀地設(shè)置于該基座的一表面 上的支撐齒條架及一面盤曲形發(fā)熱體。該盤曲形發(fā)熱體面對該基座的該 表面，且可脫離地插掛定位于該支撐齒條架上。
本實(shí)用新型的效果在于，利用該盤曲形發(fā)熱體具有可脫離地插掛定 位于該支撐齒條架上的設(shè)計(jì)，拆裝時相當(dāng)簡易，具有良好的整體維護(hù)便 利性。

圖l是一立體分解圖，說明本實(shí)用新型真空設(shè)備的加熱裝置的一優(yōu)選 實(shí)施例，其一導(dǎo)熱單元能勾掛于一基座的開口處，以遮覆住一位在該基
座中的盤曲形發(fā)熱體；
圖2是該優(yōu)選實(shí)施例的一局部立體分解圖； 圖3是該優(yōu)選實(shí)施例的一組合剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明 如圖1~圖3所示，本實(shí)用新型真空設(shè)備的加熱裝置2的該優(yōu)選實(shí)施 例，其直立設(shè)置于一真空設(shè)備(如電漿濺鍍系統(tǒng))(圖中未示)的一腔體 內(nèi)部，用來對一目標(biāo)基板(如晶圓、玻璃等)進(jìn)行加熱，以促進(jìn)薄膜沉積、 附著效果；當(dāng)然，該真空設(shè)備也可以是熱蒸鍍系統(tǒng)，該真空設(shè)備的加熱 裝置2便能用以使一蒸鍍材料受熱熔化、蒸發(fā)，同樣也能用以加熱一目 標(biāo)基板，以促進(jìn)薄膜沉積效果。有關(guān)電漿濺鍍或熱蒸鍍等真空鍍膜技術(shù) 的操作原理與其他設(shè)備，是該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識的人所熟知的， 也非關(guān)本實(shí)用新型的技術(shù)特征，不予詳述。
而該真空設(shè)備的加熱裝置2包含一呈直立式扁形矩方殼蓋狀的基座 21、兩直立地間隔容置于該基座21中的支撐齒條架22、 一容置于該基座 21中且可脫離地直立插掛定位于該兩支撐齒條架22上的盤曲形發(fā)熱體 23、兩分別可抽離地縱向貫穿該基座21并穿置入該兩支撐齒條架22的 一側(cè)部中的栓桿25，以及一能勾掛組合于該基座21的開口處以貼近地遮 覆住該盤曲形發(fā)熱體23的導(dǎo)熱單元24。
該基座21具有一矩形立壁211以及一自該立壁211周緣橫向延伸的 周壁212。該兩支撐齒條架22相平行地焊固于該基座21的立壁211內(nèi)表 面上，每個撐齒條架22具有一固定于該基座21的立壁211內(nèi)表面的直 立條221、多個縱向間隔排列于該直立條221遠(yuǎn)離該立壁211的一側(cè)上且 其開口朝向該立壁211的橫U型卡齒222，以及多個與該多個卡齒222 呈交錯排列的卡槽223,因此，相鄰的卡齒222內(nèi)部與卡槽223是相連通的。
該盤曲形發(fā)熱體23是縱橫盤繞成方盤狀，能利用相對該基座21的 立壁211內(nèi)表面靠近或遠(yuǎn)離的平移方式，移進(jìn)入該基座21內(nèi)并使其各橫 條準(zhǔn)確、平穩(wěn)地插掛于該兩支撐齒條架22的卡槽223中，或是，脫離該 兩支撐齒條架22的卡槽223以移出該基座21外(須于該兩栓桿25已先 抽離該兩支撐齒條架22的狀態(tài)下)。本實(shí)施例中，該盤曲形發(fā)熱體23是 一條電熱管，且其兩電源端分別位在該基座21的頂、底側(cè)處。有關(guān)電熱 管的通電生熱機(jī)制原理，為該技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識者所熟知，且非 本實(shí)用新型的技術(shù)特征所在，不另詳述。
該兩栓桿25用以確保該盤曲形發(fā)熱體23能更加穩(wěn)固無憂地插掛于 該兩支撐齒條架22上。每一栓桿25具有一能插穿該基座21的周壁212 的上邊部并繼續(xù)朝下串插入該多卡齒222與該多卡槽223中的直桿身 251，以及一同體設(shè)置于該直桿身251頂端且勾抵于該周壁212的上邊部 外表面上的勾持部252。因此，當(dāng)該盤曲形發(fā)熱體23插掛于該兩支撐齒 條架22上時，將該兩栓桿25自該基座21外部以分別朝下插穿入該兩支 撐齒條架22中，能防止該盤曲形發(fā)熱體23不當(dāng)脫離該兩支撐齒條架22; 當(dāng)欲將該盤曲形發(fā)熱體23移出時，則握持該兩栓桿25的勾持部252處 并予向上抽拉,使該兩栓桿25的直桿身251完全抽離該兩支撐齒條架22, 便得以順利將該盤曲形發(fā)熱體23拆離該兩支撐齒條架22。
該導(dǎo)熱單元24具有一能全面地貼近并遮覆該盤曲形發(fā)熱體23的矩 方形導(dǎo)熱板241、四排呈方形地焊接固定于該導(dǎo)熱板241面對該盤曲形發(fā) 熱體23的一表面上的掛勾242,以及四排呈方形地固設(shè)于該基座21的立 壁211內(nèi)表面上且分別對應(yīng)該四掛勾242的嵌掛塊243。每一嵌掛塊243 的頂面凹設(shè)一插槽244,所相對應(yīng)的該掛勾242的一端部可脫離地插置入 該插槽244中，用以，該導(dǎo)熱板241便能平穩(wěn)地吊掛定位并遮覆住該盤 曲形發(fā)熱體23，或是能輕松拆離以使該盤曲形發(fā)熱體23外露。本實(shí)施例 中，該導(dǎo)熱板241為能發(fā)揮極佳熱導(dǎo)效果的浪板結(jié)構(gòu)。
因此，進(jìn)行加熱作業(yè)時，通電使該盤曲形發(fā)熱體23工作生熱，在該 基座21的周邊屏蔽作用下，能有效抑制該盤曲形發(fā)熱體23所生熱能的
6逸散、損失，讓熱能有效地經(jīng)由熱輻射、熱對流等途徑而傳遞至該導(dǎo)熱
板241,再經(jīng)由該導(dǎo)熱板241將熱能迅速傳導(dǎo)至目標(biāo)基板或蒸鍍材料予以 加熱，整體能達(dá)到極佳的加熱效率。
另一方面，進(jìn)行維護(hù)作業(yè)時，先將該導(dǎo)熱板241 (連同掛勾242 )與 該兩栓桿25拆卸下，再將該盤曲形發(fā)熱體23拆離支撐齒條架22并移出 該基座21夕卜，便能進(jìn)行各部件的清潔、效能檢測或汰換更新等維護(hù)動作， 之后，則依序?qū)⒃摫P曲形發(fā)熱體23、該兩栓桿25與該導(dǎo)熱板241等重新 組回就可以了，整體能達(dá)到拆裝簡易、維護(hù)便利等效果。
歸納上述，本實(shí)用新型的真空設(shè)備的加熱裝置2,整體能達(dá)到加熱效 率佳且維護(hù)^_利等效果，所以確實(shí)能達(dá)到本實(shí)用新型的目的。
權(quán)利要求1.一種真空設(shè)備的加熱裝置，其直立設(shè)置于該真空設(shè)備的一腔體內(nèi)部，并包含一座基座以及一面設(shè)置于該基座上的盤曲形發(fā)熱體，其特征在于還包含一個呈直立狀地設(shè)置于該基座的一表面上的支撐齒條架，該盤曲形發(fā)熱體面對該基座的該表面，且可脫離地插掛定位于該支撐齒條架上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于該基座具 有一塊立壁、及一塊橫向延伸設(shè)置于該立壁周緣的周壁，該支撐齒條架 容置于該基座中且直立固定于該立壁內(nèi)表面上，該盤曲形發(fā)熱體容置于 該基座中。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于還包含一 個可抽離地縱向插穿設(shè)置于該支撐齒條架中的^f全桿，該支撐齒條架具有 一才艮固設(shè)于該基座的立壁內(nèi)表面的直立條、多個縱向間隔排列設(shè)置于該 直立條遠(yuǎn)離該立壁的一側(cè)上且其開口朝向該立壁的橫U型卡齒、以及多 個與該多個卡齒呈交錯排列的卡槽，該盤曲形發(fā)熱體插掛定位于所述多 個卡槽中，該栓桿可抽離地縱向串插設(shè)置于卡齒與卡槽中。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于該栓桿具 有一個能插穿該基座的周壁以朝下穿置入卡齒與卡槽中的直桿身，以及 一個設(shè)置于該直桿身頂端且勾抵于該周壁的外表面上的勾持部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至4任一項(xiàng)所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于 還包含一個導(dǎo)熱單元，該導(dǎo)熱單元具有一塊能全面遮覆該盤曲形發(fā)熱體 的導(dǎo)熱板、 一個設(shè)置于該導(dǎo)熱板面對該盤曲形發(fā)熱體的一表面上的掛勾、 以及一個設(shè)置于該基座的該表面上且其頂面凹設(shè)一插槽的嵌掛塊，該掛 勾的一端部可脫離地插置入該嵌掛塊的插槽中。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于該導(dǎo)熱單 元的導(dǎo)熱寺反為 一浪4反。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述真空設(shè)備的加熱裝置，其特征在于該盤曲形 發(fā)熱體為電熱管。
專利摘要一種真空設(shè)備的加熱裝置，直立設(shè)置于該真空設(shè)備的一腔體內(nèi)部，其包含一座基座、一個呈直立狀地設(shè)置于該基座的一表面上的支撐齒條架以及一面盤曲形發(fā)熱體。該盤曲形發(fā)熱體面對該基座的該表面，且可脫離地插掛定位于該支撐齒條架上本實(shí)用新型整體具有極佳加熱效率與維護(hù)便利性。
文檔編號C23C14/26GK201158700SQ20082000185
公開日2008年12月3日 申請日期2008年1月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月17日
發(fā)明者汪明義, 黃泳釗 申請人:北儒精密股份有限公司