專利名稱：X射線發(fā)生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及使電子束照射到靶上產(chǎn)生X射線的X射線發(fā)生裝置。
背景技術(shù)：
對(duì)被檢查物照射X射線，取得透過(guò)被檢查物的X射線的圖像，對(duì)被檢查物進(jìn)行檢查的檢查裝置一直以來(lái)已為眾知。作為這樣的檢查裝置的X射線源，可以用X射線發(fā)生裝置。X射線發(fā)生裝置對(duì)靶照射電子束，產(chǎn)生X射線。X射線的劑量通過(guò)電子束的加速電壓或電子束的電流值等的變化，或者靶的損傷或靶支持構(gòu)件的熱變形而發(fā)生變化。
如果照射到被檢查物的X射線劑量發(fā)生變化，則透過(guò)被檢查物的X射線的圖像發(fā)生變化。這種情況下，不能判別該變化起因于被檢查物的特性，或起因于照射的X射線的變化，因而不能高精度地對(duì)被檢查物進(jìn)行檢查。
為了解決該問(wèn)題，在特開(kāi)昭55-124997號(hào)公報(bào)上公開(kāi)了一種X射線發(fā)生裝置，其是通過(guò)半導(dǎo)體X射線檢測(cè)器監(jiān)視從X射線管的射出窗射出的X射線的劑量，通過(guò)反饋檢測(cè)器的輸出，使X射線劑量維持一定的X射線發(fā)生裝置。
近年來(lái)，通過(guò)X射線進(jìn)行電子部件等小型且高密度的被檢查物的檢查，與此相伴，希望得到放大率高的X射線圖像。然而，盡管特開(kāi)昭55-124997號(hào)的X射線發(fā)生裝置可以降低X射線的劑量的變化，但難以得到放大率高的X射線圖像。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決上述問(wèn)題而作的，其目的是提供可使X射線的劑量為一定，而且，可取得放大率高的X射線圖像的X射線發(fā)生裝置。
本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置設(shè)置有放出電子束的電子槍、以使來(lái)自電子槍的電子束入射的方式配置的X射線發(fā)生用的靶、根據(jù)電子束的入射，使從靶發(fā)生的X射線透過(guò)的第一射出窗、和接受來(lái)自靶的X射線并監(jiān)視該X射線狀態(tài)的X射線監(jiān)視器。X射線監(jiān)視器配置在從第一射出窗射出的X射線的路徑之外。
因?yàn)橥ㄟ^(guò)X射線監(jiān)視器實(shí)時(shí)地監(jiān)視X射線的狀態(tài)，所以可維持X射線狀態(tài)為一定。因?yàn)閄射線監(jiān)視器配置在從第一射出窗射出的X射線路徑之外，所以在從第一射出窗對(duì)被檢查物照射X射線之際，X射線監(jiān)視器難以妨礙第一射出窗和被檢查物之間的接近。因而，使被檢查物接近第一射出窗，從而可取得放大率高的X射線圖像。
第一射出窗具有來(lái)自靶的X射線射出的射出面。X射線監(jiān)視器配置成不比該射出面更突出。據(jù)此，可以容易地使第一射出窗和被檢查物接近。
X射線發(fā)生裝置也可以還設(shè)置有使從靶來(lái)的X射線透過(guò)的第二射出窗。第二射出窗配置在與從靶向第一射出窗的X射線路徑不同的X射線路徑上。X射線監(jiān)視器接受透過(guò)第二射出窗的X射線。因?yàn)閄射線監(jiān)視器接受與X射線監(jiān)視器接受透過(guò)框體的壁等障礙物的X射線的情況相比更高的強(qiáng)度的X射線，所以X射線的監(jiān)視精度高。
第二射出窗優(yōu)選配置成面向靶表面上的電子束入射的部分。由于從靶的電子束入射部及其近旁產(chǎn)生X射線強(qiáng)，所以從面向該部分的位置上設(shè)置的第二射出窗高效地入射X射線至X射線監(jiān)視器。據(jù)此，更加提高X射線監(jiān)視精度。
第二射出窗也可以是使電子槍端子貫通并保持的芯柱(stem)板。本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置例如可以用包含電子槍及靶的X射線管制造。在X射線管上，應(yīng)電連接電子槍和驅(qū)動(dòng)電子槍的器件，常常設(shè)置上述芯柱板。芯柱板也可以用容易透過(guò)X射線的材料，例如由絕緣性的陶瓷構(gòu)成。如果芯柱基板是使X射線透過(guò)的第二射出窗，則可以制造對(duì)設(shè)置芯柱基板的已有的X放射管不施以大改造的本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置。
在第二射出窗和X射線監(jiān)視器之間也可以設(shè)置可遮斷X射線的快門(shutter)。在沒(méi)有必要控制在X射線發(fā)生開(kāi)始后X射線狀態(tài)時(shí)，如果通過(guò)快門遮斷X射線，則可以防止X射線監(jiān)視器被X射線照射，可以延長(zhǎng)X射線監(jiān)視器的壽命。
X射線發(fā)生裝置也可以還具有設(shè)置電子槍、第一射出窗、靶、及X射線監(jiān)視器的框體。這時(shí)，可使X射線發(fā)生裝置構(gòu)造簡(jiǎn)略化，并且也使X射線發(fā)生裝置的設(shè)置容易。
在靶表面上電子束入射部分、電子槍、及X射線監(jiān)視器也可以收容在可抽成真空的外殼內(nèi)。這時(shí)使X射線監(jiān)視器的溫度、濕度等的管理變得容易。因此，可以進(jìn)一步提高X射線的監(jiān)視精度。X射線監(jiān)視器也可以設(shè)置在外殼內(nèi)，以便面向靶表面上的電子束入射部分。由于靶在電子束入射部分及其近旁發(fā)生的X射線強(qiáng)，所以從面向該部分的位置上設(shè)置的第二射出窗來(lái)的X射線高效入射到X射線監(jiān)視器。據(jù)此，可更加提高X射線的監(jiān)視精度。
X射線發(fā)生裝置也可以進(jìn)一步設(shè)置根據(jù)由X射線監(jiān)視器監(jiān)視的X射線狀態(tài)，將從靶發(fā)生的X射線狀態(tài)例如劑量控制為一定的X射線控制器。
從以下詳細(xì)說(shuō)明及附圖，可以更加充分理解本發(fā)明。附圖不過(guò)只是例示，因此不應(yīng)當(dāng)認(rèn)為附圖限定本發(fā)明。
本發(fā)明的適用范圍從以下詳細(xì)說(shuō)明一目了然。可是該詳細(xì)說(shuō)明及特定例示出本發(fā)明的合適的方式，然而不過(guò)只是例示。在本發(fā)明的要點(diǎn)和范圍內(nèi)的各種變形及變更，從該詳細(xì)說(shuō)明中本行業(yè)技術(shù)人員可以明了。


圖1是示出具有第一實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置的非破壞檢查系統(tǒng)的局部截面圖。
圖2是圖1所示的X射線裝置的俯視圖。
圖3是示出第二實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置的靶周邊的縱截面圖。
圖4是圖3的X射線裝置的俯視圖。
圖5是示出具有第三實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置的非破壞檢查系統(tǒng)的局部截面圖。
圖6是示出第四實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置靶周邊的縱截面圖。
圖7是第五實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置的局部截面圖。
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。在附圖的說(shuō)明中，同一元件附加同一符號(hào)，省略重復(fù)說(shuō)明。
第一實(shí)施方式圖1是示出包含本發(fā)明第一實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置的非破壞檢查系統(tǒng)的概略圖。該非破壞檢查系統(tǒng)80進(jìn)行被檢查物5的非破壞檢查。系統(tǒng)80具有移動(dòng)臺(tái)2、微聚焦型X射線發(fā)生裝置100及X射線攝像機(jī)1。移動(dòng)臺(tái)2可以沿水平方向移動(dòng)，其上載置多個(gè)被檢查物5。X射線發(fā)生裝置100設(shè)置在移動(dòng)臺(tái)2下方、使X射線照射到移動(dòng)臺(tái)2上。X射線攝像機(jī)1檢測(cè)透過(guò)移動(dòng)臺(tái)2及被檢查物5的X射線，取得X射線圖像。
X射線發(fā)生裝置100作為主要的構(gòu)成元件有X射線管10，X射線監(jiān)視器30以及電流電壓控制裝置40。X射線管10向上方發(fā)射從反射型靶27產(chǎn)生的X射線。X射線監(jiān)視器30測(cè)量由X射線管10發(fā)生的X射線劑量。電流電壓控制裝置40是X射線管10的驅(qū)動(dòng)器件，把預(yù)定電流及電壓供給X射線管10，產(chǎn)生X射線。
X射線管10的外廊由大體圓筒狀的真空外殼20構(gòu)成。真空外殼20向上下延伸的同時(shí)，密封為大體真空狀態(tài)。真空外殼20上部是由銅等金屬形成的外殼主體21。外殼主體21設(shè)置有收容反射型靶27的縱型圓筒狀的殼體21a。外殼主體21還包含對(duì)殼體21a正交那樣地連接的橫型圓筒狀電子槍收容筒21b。殼體21a和電子槍收容筒21b相互連通。
在電子槍收容筒21b內(nèi)位于殼體21a反對(duì)側(cè)的端部上設(shè)置陶瓷制芯柱板24。如后述所示，芯柱板24使從靶27發(fā)生的X射線透過(guò)。在電子槍收容筒21b內(nèi)設(shè)置向殼體21a的中心軸大體呈水平地射出電子束的電子槍23。電子槍23貫通芯柱板24，且為在芯柱板24上保持的芯柱板管銷25所支持。芯柱管銷25是供給電子槍23驅(qū)動(dòng)電力用的端子。芯柱管銷25與電子槍23內(nèi)的電極或燈絲等電連接的同時(shí)，與電流電壓控制裝置40電連接。電流電壓控制裝置40通過(guò)芯柱管銷25對(duì)電子槍23供給預(yù)定電流及電壓，驅(qū)動(dòng)電子槍23。
外殼20下部是通過(guò)玻璃或陶瓷等絕緣體形成的真空管22。真空管22具有與殼體21a同軸的大體圓筒狀，與殼體21a連接。從真空管22下端開(kāi)始沿真空管22的中心軸把大體圓柱狀的導(dǎo)電性靶支持體26插入真空管22。靶支持體26延伸直到殼體21a上端附近為止。
在靶支持體26的上端部，從電子槍23來(lái)的電子束入射的部分及其周邊成為向電子槍23向下傾斜的斜面。該斜面上設(shè)置鎢等反射型靶27。
靶27經(jīng)靶支持體26與電流電壓控制裝置40電連接。從控制裝置40在靶27上加上對(duì)電子槍23相對(duì)正的預(yù)定電壓。
在殼體21a的上壁上，面對(duì)靶27的部分上設(shè)置第一射出窗31。從靶27發(fā)生的X射線透過(guò)第一射出窗31后向真空外殼20外朝上方射出。在以下，把射出X射線的第一射出窗31的上面稱為X射線射出面31a。
X射線發(fā)生裝置100，如圖1及圖2所示，具有監(jiān)視從靶27產(chǎn)生的X射線劑量的X射線監(jiān)視器30。X射線監(jiān)視器30設(shè)置在真空外殼20外部；與芯柱板24對(duì)置。如圖1所示，X射線監(jiān)視器30配置在從第一射出窗3 1射出的X射線路徑之外，并配置為不比X射線射出面更突出。X射線監(jiān)視器30的上面位于比X射線射出面31a還下方，即位于X射線射出面31a的靶27側(cè)。X射線監(jiān)視器30檢測(cè)從靶27來(lái)的、透過(guò)芯柱板24的X射線，實(shí)時(shí)測(cè)量該X射線的劑量。
X射線發(fā)生裝置100還包含X射線劑量控制裝置41。X射線劑量控制裝置41是控制X射線狀態(tài)的器件。X射線劑量控制裝置41控制電流電壓控制裝置40，以使從靶27產(chǎn)生的X射線劑量維持一定。如果更具體地講，控制裝置41根據(jù)由X射線監(jiān)視器30取得的X射線劑量，電流電壓控制裝置40控制在靶27及電子槍23上施加的電壓及電流的設(shè)定值，以便使X射線劑量維持一定。
X射線管10，電流電壓控制裝置40，X射線劑量控制裝置41及X射線監(jiān)視器30使X射線發(fā)生裝置100的構(gòu)造簡(jiǎn)略化，降低設(shè)置成本，全部設(shè)置于框體4內(nèi)。
以下，說(shuō)明非破壞檢查系統(tǒng)80及X射線發(fā)生裝置100的作用及優(yōu)點(diǎn)。
如果通過(guò)電流電壓檢測(cè)裝置40在X射線管10的電子槍23及靶27上施加上預(yù)定的電流及電壓，則從電子槍23射出電子束，電子束入射到靶27上產(chǎn)生X射線。另一方面，在臺(tái)2上載置所希望的被檢查物5，移動(dòng)臺(tái)2，以便使被檢查物5與第一射出窗31對(duì)置。
從靶27產(chǎn)生的X射線沿著使電子束的行進(jìn)方向大體轉(zhuǎn)動(dòng)90°的方向，透過(guò)第一射出窗31，其后，透過(guò)移動(dòng)臺(tái)2及被檢查物5。透過(guò)的X射線被X射線攝像機(jī)1所檢測(cè)，得到X射線圖像。通過(guò)目視該X射線圖像，或者通過(guò)對(duì)X射線圖像施以2值化處理等圖像處理，對(duì)被檢查物5進(jìn)行非破壞檢查。
在本實(shí)施方式中，通過(guò)X射線監(jiān)視器30對(duì)從靶27產(chǎn)生的X射線劑量進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)視。X射線劑量控制裝置41根據(jù)通過(guò)監(jiān)視器30監(jiān)視的劑量，控制電壓控制裝置40，以便將來(lái)自靶27的X射線劑量維持一定。其結(jié)果，即使因靶27的發(fā)熱產(chǎn)生靶支持體26的熱膨脹、因電子束照射產(chǎn)生靶27表面損傷、或因電流或電壓非預(yù)期變化等從靶27產(chǎn)生的X射線劑量發(fā)生變化，該變化也能立即被反饋補(bǔ)償。據(jù)此，使從第一射出窗31照射到被檢查物5的X射線劑量一定。據(jù)此，大體維持由X射線攝像機(jī)1取得的X射線圖像的背景一定。因而，可以更加合適地實(shí)施根據(jù)該X射線圖像的目視檢查。此外，在對(duì)該X射線圖像進(jìn)行圖像處理，實(shí)施檢查的情況下，容易設(shè)定最合適的閥值等。即使在任何一種情況下也可以合適地進(jìn)行使用X射線圖像的非破壞檢查。
因?yàn)閄射線監(jiān)視器30配置成不比X射線射出面31a更突出，所以X射線監(jiān)視器30不妨礙與X射線射出面31a對(duì)置的移動(dòng)臺(tái)2及被檢查物5與X射線射出面31a接近。因此，可以配置成使移動(dòng)臺(tái)2及被檢查物5與X射線射出面31a接近。因而，通過(guò)X射線攝像機(jī)1可取得高放大率的X射線圖像。這對(duì)電子部件等小型且高密度的被檢查物的非破壞檢查尤為有益。
在本實(shí)施方式中，使用所謂的反射型X射線管10。反射型X射線管10通常具有保持用于從外部供給X射線管10內(nèi)電子槍23電源的芯柱管銷25的芯柱板24。如圖1所示，芯柱板24配置在與從靶27向第一射出窗31的X射線路徑不同的X射線路徑上。在本實(shí)施方式，利用芯柱板24作為使監(jiān)視用X射線透過(guò)的第二射出窗。其結(jié)果，X射線監(jiān)視器30可以在比通過(guò)框體4的壁等障礙物接受從靶27來(lái)的X射線的情況高的強(qiáng)度下檢測(cè)。據(jù)此，提高了X射線的監(jiān)視精度。對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的X射線管不加以改造，也可以制造本實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置100。
第二實(shí)施方式以下參照?qǐng)D3及圖4，說(shuō)明第二實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置200。X射線發(fā)生裝置200具有X射線管11以取代X射線管10，這一點(diǎn)與第一實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置100不同。X射線管11具有使從反射型靶27產(chǎn)生的X射線向外部射出的第二射出窗。據(jù)此，X射線監(jiān)視器30不與芯柱板24對(duì)置，而與第二射出窗50對(duì)置。
第二射出窗50由Be等X射線透過(guò)率高的物質(zhì)構(gòu)成，安入真空外殼20的殼體21a的側(cè)壁上。在這里，第二射出窗50的位置沒(méi)有特別的限定，然而優(yōu)選應(yīng)當(dāng)射出足夠強(qiáng)度的X射線，設(shè)置在面向靶27的表面內(nèi)電子束入射的部分的位置上。
在圖4中具體示出第二射出窗50及X射線監(jiān)視器30的優(yōu)選位置。在從上看X射線管11的情況下，X射線監(jiān)視器30優(yōu)選配置在連接靶27和電子槍23的直線61和連接靶27和X射線監(jiān)視器30的直線62之間的夾角為±90°范圍的位置上。直線62位于離直線61的±90°以內(nèi)時(shí)，第二射出窗50優(yōu)選配置在通過(guò)該直線62的位置上。
在X射線發(fā)生裝置200中，從靶27產(chǎn)生的X射線以與在第一實(shí)施方式中從芯柱板24射出的X射線同等以上的強(qiáng)度通過(guò)第二射出窗50，入射到X射線監(jiān)視器30。因而，在本實(shí)施方式中，X射線監(jiān)視器30可以在高精度下監(jiān)視X射線的狀態(tài)。
第三實(shí)施方式其次，參照?qǐng)D5，說(shuō)明第三實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置300。X射線發(fā)生裝置300具有透過(guò)型X射線管12以取代反射型X射線管11，這一點(diǎn)與第二實(shí)施方式不同。X射線管12具有大體水平地安入殼體21a的上壁上的透過(guò)型靶60，以取代X射線管11的反射型靶27以及第一射出窗31。透過(guò)型靶60兼作第二實(shí)施方式中的靶27及第一射出窗31。靶60的上面是X射線射出面60a，下面是電子束入射面60b。
據(jù)此，電子槍23在殼體21a內(nèi)位于靶60的下方，設(shè)置成向電子束入射面60b朝上方放出電子束。第二射出窗50設(shè)置在殼體21a的側(cè)壁上，以便面向電子束入射面60b。
在X射線發(fā)生裝置300中，從電子槍23射出的電子束入射到靶60的電子束入射面60b。從靶60產(chǎn)生的X射線從X射線射出面60a射出。此外，從靶60產(chǎn)生的X射線一部分透過(guò)第二射出窗50，入射到X射線監(jiān)視器30。據(jù)此，檢測(cè)X射線劑量。因而，具有透過(guò)型X射線管12的X射線發(fā)生裝置300具有與第二實(shí)施方式同樣的優(yōu)點(diǎn)。
第四實(shí)施方式其次，參照?qǐng)D6，說(shuō)明第四實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置400。X射線發(fā)生裝置400在第二射出窗50和X射線監(jiān)視器30之間設(shè)置有快門70。這一點(diǎn)與第二實(shí)施方式及第三實(shí)施方式不同。靶70可以根據(jù)需要遮斷從第二射出窗50射出的X射線。
在X射線產(chǎn)生開(kāi)始之后，如果在不必要控制X射線劑量時(shí)關(guān)閉快門70，則X射線被遮斷，不入射到X射線監(jiān)視器30。據(jù)此，防止X射線監(jiān)視器30被照射，可以延長(zhǎng)X射線監(jiān)視器30的壽命。
第五實(shí)施方式其次，參照?qǐng)D7，說(shuō)明第五實(shí)施方式的X射線發(fā)生裝置500。X射線發(fā)生裝置500具有開(kāi)放外殼101取代在真空狀態(tài)下密封的真空外殼20，這一點(diǎn)與第三及第四實(shí)施方式不同。開(kāi)放外殼101收容透過(guò)型靶60的電子束入射面60b。開(kāi)放外殼101根據(jù)需要可以使內(nèi)部抽成真空狀態(tài)，或作成在大氣壓下開(kāi)放。開(kāi)放外殼101是例如不銹鋼制的。
據(jù)此，X射線發(fā)生裝置500具有排氣泵102及線圈103。排氣泵102進(jìn)行排氣，使X射線照射時(shí)開(kāi)放外殼101內(nèi)保持真空狀態(tài)。線圈103環(huán)狀地包圍從電子槍23向靶60的電子束通路。據(jù)此，調(diào)節(jié)電子束的焦點(diǎn)。在這樣的、所謂的開(kāi)放型X射線發(fā)生裝置上可以更換裝置內(nèi)部的電子槍23及透過(guò)型靶60。
X射線發(fā)生裝置500在X射線監(jiān)視器30被收容在外殼101內(nèi)這一點(diǎn)也與第三及第四實(shí)施方式不同。在本實(shí)施方式中，優(yōu)選X射線監(jiān)視器30設(shè)置在面向透過(guò)型靶60的電子束入射面60b的位置上。
X射線發(fā)生裝置500具有與上述實(shí)施方式同樣的優(yōu)點(diǎn)。此外，在X射線發(fā)生裝置500上，X射線監(jiān)視器30被收容于開(kāi)放外殼101內(nèi)，在X射線照射時(shí)X射線監(jiān)視器30被曝露在真空環(huán)境環(huán)境內(nèi)。因此使管理X射線監(jiān)視器的溫度、濕度等變得容易，進(jìn)一步提高了X射線監(jiān)視器監(jiān)視X射線狀態(tài)的精度。
本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置不限于上述實(shí)施方式，采取各種變形狀態(tài)是可能的。
在上述實(shí)施方式中，X射線劑量控制裝置41控制電流電壓控制裝置40的輸出電流及輸出電壓，以維持X射線劑量一定?？墒?，例如在X射線劑量的降低超過(guò)某種程度狀況下，判斷為靶的壽命到來(lái)，使電子束偏向，電子束照射靶的別的部分，使X射線劑量恢復(fù)，維持劑量一定地加以控制。此外，也可以自動(dòng)地更換靶。
在上述實(shí)施方式中，X射線監(jiān)視器30根據(jù)X射線劑量監(jiān)視X射線的狀態(tài)。但也可以監(jiān)視X射線其它特性。例如，也可以在采用包含產(chǎn)生多種波長(zhǎng)X射線的多種素材的復(fù)合靶的情況下，監(jiān)視X射線的波長(zhǎng)。
在第一實(shí)施方式中，芯柱板24是陶瓷制的?？墒?，芯柱板24也可以由容易透過(guò)X射線的絕緣性材料構(gòu)成。作為這樣的材料一例，可以列舉玻璃。
在第二～第四實(shí)施方式中，使靶27或60產(chǎn)生的X射線向X射線監(jiān)視器30合適地射出，面向靶27或60表面上電子束入射部分的位置上設(shè)置第二射出窗50?？墒牵趶姆瓷湫桶?7產(chǎn)生的X射線足夠強(qiáng)的情況下，也可以在其它位置上設(shè)置第二射出窗50。
在第一～第四實(shí)施方式中，在X射線管10、11及12大的情況下，也可以在真空外殼20內(nèi)設(shè)置X射線監(jiān)視器30。在這種情況下，與第5實(shí)施方式同樣地，優(yōu)選面向靶的電子束入射面地設(shè)置X射線監(jiān)視器30。此外，在第五實(shí)施方式中，在開(kāi)放外殼101的外部配置X射線監(jiān)視器30，通過(guò)在開(kāi)放外殼101上設(shè)置的第二射出窗，X射線監(jiān)視器30也可以接受X射線。
在第一～第四實(shí)施方式中，應(yīng)當(dāng)高精度監(jiān)視X射線，設(shè)置使X射線射出的第二射出窗50或芯栓板24，或者在開(kāi)放外殼101內(nèi)設(shè)置X射線監(jiān)視器30。但是，在從靶產(chǎn)生的X射線強(qiáng)的情況下，也可以由在外殼外部上設(shè)置的X射線監(jiān)視器30來(lái)監(jiān)視不經(jīng)窗即透過(guò)外殼、進(jìn)行反射的X射線的狀態(tài)。
在上述實(shí)施方式中，對(duì)透過(guò)被檢查物5的X射線圖像進(jìn)行攝影。但是也可以通過(guò)CT對(duì)斷層圖像進(jìn)行攝影。這種情況下，因?yàn)楦鶕?jù)由放大率高、且穩(wěn)定的X射線得到的X射線圖像可以進(jìn)行演算，所以能提高斷層攝影的精度。
工業(yè)上利用的可能性如上述所示，本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置，可以通過(guò)X射線監(jiān)視器實(shí)時(shí)監(jiān)視從靶產(chǎn)生的X射線狀態(tài)。根據(jù)通過(guò)X射線監(jiān)視器取得的X射線的狀態(tài)，控制在電子槍及靶上所加的電流及電壓，或通過(guò)移動(dòng)靶的電子束入射位置等，可使靶所產(chǎn)生的X射線的狀態(tài)維持一定。據(jù)此，可以從第一射出窗發(fā)出穩(wěn)定的X射線。
X射線監(jiān)視器配置在從靶來(lái)的X射線入射至第一射出窗的路徑之外。因此，在從第一射出窗向被檢查物照射X射線之際，X射線監(jiān)視器難以成為妨礙第一射出窗和被檢查物接近的障礙物。因而，可使第一射出窗和被檢查物接近，其結(jié)果可以得到放大率大的X射線圖像。
因而，本發(fā)明提供可使X射線劑量一定，而且可取得放大率高的X射線圖像的X射線發(fā)生裝置。
權(quán)利要求
1.一種X射線發(fā)生裝置，其特征在于，具有放出電子束的電子槍；X射線產(chǎn)生用靶，配置使來(lái)自所述電子槍的電子束入射；根據(jù)所述電子束入射，使從所述靶產(chǎn)生的X射線透過(guò)的第一透出窗；和接受來(lái)自所述靶的X射線，監(jiān)視該X射線的狀態(tài)的X射線監(jiān)視器，所述X射線監(jiān)視器配置在從所述第一射出窗射出的X射線路徑之外。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，所述第一射出窗具有來(lái)自所述靶的X射線射出的射出面，所述X射線監(jiān)視器配置成不比所述射出面更突出。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的X射線發(fā)生裝置，還設(shè)置有使來(lái)自所述靶的X射線透過(guò)的第二射出窗，其特征在于，所述第二射出窗配置在與從所述靶向所述第一射出窗的X射線路徑不同的X射線路徑上，所述X射線監(jiān)視器接受透過(guò)所述第二射出窗的X射線。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，所述第二射出窗配置成面向所述靶的表面上所述電子束入射的部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，所述第二射出窗是使所述電子槍的端子貫通并保持的芯柱板。
6.根據(jù)權(quán)利要求3～5中任一項(xiàng)所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，在所述第二射出窗和所述X射線監(jiān)視器之間，還設(shè)置有可遮斷X射線的快門。
7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，還具有設(shè)置有X射線監(jiān)視器、所述電子槍、所述第一射出窗、及所述靶的框體。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，所述靶的表面上所述電子束入射的部分、所述電子槍、及所述X射監(jiān)視器收容在可抽成真空的外殼內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，所述X射線監(jiān)視器以面向所述靶的表面上電子束入射的部分的方式設(shè)置在所述外殼內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1～9中任一項(xiàng)所述的X射線發(fā)生裝置，其特征在于，還設(shè)置有X射線狀態(tài)控制器，該X射線狀態(tài)控制器根據(jù)通過(guò)所述X射線監(jiān)視器監(jiān)視的所述X射線的狀態(tài)，將從所述靶產(chǎn)生的X射線的狀態(tài)控制為一定。
全文摘要
本發(fā)明的X射線發(fā)生裝置設(shè)置有監(jiān)視從靶發(fā)生的X射線狀態(tài)的X射線監(jiān)視器。因此，可實(shí)時(shí)地監(jiān)視X射線的狀態(tài)，將X射線狀態(tài)維持一定。X射線監(jiān)視器配置在從第一射出窗射出的X射線路徑外。因而在從第一射出窗向被檢查物照射X射線之際，X射線監(jiān)視器不妨礙第一射出窗和被檢查物之間接近。據(jù)此可取得放大率高的X射線圖像。
文檔編號(hào)H01J35/00GK1653864SQ0381050
公開(kāi)日2005年8月10日 申請(qǐng)日期2003年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2002年5月9日
發(fā)明者稻鶴務(wù) 申請(qǐng)人:浜松光子學(xué)株式會(huì)社