br>[0051]圖5b為實(shí)施例四中形成第一絕緣層的示意圖；
[0052]圖5c為實(shí)施例五中形成第一電極圖形的示意圖；
[0053]圖5d為實(shí)施例五中形成第二金屬層的示意圖；
[0054]圖5e為實(shí)施例五中形成第二絕緣層的示意圖；
[0055]圖5f為實(shí)施例五中形成過(guò)孔的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0056]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的顯示基板及其制造方法和顯示裝置進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0057]圖2為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種顯示基板的結(jié)構(gòu)示意圖，如圖2所示，該顯示基板包括:襯底基板11和形成于襯底基板11上方的第一金屬層12、第二金屬層13、第一電極圖形14、第二電極圖形15、第一絕緣層16和第二絕緣層17，第一絕緣層16位于第一金屬層12之上，第二絕緣層17位于第一絕緣層16的上方，第一電極圖形14和第二金屬層13位于第一絕緣層16和第二絕緣層17之間。第一絕緣層16和第二絕緣層17對(duì)應(yīng)于第一金屬層12正上方的位置設(shè)置有過(guò)孔18，第一電極圖形14的一端與第二金屬層13連接，第一電極圖形14的另一端延伸至過(guò)孔18內(nèi)，第二電極圖形15位于過(guò)孔18內(nèi)且與第一電極圖形14連接，第二電極圖形15還與第一金屬層12連接。
[0058]本實(shí)施例中，第一電極圖形14分別與第二電極圖形15和第二金屬層13連接，且第二電極圖形15與第一金屬層12連接，從而實(shí)現(xiàn)了第一金屬層12和第二金屬層13連接。
[0059]本實(shí)施例中，過(guò)孔18包括設(shè)置于第一絕緣層16上的第一子過(guò)孔181和設(shè)置于第二絕緣層17上的第二子過(guò)孔182，第一子過(guò)孔181和第二子過(guò)孔182連通且第二子過(guò)孔182的寬度大于第一子過(guò)孔181的寬度。位于過(guò)孔18中的第一電極圖形14位于第二子過(guò)孔182中且位于第一絕緣層16之上。位于過(guò)孔18中的第二電極圖形15的一端位于第一子過(guò)孔181中，位于過(guò)孔18中的第二電極圖形15的另一端位于第二子過(guò)孔182中且位于第一電極圖形14之上。需要說(shuō)明的是:圖2的過(guò)孔18中的虛線是為了分隔第一子過(guò)孔181和第二子過(guò)孔182。
[0060]優(yōu)選地，過(guò)孔18靠近第二金屬層13的一側(cè)為臺(tái)階狀。采用臺(tái)階狀的過(guò)孔，避免了采用直接隧穿第一絕緣層和第二絕緣層的深刻孔(即深度較大的過(guò)孔)，從而避免了由于深刻孔的深度過(guò)大而導(dǎo)致的后續(xù)工藝中的各種不良，例如:避免了配向膜工藝中配向膜擴(kuò)散不均形成mura，并且有效預(yù)防了電極層倒角的出現(xiàn)，避免發(fā)生斷路的現(xiàn)象。
[0061]本實(shí)施例中，第二金屬層13位于第一電極圖形14之下。具體地，第二金屬層13位于第一絕緣層16的上方，第一電極圖形14部分位于第二金屬層13之上且部分位于第一絕緣層16之上。
[0062]本實(shí)施例中，第一金屬層12為柵極金屬層，第二金屬層13為源漏金屬層?？蛇x地，在實(shí)際應(yīng)用中，第一金屬層12還可以為源漏金屬層，第二金屬層13還可以為柵金屬層，此種情況不再具體畫(huà)出。
[0063]進(jìn)一步地，該顯示基板還可以包括有源層21。有源層21位于第二金屬層13之下，且位于第一絕緣層16之上。
[0064]本實(shí)施例中，第一電極圖形14位于第一電極層中，第一電極層包括作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)和用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)，其中，作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)為第一電極圖形14，圖2中僅畫(huà)出了第一電極圖形14，用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)未具體畫(huà)出。
[0065]本實(shí)施例中，第二電極圖形15位于第二電極層中，第二電極層包括作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)和用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)，其中，作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)為第二電極圖形15，圖2中僅畫(huà)出了第二電極圖形15，用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)未具體畫(huà)出。
[0066]本實(shí)施例中，第一電極圖形14和第二電極圖形15的材料可以為透明導(dǎo)電材料，例如:ITOo
[0067]本實(shí)施例提供的顯示基板中，第一絕緣層和第二絕緣層對(duì)應(yīng)第一金屬層正上方的位置設(shè)置有過(guò)孔，第一電極圖形的一端延伸至過(guò)孔內(nèi)，第一電極圖形的另一端與第二金屬層連接，第二電極圖形位于過(guò)孔內(nèi)且與第一電極圖形連接，第二電極圖形還與第一金屬層連接，以實(shí)現(xiàn)第一金屬層和第二金屬層的連接，本實(shí)施例采用一個(gè)過(guò)孔對(duì)不同的金屬層進(jìn)行連接，降低了過(guò)孔的分布密度，從而降低了后續(xù)工藝中產(chǎn)生各種不良現(xiàn)象的機(jī)率。本實(shí)施例中僅采用一個(gè)過(guò)孔對(duì)不同的金屬層進(jìn)行連接且作為連接介質(zhì)的第二電極圖形位于過(guò)孔中，使得第二電極圖形無(wú)需位于過(guò)孔周?chē)呐_(tái)階處和拐角處，避免了由過(guò)孔周?chē)呐_(tái)階處和拐角處引起的第二電極圖形發(fā)生腐蝕的現(xiàn)象，從而避免了第二電極圖形發(fā)生劣化斷路、線不良和異常顯示等問(wèn)題。因此，本實(shí)施例在信賴性實(shí)驗(yàn)和良率方面均有較高的效果。
[0068]圖3為本發(fā)明實(shí)施例一■提供的一種顯不基板的結(jié)構(gòu)不意圖，如圖3所不，該顯不基板包括:襯底基板11和形成于襯底基板11上方的第一金屬層12、第二金屬層13、第一電極圖形14、第二電極圖形15、第一絕緣層16和第二絕緣層17，第一絕緣層16位于第一金屬層12之上，第二絕緣層17位于第一絕緣層16的上方，第一電極圖形14和第二金屬層13位于第一絕緣層16和第二絕緣層17之間。第一絕緣層16和第二絕緣層17對(duì)應(yīng)于第一金屬層12正上方的位置設(shè)置有過(guò)孔18，第一電極圖形14的一端延伸至過(guò)孔18內(nèi)，第一電極圖形14的另一端與第二金屬層13連接，第二電極圖形15位于過(guò)孔18內(nèi)且與第一電極圖形14連接，第二電極圖形15還與第一金屬層12連接。
[0069]本實(shí)施例中，第一電極圖形14分別與第二電極圖形15和第二金屬層13連接，且第二電極圖形15與第一金屬層12連接，從而實(shí)現(xiàn)了第一金屬層12和第二金屬層13連接。
[0070]本實(shí)施例中，過(guò)孔18包括設(shè)置于第一絕緣層16上的第一子過(guò)孔181和設(shè)置于第二絕緣層17上的第二子過(guò)孔182，第一子過(guò)孔181和第二子過(guò)孔182連通且第二子過(guò)孔182的寬度大于第一子過(guò)孔181的寬度。位于過(guò)孔18中的第一電極圖形14位于第二子過(guò)孔182中且位于第一絕緣層16之上。位于過(guò)孔18中的第二電極圖形15的一端位于第一子過(guò)孔181中，位于過(guò)孔18中的第二電極圖形15的另一端位于第二子過(guò)孔182中且位于第一電極圖形14之上。需要說(shuō)明的是:圖2的過(guò)孔18中的虛線是為了分隔第一子過(guò)孔181和第二子過(guò)孔182。
[0071]優(yōu)選地，過(guò)孔18靠近第二金屬層13的一側(cè)為臺(tái)階狀。采用臺(tái)階狀的過(guò)孔，避免了采用直接隧穿第一絕緣層和第二絕緣層的深刻孔，(即深度較大的過(guò)孔)，從而避免了由于深刻孔的深度過(guò)大而導(dǎo)致的后續(xù)工藝中的各種不良，例如:避免了配向膜工藝中配向膜擴(kuò)散不均形成mura，并且從而有效預(yù)防了電極層倒角的出現(xiàn)，避免發(fā)生斷路的現(xiàn)象。
[0072]本實(shí)施例中，第二金屬層13位于第一電極圖形14之上。具體地，第一電極圖形14位于第一絕緣層16之上，第二絕緣層17位于第二金屬層13之上。
[0073]本實(shí)施例中，第一金屬層12為柵極金屬層，第二金屬層13為源漏金屬層?？蛇x地，在實(shí)際應(yīng)用中，第一金屬層12還可以為源漏金屬層，第二金屬層13還可以為柵金屬層，此種情況不再具體畫(huà)出。
[0074]進(jìn)一步地，該顯示基板還可以包括有源層。有源層位于位于第一絕緣層16之上，且位于第一電極圖形14之下。
[0075]本實(shí)施例中，第一電極圖形14位于第一電極層中，第一電極層包括作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)和用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)，其中，作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)為第一電極圖形14，圖3中僅畫(huà)出了第一電極圖形14，用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)未具體畫(huà)出。
[0076]本實(shí)施例中，第二電極圖形15位于第二電極層中，第二電極層包括作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)和用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)，其中，作為連接介質(zhì)的結(jié)構(gòu)為第二電極圖形15，圖3中僅畫(huà)出了第二電極圖形15，用于產(chǎn)生電場(chǎng)的結(jié)構(gòu)未具體畫(huà)出。
[0077]本實(shí)施例中，第一電極圖形14和第二電極圖形15的材料可以為透明導(dǎo)電材料，例如:ITOo
[0078]本實(shí)施例提供的顯示基板中，第一絕緣層和第二絕緣層對(duì)應(yīng)第一金屬層正上方的位置設(shè)置有過(guò)孔，第一電極圖形的一端與第二金屬層連接，第一電極圖形的另一端延伸至過(guò)孔內(nèi)，第二電極圖形位于過(guò)孔內(nèi)且與第一電極圖形連接，第二電極圖形還與第一金屬層連接，以實(shí)現(xiàn)第一金屬層和第二金屬層的連接，本實(shí)施例采用一個(gè)過(guò)孔對(duì)不同的金屬層進(jìn)行連接，降低了過(guò)孔的分布密度，從而降低了后續(xù)工藝中產(chǎn)生各種不良現(xiàn)象的機(jī)率。本實(shí)施例中僅采用一個(gè)多孔對(duì)不同的金屬層進(jìn)行連接且作為連接介質(zhì)的第二