專利名稱：用于掩膜板的防塵保護裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于掩膜板的防塵保護裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體集成電路制造工藝中，光刻工藝是其中最為重要的步驟之一。光刻工藝的過程是經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光刻膠層上。經(jīng)過顯影工藝去除或保留曝光圖案部位的光刻膠，以達到將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形在晶片表面或介質(zhì)層上精確成型的目的。光刻工藝的好壞將直接影響半導(dǎo)體器件的特征尺寸和產(chǎn)品品質(zhì)，其中，掩膜板是光刻復(fù)制圖形的基準和藍本，掩膜板上的任何缺陷都會對最終圖形精度產(chǎn)生嚴重的影響。如圖I所示，圖I為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，所述掩·膜板115具有圖案區(qū)域，用于掩膜板115的防塵保護裝置包括框架113和保護薄膜111，所述保護薄膜111被緊繃在所述框架113上，所述保護薄膜111需光學(xué)透明且結(jié)實，通常采用硝化纖維或者醋酸纖維素制成。所述框架113環(huán)繞掩膜板邊沿，所述保護薄膜111和所述框架113限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，以將所述圖案區(qū)域密封，保護掩膜板115上的圖案區(qū)域不受塵?；蚱渌问降奈廴?，并且沾在保護薄膜111上的污染物與圖案區(qū)域表面保持足夠遠的距離，在成像時，污染物的像平面不落在晶片表面上，減小污染物對生產(chǎn)的影響。然而，在實際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于保護薄膜111被緊繃在所述框架113上，在保護薄膜面上有張力的存在，對框架113產(chǎn)生作用力，并傳遞到掩膜板115上，掩膜板115會因此產(chǎn)生微小形變，導(dǎo)致圖案區(qū)域偏離預(yù)定的位置，最終影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，以解決保護薄膜產(chǎn)生的張力使掩膜板產(chǎn)生形變影響影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果的問題。為解決上述問題，本實用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框，其中至少一個邊框開設(shè)有至少一個凹槽?？蛇x的，所述邊框沿其長度方向開設(shè)有一個凹槽?？蛇x的，所述凹槽位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上或遠離所述圖案區(qū)域的側(cè)面上。可選的，所述邊框沿其長度方向開設(shè)有多個凹槽?？蛇x的，所述凹槽數(shù)目為兩個?？蛇x的，所述兩個凹槽分別對稱的位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上和遠離所述圖案區(qū)域的側(cè)面上。可選的，所述凹槽分別位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上和所述遠離圖案區(qū)域的側(cè)面上，其中一個凹槽在另一凹槽上方?？蛇x的，所述凹槽形狀為長方體?？蛇x的，所述凹槽形狀為半圓柱體?？蛇x的，其特征在于，所述邊框的材質(zhì)為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。可選的，所述邊框的材質(zhì)為鋁合金。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供的用于掩膜板的防塵保護裝置，由于其中至少一個邊框開設(shè)有至少一個凹槽。該邊框易產(chǎn)生形變吸收部分保護薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，從而減小或消除掩膜板的形變，提高曝光效果。

圖I為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護裝置剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型實施例一的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖；圖3為本實用新型實施例二的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖；圖4為本實用新型實施例三的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖。
具體實施方式
本實用新型的核心思想在于，提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框,其中至少一個邊框開設(shè)有至少一個凹槽。由于這樣的框架結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生形變，能夠吸收所述保護薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，防止掩膜板形變對復(fù)制到晶片上的圖案的效果產(chǎn)生影響。
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型提出的用于掩膜板的防塵保護裝置作進一步詳細說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實用新型的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。實施例一參考附圖2，圖2為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述掩膜板215具有圖案區(qū)域(未圖示)，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜211以及用于固定所述保護薄膜211的框架，所述保護薄膜211和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框213，其中至少一個邊框213開設(shè)有至少一個凹槽216。本實施例中，凹槽216選擇開在邊框213遠離圖案區(qū)域的側(cè)面上，凹槽216形狀優(yōu)選為半圓柱體。本實用新型并不限定凹槽216的位置和形狀，也可選擇將凹槽216開在邊框213靠近圖案區(qū)域的側(cè)面上，凹槽216形狀選擇為長方體或其他形狀。此種邊框結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生形變，從而吸收部分保護薄膜211的張力，能減小張力對所述掩膜板215的影響。所述邊框213與所述掩膜板215由粘合劑粘合連接，所述保護薄膜211與所述邊框213也由粘合劑粘合連接。所述邊框213材質(zhì)可為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。優(yōu)選為鋁合金材質(zhì)，其質(zhì)輕，有足夠的強度，并且彈性好。所述邊框213高度H為5mnT6. 5mm,以滿足在曝光機臺以及檢測機臺內(nèi)高度需求。實施例二參考附圖3，圖3為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜411以及用于固定所述保護薄膜411的框架，所述保護薄膜411和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框413，其中至少一個邊框413在其長度方向上開 有多個凹槽。本實施例中凹槽數(shù)目選為兩個，分別為第一凹槽417和第二凹槽416，第一凹槽417位于邊框413靠近圖案區(qū)域的側(cè)面上，第二凹槽416位于邊框413遠離圖案區(qū)域的側(cè)面上，第一凹槽417與第二凹槽416對稱分布。相比實施例一，本實施例的框架形狀形變性能更佳，因此能吸收更多保護薄膜的張力，從而能進一步減小張力對所述掩膜板的影響。實施例三參考附圖4，圖4為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜311以及用于固定所述保護薄膜311的框架，所述保護薄膜311和所述框架限定的空間覆蓋掩模版315的圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框313，其中至少一個邊框313在其長度方向開有多個凹槽。本實施例中凹槽數(shù)目選為兩個，分別為第一凹槽317和第二凹槽316，第一凹槽317位于邊框313靠近圖案區(qū)域的側(cè)面上，第二凹槽316位于邊框313遠離圖案區(qū)域的側(cè)面上，第二凹槽316在第一凹槽317的上方。其中邊框313可以由兩層凹槽開口不同向的結(jié)構(gòu)粘合而成，也可是一體成型的。相比于實施例二，本實施例邊框有著更好的形變性能，能吸收更多保護薄膜的張力。綜上所述，本實用新型提供了一種用于掩膜板的防塵保護裝置，該防塵保護裝置的邊框在開有至少一個凹槽。因而有更好的柔韌性，易產(chǎn)生形變吸收部分保護薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，減小或消除掩膜板的形變對復(fù)制到晶片上的圖案的效果的影響，達到提升曝光效果提升產(chǎn)品良率的目的。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，其特征在于，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框，其中至少一個邊框開設(shè)有至少一個凹槽。
2.如權(quán)利要求I所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框沿其長度方向開設(shè)有一個凹槽。
3.如權(quán)利要求2所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述凹槽位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上或遠離所述圖案區(qū)域的側(cè)面上。
4.如權(quán)利要求I所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框沿其長度方向開設(shè)有多個凹槽。
5.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述凹槽數(shù)目為兩個。
6.如權(quán)利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述兩個凹槽分別對稱的位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上和遠離所述圖案區(qū)域的側(cè)面上。
7.如權(quán)利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述凹槽分別位于所述邊框靠近所述圖案區(qū)域的側(cè)面上和所述遠離圖案區(qū)域的側(cè)面上，其中一個凹槽在另一凹槽上方。
8.如權(quán)利要求I至7中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述凹槽形狀為長方體。
9.如權(quán)利要求I至7中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述凹槽形狀為半圓柱體。
10.如權(quán)利要求I至7中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的材質(zhì)為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。
11.如權(quán)利要求10所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的材質(zhì)為招合金。
專利摘要本實用新型揭露了一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的長條狀邊框，其中至少一個邊框開設(shè)有至少一個凹槽。使用本實用新型所提供的防塵保護裝置，其框架結(jié)構(gòu)更易吸收所述保護薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，提升產(chǎn)品良率。
文檔編號G03F1/64GK202794839SQ20122052065
公開日2013年3月13日 申請日期2012年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月11日
發(fā)明者覃柳莎, 張力群 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司