專利名稱：用于掩膜板的防塵保護裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域，尤其涉及一種用于掩膜板的防塵保護裝置。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體集成電路制造工藝中，光刻工藝是其中最為重要的步驟之一。光刻工藝的過程是經(jīng)曝光系統(tǒng)將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形按所要求的位置，精確傳遞到預(yù)涂在晶片表面或介質(zhì)層上的光刻膠層上。經(jīng)過顯影工藝去除或保留曝光圖案部位的光刻膠，以達到將預(yù)制在掩模板上的器件或電路圖形在晶片表面或介質(zhì)層上精確成型的目的。光刻工藝的好壞將直接影響半導(dǎo)體器件的特征尺寸和產(chǎn)品品質(zhì)，其中，掩膜板是光刻復(fù)制 圖形的基準(zhǔn)和藍本，掩膜板上的任何缺陷都會對最終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。如圖I所示，圖I為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面結(jié)構(gòu)示意圖，所述掩膜板115具有圖案區(qū)域，用于掩膜板115的防塵保護裝置包括框架113和保護薄膜111，所述保護薄膜111被緊繃在所述框架113上，所述保護薄膜111需光學(xué)透明且結(jié)實，通常采用硝化纖維或者醋酸纖維素制成。所述框架113環(huán)繞掩膜板邊沿，所述保護薄膜111和所述框架113限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，以將所述圖案區(qū)域密封，保護掩膜板115上的圖案區(qū)域不受塵粒或其它形式的污染，并且沾在保護薄膜111上的污染物與圖案區(qū)域表面保持足夠遠的距離，在成像時，污染物的像平面不落在晶片表面上，減小污染物對生產(chǎn)的影響。然而，在實際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于保護薄膜111被緊繃在所述框架113上，在保護薄膜面上有張力的存在，對框架113產(chǎn)生作用力，并傳遞到掩膜板115上，掩膜板115會因此產(chǎn)生微小形變，導(dǎo)致圖案區(qū)域偏離預(yù)定的位置，最終影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果。

實用新型內(nèi)容本實用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，以解決保護薄膜產(chǎn)生的張力使掩膜板產(chǎn)生形變影響影響復(fù)制到晶片上的圖案的效果的問題。為解決上述問題，本實用新型提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框，其中至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化?？蛇x的，所述邊框為單層結(jié)構(gòu)?？蛇x的，所述邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化?？蛇x的，所述邊框為多層結(jié)構(gòu)?？蛇x的，所述邊框為兩層結(jié)構(gòu)?？蛇x的，所述邊框的兩層結(jié)構(gòu)包括靠近所述掩膜板的第一層邊框和靠近所述保護薄膜的第二層邊框，所述第一層邊框和第二層邊框之間粘合連接。可選的，所述第一層邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化?？蛇x的，所述邊框為三層結(jié)構(gòu)。[0014]可選的，所述邊框的三層結(jié)構(gòu)包括靠近所述掩膜板的第一層邊框、靠近所述保護薄膜的第三層邊框和位于第一層邊框和第三層邊框之間的第二層邊框，所述第一層邊框、第二層邊框和第三層邊框之間粘合連接?？蛇x的，所述第一層邊框的寬度朝所述掩膜板的方向均勻變大?？蛇x的，所述第三層邊框的寬度朝所述保護薄膜的方向均勻變大?？蛇x的，其特征在于，所述框架的多層結(jié)構(gòu)是同種材質(zhì)構(gòu)成。可選的，所述框架的多層結(jié)構(gòu)是不同種材質(zhì)構(gòu)成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型提供的用于掩膜板的防塵保護裝置，由于其至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化，該邊框易產(chǎn)生形變吸收部分保護薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，從而減小或消除掩膜板的形變。更優(yōu)選的，將邊框設(shè)計成多層結(jié)構(gòu)，可吸收更多的張力，進一步提高曝光效果。

圖I為現(xiàn)有的用于掩膜板的防塵保護裝置剖面結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型實施例一的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖；圖3為本實用新型實施例二的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖；圖4為本實用新型實施例三的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖。
具體實施方式
本實用新型的核心思想在于，提供一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框，其中至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。由于這樣的框架結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生形變，能夠吸收所述保護薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，防止掩膜板形變對復(fù)制到晶片上的圖案的效果產(chǎn)生影響。
以下結(jié)合附圖和具體實施例對本實用新型提出的用于掩膜板的防塵保護裝置作進一步詳細(xì)說明。根據(jù)下面說明和權(quán)利要求書，本實用新型的優(yōu)點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準(zhǔn)的比率，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。實施例一參考附圖2，圖2為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述掩膜板215具有圖案區(qū)域(未圖示)，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜211以及用于固定所述保護薄膜211的框架，所述保護薄膜211和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框213，其中至少一個邊框213的寬度沿所述掩膜板215的厚度方向均勻變化。此種邊框結(jié)構(gòu)易產(chǎn)生形變，從而吸收部分保護薄膜211的張力，能減小張力對所述掩膜板215的影響。其中，邊框213的寬度可以沿所述掩膜板215的厚度方向均勻變化，本實施例中邊框213的寬度朝掩膜板215的方向均勻變大，當(dāng)然，其也可以朝掩膜板215的方向均勻變小，亦或者，朝掩膜板215的方向不均勻變化。所述邊框213與所述掩膜板215由粘合劑粘合連接，所述保護薄膜211與所述邊框213也由粘合劑粘合連接。所述邊框213材質(zhì)可為金屬、合金、高分子材料復(fù)合物中的任意一種。優(yōu)選為鋁合金材質(zhì)，其質(zhì)輕，有足夠的強度，并且彈性好。所述邊框213高度H為5mnT6. 5mm,以滿足在曝光機臺以及檢測機臺內(nèi)高度需求。實施例二參考附圖3，圖3為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述用 于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜311以及用于固定所述保護薄膜311的框架，所述保護薄膜311和所述框架限定的空間覆蓋掩模版315的圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框313，其中至少一個邊框313的寬度沿所述掩膜板315的厚度方向變化。相比于實施例一，本實施例的邊框313為兩層結(jié)構(gòu)，因此能吸收更多保護薄膜的張力，從而能進一步減小張力對所述掩膜板的影響。具體的，本實施例中所述邊框313的兩層結(jié)構(gòu)包括與掩膜板315連接的第一層邊框317以及與保護薄膜311連接的第二層邊框318。所述第一層邊框317的寬度沿所述朝掩膜板315方向均勻變大，所述第二層邊框318的寬度不變化。所述第一層邊框317與第二層邊框318之間由粘合劑粘合而成的，所述第一層邊框317與所述掩膜板315由粘合劑粘合連接，所述第二層邊框318與所述保護薄膜311由粘合劑粘合連接。第一層邊框317與第二層邊框318的材質(zhì)可以相同也可以不相同，所述第一層邊框317與第二層邊框318的材質(zhì)可為金屬，合金，高分子材料復(fù)合物中的任意一種或幾種。本實施例中的兩層邊框都選用鋁合金材質(zhì)，或者，第一層邊框317為鋁合金材質(zhì)，第二層邊框318為表面經(jīng)過鈍化的鋁。實施例三參考附圖4，圖4為本實施例的用于掩膜板的防塵保護裝置的剖面示意圖，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜411以及用于固定所述保護薄膜411的框架，所述保護薄膜411和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框413，其中至少一個邊框413的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。相比實施例二，本實施例的框架為三層結(jié)構(gòu)，形變性能較佳，因此能吸收更多保護薄膜的張力，從而能進一步減小張力對所述掩膜板的影響。具體的，本實施例中所述邊框413為三層與掩膜板415連接的第一層邊框417、中間的第二層邊框418以及與保護薄膜411連接的第三層邊框419。所述三層邊框之間由粘合劑粘合而成的，所述第一層邊框417與所述掩膜板415由粘合劑粘合連接，所述保護薄膜411與所述第三層邊框419由粘合劑粘合連接。所述邊框413材質(zhì)可為金屬，合金，高分子材料復(fù)合物中的任意一種或幾種，例如本實施例中的三層邊框都選用優(yōu)選為鋁合金材質(zhì)，也可使用不同的材質(zhì)，例如第一層邊框417為鋁合金材質(zhì)，第二層邊框418為表面經(jīng)過鈍化的鋁，第三層邊框419為鋁合金材質(zhì)。綜上所述，本實用新型提供了一種用于掩膜板的防塵保護裝置，該防塵保護裝置的邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。因而有更好的柔韌性，易產(chǎn)生形變吸收部分保護薄膜的張力，使掩膜板受到的張力變小，減小或消除掩膜板的形變對復(fù)制到晶片上的圖案的效果的影響。更優(yōu)選的，將框架設(shè)計成多層結(jié)構(gòu)，可吸收更多的張力，進一步消除對曝光效果的影響。最終達到提升曝光效果提升產(chǎn)品良率的目的。顯然， 本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，其特征在于，所述框架包括多個首尾相連的邊框，其中至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。
2.如權(quán)利要求I所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為單層結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化。
4.如權(quán)利要求I所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為多層結(jié)構(gòu)。
5.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為兩層結(jié) 構(gòu)。
6.如權(quán)利要求5所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的兩層結(jié)構(gòu)包括靠近所述掩膜板的第一層邊框和靠近所述保護薄膜的第二層邊框，所述第一層邊框和第二層邊框之間粘合連接。
7.如權(quán)利要求6所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述第一層邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向均勻變化。
8.如權(quán)利要求4所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框為三層結(jié)構(gòu)。
9.如權(quán)利要求8所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的三層結(jié)構(gòu)包括靠近所述掩膜板的第一層邊框、靠近所述保護薄膜的第三層邊框和位于第一層邊框和第三層邊框之間的第二層邊框，所述第一層邊框、第二層邊框和第三層邊框之間粘合連接。
10.如權(quán)利要求9所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述第一層邊框的寬度朝所述掩膜板的方向均勻變大。
11.如權(quán)利要求10所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述第三層邊框的寬度朝所述保護薄膜的方向均勻變大。
12.如權(quán)利要求4至11中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的多層結(jié)構(gòu)是同種材質(zhì)。
13.如權(quán)利要求4至11中任一項所述的用于掩膜板的防塵保護裝置，其特征在于，所述邊框的多層結(jié)構(gòu)是不同材質(zhì)。
專利摘要本實用新型揭露了一種用于掩膜板的防塵保護裝置，所述掩膜板具有圖案區(qū)域，所述用于掩膜板的防塵保護裝置包括保護薄膜以及用于固定所述保護薄膜的框架，所述保護薄膜和所述框架限定的空間覆蓋所述圖案區(qū)域，所述框架包括多個首尾相連的邊框，其中至少一個邊框的寬度沿所述掩膜板的厚度方向變化。使用本實用新型所提供的防塵保護裝置，其框架結(jié)構(gòu)更易吸收所述保護薄膜產(chǎn)生的張力，從而能減小或消除掩膜板的形變，提升產(chǎn)品良率。
文檔編號G03F1/64GK202794841SQ20122052056
公開日2013年3月13日 申請日期2012年10月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月11日
發(fā)明者覃柳莎 申請人:中芯國際集成電路制造(北京)有限公司