本實(shí)用新型涉及顯示面板制造領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板框架及掩膜板組件。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示屏在制備過程中，通常使用高精度金屬掩膜板，將蒸鍍材料在其下方加熱，使材料向上蒸發(fā)或升華，并透過掩膜板設(shè)計(jì)好的開口沉積到待蒸鍍基板的表面，形成所需要的膜層圖案。

掩膜板通常包括掩膜和遮擋膜，其中掩膜和遮擋膜都需要焊接在框架上。多個(gè)掩膜需要與框架實(shí)現(xiàn)組合，即張網(wǎng)。遮擋膜焊接在相鄰的掩膜之間的空隙處，起到遮擋空隙的作用，防止材料從空隙中蒸鍍到基板上，造成基板混色或者污染。

通常，張網(wǎng)的焊接順序?yàn)椋合葘⒄趽跄ず附拥娇蚣苌希缓笤俸附友谀?，由于掩膜和遮擋膜之間存在搭接，無法進(jìn)行焊接，較薄的掩膜邊緣容易出現(xiàn)褶皺或者卷邊，降低蒸鍍良率。

一旦張網(wǎng)出現(xiàn)不良，或者由于使用時(shí)間長出現(xiàn)掩膜使用不良，需要對掩膜進(jìn)行重置，則需要將掩膜和遮擋膜從框架中撕下，并且對框架焊點(diǎn)進(jìn)行打磨。由于對焊接處平坦度要求比較高，通常情況下，框架的使用周期為2～3次，該周期后，框架則不能夠再次使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種掩膜板框架及掩膜板組件，避免掩膜邊緣的翹曲或褶皺，減少更換掩膜時(shí)框架和遮擋膜的浪費(fèi)，減低材料成本。

本實(shí)用新型公開了一種掩膜板框架，包括：第一框架本體，所述第一框架本體上設(shè)置有第一支撐部；

和第二支撐部和放置于所述第一支撐部的支撐面上的第二框架本體。

優(yōu)選的，所述第一框架本體上還設(shè)置有第二支撐部，所述第一支撐部的支撐面與所述第一框架本體底面之間的第一距離大于所述第二支撐部的支撐面與所述第一框架本體底面之間的第二距離；

所述第二支撐部在平行于第一框架本體底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撐部在平行于第一框架本體底面的平面的正投影內(nèi)。

優(yōu)選的，所述第一支撐部的支撐面與所述第二支撐部的支撐面為相互平行的平面。

優(yōu)選的，所述第一框架本體為一口字形框架，所述第一支撐部為設(shè)置于所述第一框架本體內(nèi)側(cè)側(cè)壁上的支撐凸臺，所述支撐凸臺連續(xù)設(shè)置于所述第一框架本體的內(nèi)部側(cè)壁上而形成一口字型結(jié)構(gòu)，所述支撐凸臺的上表面為所述第一支撐部的支撐面。

優(yōu)選的，包括至少一個(gè)所述第二支撐部，每一所述第二支撐部包括設(shè)置于所述支撐凸臺上沿著遮擋膜延伸方向設(shè)置對應(yīng)的兩個(gè)凹槽，每一凹槽朝向?qū)?yīng)凹槽的一側(cè)設(shè)置有開口。

優(yōu)選的，所述開口的高度等于所述凹槽的深度，所述凹槽的底面為所述第二支撐部的支撐面。

本實(shí)用新型公開了一種掩膜板組件，包括上述技術(shù)方案所述的掩膜板框架，還包括固定在第二框架本體遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的一個(gè)及其以上的遮擋膜；

固定在第二框架本體遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的多個(gè)掩膜；

所述遮擋膜遮擋相鄰兩個(gè)掩膜之間的空隙。

本實(shí)用新型還公開了一種掩膜板組件，包括上述技術(shù)方案所述的掩膜板框架，還包括固定在所述第二框架本體遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的多個(gè)掩膜；

設(shè)置在所述第二支撐部的支撐面上的遮擋膜，所述遮擋膜能夠遮擋相鄰兩個(gè)掩膜之間的空隙。

優(yōu)選的，所述掩膜的邊緣和四角均固定在所述第二框架本體上。

優(yōu)選的，所述遮擋膜焊接在所述第二框架本體上。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本使用新型的掩膜板組件中，掩膜固定在第二框架上，避免了掩膜邊角的懸空狀態(tài)，減小了掩膜的翹邊和褶皺不良；同時(shí)，在對掩膜進(jìn)行重置時(shí)，可直接將第二框架從第一框架上取下，替換為新的第二框架即可，可以提高第一框架的利用率，降低成本。

附圖說明

圖1表示本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架的俯視圖；

圖2表示本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架沿A-A方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3表示本實(shí)用新型第一種掩膜板框架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4表示本實(shí)用新型第一種掩膜板框架沿B-B方向的剖面圖；

圖5表示本實(shí)用新型第二種掩膜板框架的俯視圖；

圖6表示本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第二種掩膜板框架沿A-A方向的剖面圖；

圖7表示本實(shí)用新型第二種掩膜板框架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖8表示本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第二種掩膜板框架沿B-B方向的剖面圖；

圖9表示本實(shí)用新型的第一種掩膜板組件沿A-A方向的剖面圖；

圖10表示本實(shí)用新型的第二種掩膜板組件沿A-A方向的剖面圖；

圖11表示本實(shí)用新型的第二種掩膜板組件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12表示本實(shí)用新型的第二種掩膜板組件中遮擋膜結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13表示本實(shí)用新型的第三種掩膜板組件沿A-A方向的剖面圖。

附圖中：

1為第一框架本體，11為第一支撐部，12為第二支撐部，2為第二框架本體，3為掩膜，4為遮擋膜。

具體實(shí)施方式

為了進(jìn)一步理解本實(shí)用新型，下面結(jié)合實(shí)施例對本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方案進(jìn)行描述，但是應(yīng)當(dāng)理解，這些描述只是為進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的特征和優(yōu)點(diǎn)，而不是對本實(shí)用新型權(quán)利要求的限制。

圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架的俯視圖。圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架沿A-A方向的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。

本實(shí)用新型公開了一種掩膜板框架，如圖1和圖2所示，包括：第一框架本體(1)，和放置于所述第一支撐部(11)的支撐面上的第二框架本體(2)。

在本實(shí)用新型中，所述第一支撐部(11)可以為多種形狀，可以支撐第二框架本體即可。

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第一種掩膜板框架沿B-B方向的剖面圖。由圖3和圖4可以看出本實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)。

圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第二種掩膜板框架的俯視圖。圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第二種掩膜板框架沿A-A方向的剖面圖。

本實(shí)用新型公開了一種掩膜板框架，如圖5和圖6所示，包括：第一框架本體(1)，所述第一框架本體上設(shè)置有第一支撐部(11)和第二支撐部(12)，

所述第一支撐部(11)的支撐面與所述第一框架本體(1)底面之間的第一距離大于所述第二支撐部(12)的支撐面與所述第一框架本體(1)底面之間的第二距離；

所述第二支撐部(12)在平行于第一框架本體(1)底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撐部(11)在平行于第一框架本體(1)底面的平面的正投影內(nèi)；

放置于所述第一支撐部(11)的支撐面上的第二框架本體(2)。

在本實(shí)用新型中，所述第一支撐部(11)可以為多種形狀，可以支撐第二框架本體即可。由于第二支撐部用于設(shè)置遮擋膜，為了使遮擋膜較好的遮擋掩膜之間的空隙，防止蒸鍍材料從空隙中透過，優(yōu)選的，所述第一支撐部(11)的支撐面與第二支撐部(12)的支撐面平行。

根據(jù)掩膜框架的特點(diǎn)，優(yōu)選的，本實(shí)用新型的第一框架本體為口字型框架，所述第一支撐部為設(shè)置于所述第一框架本體內(nèi)側(cè)側(cè)壁上的支撐凸臺，所述支撐凸臺連續(xù)設(shè)置于所述第一框架本體的內(nèi)部側(cè)壁上而形成一口字型結(jié)構(gòu)，所述支撐凸臺的上表面為所述第一支撐部的支撐面。

所述第一框架本體的厚度優(yōu)選為5～100mm。所述第二框架的厚度優(yōu)選為2.5～80mm。所述第一支撐部的支撐部與第一框架本體頂面的距離優(yōu)選為3～85mm。

所述第二支撐部(12)在平行于第一框架本體(1)底面的平面上的正投影完全落入所述第一支撐部(11)在平行于第一框架本體(1)底面的平面的正投影內(nèi)。

進(jìn)一步的，如圖7所示，所述框架包括至少一個(gè)所述第二支撐部，每一所述第二支撐部包括設(shè)置于所述支撐凸臺上沿著遮擋膜延伸方向設(shè)置對應(yīng)的兩個(gè)凹槽，每一凹槽朝向?qū)?yīng)凹槽的一側(cè)設(shè)置有開口。優(yōu)選的，所述開口的高度等于所述凹槽的深度，所述凹槽的底面為所述第二支撐部的支撐面。所述凹槽的深度優(yōu)選為30～200μm。

圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例公開的第二種掩膜板框架沿B-B方向的剖面圖。

本實(shí)用新型中涉及的第二框架優(yōu)選為口字型框架，中間鏤空，第二框架放置于所述第一支撐部的支撐面上。

本實(shí)用新型還公開了一種掩膜板組件，如圖9所示，包括第一框架本體(1)，和放置于所述第一支撐部(11)的支撐面上的第二框架本體(2)，還包括固定在第二框架本體遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的一個(gè)及其以上的遮擋膜；

固定在第二框架本體遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的多個(gè)掩膜；

即掩膜和遮擋膜位于所述第二框架本體的同一側(cè)；優(yōu)選的，所述掩膜與遮擋膜的邊緣有部分重疊；

所述遮擋膜遮擋相鄰兩個(gè)掩膜之間的空隙。

本實(shí)施例還公開了一種掩膜板組件，如圖10及圖11所示，包括上述技術(shù)方案所述的掩膜板框架，還包括固定在所述第二框架本體(2)遠(yuǎn)離所述第一框架本體底面一側(cè)的表面上的多個(gè)掩膜(3)；

設(shè)置在所述第二支撐部的支撐面上的遮擋膜(4)，所述遮擋膜(4)能夠遮擋相鄰兩個(gè)掩膜(3)之間的空隙。

所述多個(gè)掩膜為2個(gè)或2個(gè)以上。優(yōu)選的，所述掩膜板的邊緣和四角均固定在第二框架本體上，避免了掩膜邊角的懸空狀態(tài)，減小了掩膜的翹邊和褶皺不良。在對掩膜進(jìn)行重置時(shí)，可以直接將帶有掩膜的第二框架取下，替換新的第二框架即可，提高了第一框架的利用率，降低掩膜組件的成本。

所述遮擋膜能夠遮擋相鄰的掩膜之間的空隙。在一些實(shí)施例中，所述遮擋膜固定在第二支撐部的支撐面上，更優(yōu)選為焊接在第二支撐部的支撐面上。當(dāng)掩膜需要重置時(shí)，無需更換遮擋膜。圖12為本實(shí)用新型的第二種掩膜板組件中遮擋膜結(jié)構(gòu)示意圖，其中4為遮擋膜。

在另外一些實(shí)施例中，如圖13所示，所述遮擋膜固定在第二框架本體上，優(yōu)選為焊接在第二框架本體上。在該種情況下，所述遮擋膜和掩膜分別固定在第二框架本體相對的兩個(gè)表面上。所述遮擋膜一側(cè)的表面與第二框架本體連接固定，另一側(cè)的表面設(shè)置在第二支撐部的支撐面上。

以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本實(shí)用新型的方法及其核心思想。應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型原理的前提下，還可以對本實(shí)用新型進(jìn)行若干改進(jìn)和修飾，這些改進(jìn)和修飾也落入本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。

對所公開的實(shí)施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本實(shí)用新型。對這些實(shí)施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。因此，本實(shí)用新型將不會被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。