專利名稱：掩模坯件的制造方法及涂布裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種利用毛細(xì)管現(xiàn)象在基板的被涂布面上涂布涂布液的
涂布裝置及掩模坯件(mask blank)的制造方法。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有技術(shù)在使用光刻法形成圖案時(shí)，需要將光致抗蝕劑等涂布液涂布 在基板上而形成抗蝕劑膜的工序，但是公知作為涂布該涂布液的涂布裝置 (涂料器)，即自旋涂料器(spin coater)。該自旋涂料器在水平保持的 基板(的被涂布面)的中央滴下涂布液后，通過使該基板在水平面內(nèi)高速 旋轉(zhuǎn)，利用離心力的作用將涂布液伸展到整個(gè)基板面上，在基板表面上形 成涂布膜。
但是，在該自旋涂料器中，存在在基板的周邊部分產(chǎn)生稱為"毛邊 (fringe)"的抗蝕劑隆起的問題。產(chǎn)生這樣的毛邊時(shí)，抗蝕劑膜的膜厚在 基板面內(nèi)不均勻，形成圖案時(shí)在CD面內(nèi)產(chǎn)生偏差。特別是這樣的毛邊的 隆起在基板形狀不是旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的情況(長(zhǎng)方形等)下會(huì)助長(zhǎng)膜厚的不均勻。 進(jìn)而，在使用自旋涂料器時(shí)，在近年來的液晶顯示裝置或液晶顯示裝置制 造用的光掩模中，基板有更大型化、大重量化的傾向，出現(xiàn)難以得到一定 速度下的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，需要大的旋轉(zhuǎn)空間(室)，涂布液的損耗多等問 題。
另一方面，作為在大型基板上優(yōu)選的涂布裝置，現(xiàn)有技術(shù)中提出一種 通稱"CAP涂料器"的涂布裝置(例如專利文獻(xiàn)1)。該CAP涂料器使 內(nèi)部具有毛細(xì)管狀間隙的噴嘴相對(duì)于基板的被涂布面接近，并使從充滿涂 布液的液槽通過噴嘴，并到達(dá)噴嘴前端開口部的涂布液接觸在基板的被涂 布面上，通過在此狀態(tài)下使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)，在上述基板的 被涂布面上涂布涂布液，形成涂布膜。
但是，使用這樣的CAP涂料器，在基板表面上形成光致抗蝕劑等的涂布膜時(shí)，利用毛細(xì)管現(xiàn)象的上述噴嘴的液排出量，由于因液槽中儲(chǔ)蓄的 涂布液的液面高度的不同而不同，所以在每次涂布時(shí)，如果液槽中的涂布 液的液面高度不一定，則在基板間產(chǎn)生涂布膜的厚偏差。因此，在日本特
開2004—6762號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)l)中記載有如下技術(shù)用液面?zhèn)鞲衅鞅O(jiān)
視一次一次的每次涂布的液面水平面，將涂布開始時(shí)的液槽的液面水平面 保持為一定。
但是，在大型基板的情況下， 一次涂布液的消費(fèi)量多，因此容易引起 涂布中的膜厚降低。尤其當(dāng)涂布中的膜厚下降大時(shí)，基板面內(nèi)的涂布膜厚 的傾斜變大，在基板面內(nèi)產(chǎn)生抗蝕劑膜厚的偏差。隨著基板的尺寸大型化， 這樣的基板面內(nèi)的抗蝕劑膜厚的偏差變大，抗蝕劑膜厚的面內(nèi)不均勻變得
顯著。當(dāng)抗蝕劑膜厚在基板面內(nèi)存在偏差時(shí)，在形成圖案時(shí)，會(huì)產(chǎn)生CD 的面內(nèi)偏差。特別在近年來的液晶顯示裝置或液晶顯示裝置制造用的光掩 模中，基板有更大型化的傾向，另外圖案也要求更微細(xì)化，為了滿足上述 嚴(yán)格的要求，絕不能輕視在基板面內(nèi)的抗蝕劑膜厚偏差就成為重要的解決 課題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的問題點(diǎn)，第一目的是提供一種使用 CAP涂料器在基板表面涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜時(shí)，在基板面內(nèi)的抗蝕 劑膜的涂布膜厚的均勻性良好的掩模坯件的制造方法。
另外，本發(fā)明的第二目的是提供一種使用CAP涂料器在基板表面上 形成光致抗蝕劑等涂布膜時(shí)，使基板面內(nèi)的涂布膜厚的偏差降低，特別在 基板尺寸大型的情況下，也可以使基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性提高的涂 布裝置。
如上所述，為了解決本發(fā)明人新發(fā)現(xiàn)的使用CAP涂料器在基板表面 上形成光致抗蝕劑等涂布膜時(shí)的課題，著眼于涂布中的液槽內(nèi)涂布液的液 面水平面，即使在涂布中也需要控制液面水平面(level)，在這樣的認(rèn)識(shí) 下，本發(fā)明人進(jìn)行積極的研究的結(jié)果，完成本發(fā)明。即，本發(fā)明為了解決 上述課題，具有以下構(gòu)成。
(構(gòu)成l) 一種掩模坯件的制造方法，其包括如下工序使從收容有液狀的抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有 用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴 嘴相對(duì)移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜，其特征在于， 在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中進(jìn)行控制，以使上述液槽內(nèi)的抗蝕 劑的液面高度一定。
(構(gòu)成2)根據(jù)構(gòu)成1記載的掩模坯件的制造方法，其特征在于在 向上述液槽內(nèi)補(bǔ)充抗蝕劑的同時(shí)，控制液面高度。
(構(gòu)成3)根據(jù)構(gòu)成1記載的掩模坯件的制造方法，其特征在于提 升上述液槽內(nèi)的抗蝕劑來控制液面高度。
(構(gòu)成4) 一種涂布裝置，其特征在于該涂布裝置具有噴嘴，其 包括與前端開口部連通的間隙，經(jīng)過上述間隙將涂布液導(dǎo)向上述前端開口 部；液槽，其收容涂布液，通過使上述噴嘴的至少一部分浸漬在上述涂布
液中而將涂布液供應(yīng)給上述噴嘴；噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)，其使上述噴嘴的上
述前端開口部相對(duì)于基板的被涂布面接近，使被導(dǎo)向上述前端開口部的涂
布液接觸到上述基板的被涂布面；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在通過上述噴嘴接觸/分離 機(jī)構(gòu)使上述噴嘴的上述前端開口部相對(duì)于基板的被涂布面接近的狀態(tài)下， 使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)；以及控制機(jī)構(gòu)，其控制上述噴嘴接觸/ 分離機(jī)構(gòu)和上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，上述液槽具有液面高度控制機(jī)構(gòu)，在對(duì) 上述被涂布面涂布涂布液的過程中，該液面高度控制機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制以使上 述液槽內(nèi)的涂布液的液面高度一定。
(構(gòu)成5)根據(jù)構(gòu)成4記載的涂布裝置，其特征在于上述液面高度 控制機(jī)構(gòu)是一邊向上述液槽內(nèi)補(bǔ)充涂布液， 一邊控制液面高度的機(jī)構(gòu)。
(構(gòu)成6)根據(jù)構(gòu)成4記載的涂布裝置，其特征在于上述液面高度
控制機(jī)構(gòu)是提升上述液槽內(nèi)的涂布液來控制液面高度的機(jī)構(gòu)。
(構(gòu)成7) —種掩模坯件的制造方法，其特征在于，涂布液是液狀的 抗蝕劑，并且包括如下工序在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被 涂布面上使用構(gòu)成4至6中任一項(xiàng)所述的涂布裝置涂布上述涂布液，形成
抗蝕劑膜。
(構(gòu)成8) —種掩模坯件的制造方法，其包括如下工序使從收容有
液狀的抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴 嘴相對(duì)移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜，其特征在于， 在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，抑制上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面 高度的變動(dòng)。
(構(gòu)成9)根據(jù)構(gòu)成8記載的掩模坯件的制造方法，其特征在于配 置與上述液槽連通并收容抗蝕劑的緩沖槽，抑制上述液槽內(nèi)的液面下降。
(構(gòu)成IO) —種涂布裝置，其特征在于，該涂布裝置具有噴嘴，其 包括與前端開口部連通的間隙，經(jīng)過上述間隙將涂布液導(dǎo)向上述前端開口 部；液槽，其收容涂布液，通過使上述噴嘴的至少一部分浸漬在上述涂布 液中而將涂布液供應(yīng)給上述噴嘴；噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)，其使上述噴嘴的上
述前端開口部相對(duì)于基板的被涂布面接近，使被導(dǎo)向上述前端開口部的涂
布液接觸到上述基板的被涂布面；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在通過上述噴嘴接觸/分離 機(jī)構(gòu)使上述噴嘴的上述前端開口部相對(duì)于基板的被涂布面接近的狀態(tài)下， 使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)；以及控制機(jī)構(gòu)，其控制上述噴嘴接觸/ 分離機(jī)構(gòu)和上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，上述液槽具有液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)， 在向上述被涂布面涂布涂布液的過程中，該液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)抑制上 述液槽內(nèi)的涂布液的液面高度的變動(dòng)。
(構(gòu)成ll)根據(jù)構(gòu)成IO記載的涂布裝置，其特征在于上述液面高
度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)是設(shè)有與上述液槽連通并收容涂布液的緩沖槽的機(jī)構(gòu)。
(構(gòu)成12) —種掩模坯件的制造方法，其特征在于，涂布液是液狀的 抗蝕劑，并且包括如下工序在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被 涂布面上，使用構(gòu)成10或11所述的涂布裝置涂布上述涂布液，形成抗蝕
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明的掩模坯件的制造方法，在使用CAP涂料器在基板表面
上形成抗蝕劑膜時(shí)，在對(duì)基板表面涂布抗蝕劑涂布中，通過進(jìn)行控制使得 液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面在一定高度，可以得到基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻 性良好的掩模坯件。
另外，根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置，在使用CAP涂料器在基板表面上形 成抗蝕劑等涂布膜時(shí)，在對(duì)基板表面涂布涂布液的涂布中，由于具有將液槽內(nèi)的涂布液的液面高度控制在一定高度的液面高度控制機(jī)構(gòu)，所以可以 使基板面內(nèi)的涂布膜厚的偏差降低，特別地在基板尺寸是大尺寸的情況下 也可以使基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性提高。
進(jìn)一步，根據(jù)本發(fā)明的掩模坯件的制造方法，在使用CAP涂料器在 基板表面上涂布抗蝕劑以形成抗蝕劑膜時(shí)，在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的過 程中，通過抑制上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面高度的變動(dòng)，可以得到在基板 面內(nèi)的抗蝕劑膜的涂布膜厚的均勻性良好的掩模坯件。
進(jìn)一步，根據(jù)本發(fā)明的涂布裝置，在使用CAP涂料器在基板表面上 形成光致抗蝕劑等涂布膜時(shí)，在對(duì)基板表面涂布涂布液的涂布中，由于具 有抑制液槽內(nèi)的涂布液的液面高度的變動(dòng)的液面高度抑制機(jī)構(gòu)，所以可以 使基板面內(nèi)的涂布膜厚的偏差降低，特別在基板尺寸是大尺寸時(shí)，也可以 使基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性提高。


圖1是實(shí)施本發(fā)明的涂布方法的涂布裝置的側(cè)面概略圖。
圖2是上述涂布裝置的正面概略圖。
圖3是示出上述涂布裝置中涂布機(jī)構(gòu)的構(gòu)成的剖面圖。
圖4是示出上述涂布裝置中涂布機(jī)構(gòu)的主要部分的構(gòu)成的剖面圖。
圖5是示出上述涂布裝置中涂布機(jī)構(gòu)進(jìn)行涂布的狀態(tài)的剖面圖。
圖6是示出本發(fā)明的液面高度控制機(jī)構(gòu)的第一實(shí)施方式的概略剖面圖。
圖7是示出本發(fā)明的液面高度控制機(jī)構(gòu)的第二實(shí)施方式的概略剖面圖。
圖8是示出本發(fā)明的液面高度控制機(jī)構(gòu)的第三實(shí)施方式的概略剖面圖。
圖9是示出本發(fā)明的液面高度控制機(jī)構(gòu)的第四實(shí)施方式的概略剖面圖。
圖10是示出本發(fā)明的液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)的實(shí)施方式的概略剖面圖。
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具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖，說明用于實(shí)施本發(fā)明的最佳方式。
本發(fā)明涉及一種掩模坯件的制造方法，該方法包括如下工序使從收 容液狀抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有 用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴 嘴相對(duì)地移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑而形成抗蝕劑膜，其特征在 于在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，進(jìn)行控制使得上述液槽內(nèi)的 抗蝕劑的液面高度一定。
根據(jù)上述本發(fā)明的掩模坯件的制造方法，在使用CAP涂料器在基板 表面上形成抗蝕劑膜時(shí)，g卩，使從收容液狀抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴 嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被 涂布面上，通過使上述基板和上述噴嘴相對(duì)地移動(dòng)，在上述被涂布面上涂 布抗蝕劑而形成抗蝕劑膜時(shí)，在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，通過進(jìn) 行控制使得上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面高度一定，由此可以使基板面內(nèi)的 涂布膜厚的偏差降低，得到基板面內(nèi)的抗蝕劑膜的涂布膜厚的均勻性良好 的掩模坯件。在基板尺寸大型的情況下，涂布液消耗而引起的面內(nèi)的膜厚 的傾斜度大，根據(jù)本發(fā)明，可以更有效提高基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性， 所以本發(fā)明特別適合大型尺寸的帶有抗蝕劑膜的掩模坯件的制造。
作為在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中進(jìn)行控制使得上述液槽 內(nèi)的抗蝕劑的液面高度一定的方法，例如有在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑 的過程中向上述液槽內(nèi)補(bǔ)給抗蝕劑并控制液面高度的方法。另外，作為其 他的方法，有在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中將上述液槽內(nèi)的抗蝕 劑提升來控制液面高度的方法。這些控制液面高度的方法的具體實(shí)施方式
在后面詳細(xì)描述。
另外，本發(fā)明涉及一種掩模坯件的制造方法，該方法包括如下工序-使從收容液狀抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸 在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和 上述噴嘴相對(duì)地移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑而形成抗蝕劑膜，其 特征在于在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，抑制上述液槽內(nèi)的抗 蝕劑的液面高度的變動(dòng)。
10根據(jù)上述本發(fā)明的掩模坯件的制造方法，在使用CAP涂料器在基板 表面上形成抗蝕劑膜的情況下，即，在使從收容液狀抗蝕劑的液槽通過噴 嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的 基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴嘴相對(duì)地移動(dòng)，在上述被涂 布面上涂布抗蝕劑而形成抗蝕劑膜時(shí)，在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的過程 中，通過抑制上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面高度的變動(dòng)，可以使基板面內(nèi)的 涂布膜厚的偏差降低，得到在基板面內(nèi)的抗蝕劑膜的涂布膜厚的均勻性良 好的掩模坯件。在基板尺寸大型的情況下，涂布液消耗而引起的面內(nèi)的膜 厚的傾斜度大，根據(jù)本發(fā)明，可以更有效提高基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻 性，所以本發(fā)明特別適合大型尺寸的帶有抗蝕劑膜的掩模坯件的制造。
作為在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中抑制上述液槽內(nèi)的抗蝕 劑的液面高度的變動(dòng)的方法，例如可以舉出通過配置與上述液槽連通，并 收容抗蝕劑的緩沖槽，由此在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中抑制上 述液槽內(nèi)的液面下降的方法。抑制該液面高度的變動(dòng)的方法、手段的具體 實(shí)施方式以后詳細(xì)描述。
接著，說明在本發(fā)明的掩模坯件的制造方法中實(shí)施抗蝕劑膜的形成工 序時(shí)可優(yōu)選使用的本發(fā)明的涂布裝置的一實(shí)施方式。
圖1是本發(fā)明涉及的上述涂布裝置的側(cè)面概略圖，圖2是其正面概略圖。
如圖1所示，涂布裝置1具有設(shè)置在基座框架(base frame) 11上 的涂布機(jī)構(gòu)2;設(shè)置在移動(dòng)框架12上的吸附機(jī)構(gòu)3;使移動(dòng)框架12在基 座框架11上沿水平方向移動(dòng)的移動(dòng)機(jī)構(gòu)4;保持基板IO并使基板10裝卸 自如的保持機(jī)構(gòu)5;以及圖未示出的控制部。
涂布機(jī)構(gòu)2是對(duì)于被涂布面朝下的狀態(tài)的基板10進(jìn)行涂布液的涂布 的機(jī)構(gòu)。該涂布機(jī)構(gòu)2設(shè)置在矩形箱狀的基座框架11的大致中央。對(duì)于 涂布機(jī)構(gòu)2的構(gòu)成，在后面更詳細(xì)說明。
移動(dòng)框架12 —體地形成有相對(duì)的一對(duì)側(cè)板和連結(jié)該側(cè)板的頂板，并 具有足夠的機(jī)械強(qiáng)度，從而使得基板10和涂布機(jī)構(gòu)2的位置精度不會(huì)變 差。另外，移動(dòng)框架12通過線性導(dǎo)軌(linear way) 41，在水平方向上移 動(dòng)自如地與基座框架11連結(jié)。而且，在移動(dòng)框架12內(nèi)設(shè)置有吸附機(jī)構(gòu)3。該吸附機(jī)構(gòu)3例如由在頂板的大致中央部貫穿設(shè)有多個(gè)吸附孔(圖未示) 的吸附板構(gòu)成。另外，在移動(dòng)框架12的一側(cè)板上突出設(shè)有形成了后述的
滾珠螺桿(ball screw) 42螺合的螺母的移動(dòng)部13。
移動(dòng)機(jī)構(gòu)4由如下部分構(gòu)成對(duì)移動(dòng)框架12的側(cè)板進(jìn)行導(dǎo)向并使移 動(dòng)框架12的側(cè)板移動(dòng)的線性導(dǎo)軌41;螺合于移動(dòng)部13的螺母的滾珠螺桿 42;以及使該滾珠螺桿42旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)(motor) 43。在通過來自未圖示的 控制部的指示使馬達(dá)43旋轉(zhuǎn)時(shí)，滾珠螺桿42旋轉(zhuǎn)，可以使移動(dòng)部13向 與滾珠螺桿42的旋轉(zhuǎn)方向?qū)?yīng)的方向水平移動(dòng)規(guī)定距離。
保持機(jī)構(gòu)5具有與基座框架11 一體形成的保持機(jī)構(gòu)用框架51;設(shè) 置在該保持機(jī)構(gòu)用框架51上的線性導(dǎo)軌53;由該線性導(dǎo)軌53導(dǎo)向而在上 述保持機(jī)構(gòu)用框架51上移動(dòng)的底板(baseplate) 52;使該底板52在水平 方向上移動(dòng)的線性馬達(dá)54;在桿(md)前端設(shè)有保持部件55的氣缸(air cylinder)(或電磁螺線管)56。另外，為了可以應(yīng)對(duì)各種基板尺寸，氣缸 56被裝卸自如地安裝在底板52的任意的安裝位置上。另外，上述保持部 件55由載置基板10的周邊部的載置面和進(jìn)行基板10定位的卡止用臺(tái)階 構(gòu)成。保持部件55例如相對(duì)于矩形狀的基板IO，被配設(shè)在底板52的四角， 以保持基板10的四角。當(dāng)然，保持部件55的配設(shè)位置可以在考慮基板的 形狀、位置精度等之后進(jìn)行適當(dāng)變更。
接著，說明上述結(jié)構(gòu)的涂布裝置1的整體動(dòng)作。
首先，上述涂布裝置1的初始狀態(tài)是如下狀態(tài)底板52處于基板的 放置(set)位置，移動(dòng)框架12處于吸附位置，另外處于底板52上的四角 的各氣缸56的桿下降。
接著，操作者(或機(jī)器人)在被涂布面朝下的狀態(tài)下將基板10載置 在保持部件55的載置面上。由于在保持部件55上設(shè)有上述卡止用臺(tái)階， 所以可以容易對(duì)基板10進(jìn)行定位。另外，利用該卡止用臺(tái)階，在底板52 從放置位置移動(dòng)向吸附位置并停止(后述)在吸附位置時(shí)，可以卡止基板 10。
如此若將基板10載置在保持部件55上，則之后按照來自控制部的指 示進(jìn)行如下動(dòng)作。
首先，底板52在線性馬達(dá)54的作用下移動(dòng)并停止在吸附位置。于是
12當(dāng)保持機(jī)構(gòu)5被定位在吸附位置上時(shí)，處于其四角的四個(gè)氣缸56的桿同
時(shí)上升，使基板10抵接或近接于吸附機(jī)構(gòu)3。在此，通過利用吸附機(jī)構(gòu)3 的吸引將基板10吸附在吸附機(jī)構(gòu)3上。然后，當(dāng)各氣缸56的桿下降時(shí)， 移動(dòng)框架12向處理位置方向移動(dòng)。在移動(dòng)框架12通過處理位置的途中， 在被涂布面朝下的基板10的被涂布面上，從下方通過涂布機(jī)構(gòu)2進(jìn)行涂 布液的涂布。
然后，當(dāng)通過涂布機(jī)構(gòu)2的涂布結(jié)束時(shí)，使馬達(dá)43 (滾珠螺桿42) 逆向旋轉(zhuǎn)，移動(dòng)框架12從處理位置回到吸附位置。在此時(shí)各氣缸56的桿 上升，使保持部件55的載置面與基板10抵接。此時(shí)，通過保持部件55 的卡止用臺(tái)階對(duì)基板10進(jìn)行定位。然后，在通過吸附機(jī)構(gòu)3的吸附停止 后，使各氣缸56的桿同時(shí)下降，將涂布完的基板10載置在保持部件55 上。接著，通過線性馬達(dá)54將底板52從吸附位置移動(dòng)到放置位置，操作 者(或機(jī)器人)將涂布完的基板10從保持部件55取出。另外，上述移動(dòng) 框架12的移動(dòng)除了使用滾珠螺桿外，還可以使用線性馬達(dá)等其它手段。
如上所述， 一次涂布作業(yè)完成。另外，在上述構(gòu)成中，在移動(dòng)框架12 (吸附機(jī)構(gòu)3)向處理位置方向移動(dòng)時(shí)，在通過處理位置的途中，對(duì)基板 10的被涂布面從下方通過涂布機(jī)構(gòu)2進(jìn)行涂布液的涂布，但是例如還可以 是不使移動(dòng)框架12移動(dòng)(即將基板10固定在規(guī)定位置不動(dòng))，而使涂布 機(jī)構(gòu)2在水平方向移動(dòng)來進(jìn)行涂布的構(gòu)成。進(jìn)而還可以是使移動(dòng)框架12 和涂布機(jī)構(gòu)2這兩者移動(dòng)的構(gòu)成。
另外，在上述構(gòu)成中，放置位置和吸附位置不同，但是也可以是放置 位置和吸附位置為相同位置的構(gòu)成。
接著，進(jìn)一步詳細(xì)說明上述涂布機(jī)構(gòu)2的構(gòu)成。
圖3是示出在該涂布裝置中的涂布機(jī)構(gòu)2的構(gòu)成的剖面圖。
如圖3所示，涂布機(jī)構(gòu)2構(gòu)成為，由于噴嘴22的毛細(xì)管狀間隙23中 的毛細(xì)管現(xiàn)象，使積存在液槽20中的涂布液(例如液體狀的光致抗蝕劑 液)21上升，使噴嘴22的前端部(上端部)接近于朝向下方的基板10 的被涂布面，使上升到噴嘴前端部的涂布液通過該噴嘴前端部接觸到上述 基板10的被涂布面。
在此，上述液槽20具有的橫向?qū)挾缺然錓O的橫方向的一邊長(zhǎng)度、即通過上述移動(dòng)框架12而移動(dòng)的與縱方向正交的方向(在圖3中為與紙
面正交的方向)的一邊長(zhǎng)度更長(zhǎng)。該液槽20被支承在支承板24的上端側(cè)， 并被安裝成通過未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)而能夠相對(duì)于支承板24在上下方向上 移動(dòng)。
并且，該支持板24在其下端側(cè)，通過相互正交配置的線性導(dǎo)軌25、 26,被支承在基座框架11的基座框架14上。g卩，支承板24在基座框架 14上可以向正交的兩方向進(jìn)行位置調(diào)整。另外，在該支承板24上通過滑 動(dòng)機(jī)構(gòu)27安裝有支承桿28,支承桿28對(duì)收納在液槽20內(nèi)的噴嘴22進(jìn)行 支承。上述滑動(dòng)機(jī)構(gòu)27通過未圖示的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)支承桿28相對(duì)于支承板 24在上下方向上進(jìn)行移動(dòng)操作(噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu))。SP，液槽20和噴 嘴22相互獨(dú)立，可以相對(duì)于支承板24在上下方向上進(jìn)行移動(dòng)操作。
圖4是示出上述涂布機(jī)構(gòu)2的主要部分的構(gòu)成的剖面圖。如圖4所示， 上述支承桿28通過設(shè)置在液槽20底面的透孔20b,使其上端側(cè)進(jìn)入到該 液槽20內(nèi)。該支承桿28的上端部安裝有上述噴嘴22。 gp，噴嘴22被支 承桿28支承，并被收納在液槽20內(nèi)。該噴嘴22構(gòu)成為具有至少與上述 基板10的橫方向(圖4中為與紙面正交的方向)的長(zhǎng)度相當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度(橫 向?qū)挾?，沿著該方向(長(zhǎng)度方向)，具有夾縫(slit)狀的毛細(xì)管狀間隙 23。并且該噴嘴22具有夾著該毛細(xì)管狀間隙23而前端側(cè)的寬度變窄變尖 的剖面形狀。該毛細(xì)管狀間隙23的上端部在噴嘴22的前端部，在該噴嘴 22的大致全長(zhǎng)(橫向?qū)挾?上呈夾縫狀開口。另外，該毛細(xì)管狀間隙23 也向噴嘴22的下方側(cè)開口。
另外，在液槽20的上面部設(shè)有噴嘴22的前端部向該液槽20的上方 側(cè)突出用的透孔部20a，并且，由于盡可能防止液槽20內(nèi)的涂布液21接 觸大氣，所以液槽20的上面部具有上端側(cè)的寬度越來越窄的剖面形狀。 另外，液槽20的底面的透孔20b的周圍和噴嘴22的底面由蛇腹29連接， 防止從上述透孔20b漏出液槽20內(nèi)的涂布液21。
圖5是示出上述涂布機(jī)構(gòu)2進(jìn)行涂布的狀態(tài)的剖面圖。
艮P，如圖5所示，通過噴嘴22的夾縫狀的毛細(xì)管狀間隙23 (間隙間 隔T)處的毛細(xì)管現(xiàn)象，使積存在液槽20的涂布液21上升，使噴嘴22 的前端部(上端部)隔著規(guī)定的涂布間隙G接近于朝下的基板IO的被涂
14布面10a,使上升到噴嘴前端部的涂布液通過該噴嘴前端部接觸于上述基
板10的被涂布面10a，同時(shí)使基板10和噴嘴22相對(duì)且與被涂布面10a平 行地移動(dòng)，在基板10的被涂布面10a上涂布涂布液21而形成涂布膜。此 時(shí)的基板10和噴嘴22的相對(duì)移動(dòng)方向如圖5中的箭頭V所示，是噴嘴 22的前端部中與毛細(xì)管狀間隙23形成的夾縫狀的開口正交的方向。
接著，進(jìn)一步詳細(xì)說明上述涂布裝置的涂布機(jī)構(gòu)2的動(dòng)作，并說明使 用該涂布裝置實(shí)施的掩模坯件制造中的抗蝕劑膜形成工序。
本發(fā)明的涂布裝置，其特征在于具有液面高度控制機(jī)構(gòu)，該液面高 度控制機(jī)構(gòu)在對(duì)被涂布面涂布涂布液的過程中進(jìn)行控制，使得上述液槽內(nèi) 的涂布液的液面高度一定。
圖6是示出該液面高度控制機(jī)構(gòu)的第一實(shí)施方式的概略剖面圖。本實(shí) 施方式的液面高度控制機(jī)構(gòu)，是在對(duì)被涂布面涂布涂布液的過程中在向上 述液槽內(nèi)補(bǔ)給涂布液的同時(shí)控制液槽內(nèi)的液面高度的機(jī)構(gòu)。另外，在圖6 中與上述圖5相同的位置標(biāo)注相同的符號(hào)。
在圖6所示的構(gòu)成中，設(shè)有通過液槽20的側(cè)壁開口部61與液槽20 相連的連通管60，在該連通管60的上部開口的上方配置有涂布液(在此 是液狀的抗蝕劑)的滴下機(jī)構(gòu)62。
接著，說明該涂布機(jī)構(gòu)2的動(dòng)作。
(1) 在一次涂布結(jié)束后，使液槽20下降到規(guī)定位置，另外使噴嘴22 浸漬在液槽20中的涂布液21 (液狀抗蝕劑)中(是圖4所示的狀態(tài)，是 所謂的液槽20和噴嘴22的位置的初始狀態(tài))。
(2) 在接下來的涂布之前，在噴嘴22浸漬在液槽20中的涂布液21 中的狀態(tài)下，使噴嘴22和液槽20上升到規(guī)定位置，在此，僅使噴嘴22 突出，將噴嘴22前端的涂布液接液到被涂布面(掩模坯件基板的被涂布 面)上。然后，在維持接液的狀態(tài)下，對(duì)應(yīng)于希望的涂布膜厚，使噴嘴22
(和/或液槽20)下降規(guī)定量，對(duì)噴嘴22和被涂布面的涂布間隙G進(jìn)行適 當(dāng)調(diào)整。然后，通過使基板(被涂布面)和噴嘴22相對(duì)移動(dòng)(在本實(shí)施 方式中，僅移動(dòng)基板)，由此開始涂布。
本來，在涂布中由于消耗液槽20內(nèi)的抗蝕劑，所以液槽20內(nèi)的液面 高度逐漸降低，但是在本實(shí)施方式中，通過上述抗蝕劑的滴下機(jī)構(gòu)62將
15抗蝕劑補(bǔ)給到液槽20內(nèi)，同時(shí)進(jìn)行控制使得液槽20內(nèi)的抗蝕劑的液面高 度一定。因此，可以降低在基板面內(nèi)開始涂布時(shí)和涂布結(jié)束時(shí)的涂布膜厚 的偏差不均，可以使基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性提高。
(3)這樣，當(dāng)一次涂布結(jié)束時(shí)，再?gòu)纳鲜?1)的工序?qū)嵤?。然后?通過以上的涂布工序，得到在基板上形成均勻的抗蝕劑膜的掩模坯件。
涂布中抗蝕劑的補(bǔ)給量是與通過一次涂布而消耗的液槽20內(nèi)的抗蝕
劑量大致相同的量，但是優(yōu)選預(yù)先針對(duì)各種大小的基板設(shè)定抗蝕劑的涂布
量，考慮設(shè)定的涂布量，預(yù)先設(shè)定基于上述滴下機(jī)構(gòu)62的抗蝕劑的補(bǔ)給 量(滴下量)。另外，還可以在涂布中連續(xù)實(shí)施基于上述滴下機(jī)構(gòu)62的 抗蝕劑的補(bǔ)給，另外也可以在可進(jìn)行控制的范圍間歇實(shí)施補(bǔ)給，以將液面 高度控制為一定。另外，上述液槽20如上所述，由于具有比基板的橫方 向的一邊長(zhǎng)度更長(zhǎng)的橫向?qū)挾?，另外由于液狀的抗蝕劑具有稍高的粘度， 所以為了在液槽20的長(zhǎng)度方向(橫向?qū)挾确较?上進(jìn)行更嚴(yán)密的液面高 度的控制，更優(yōu)選不只是在一處，而是在液槽20的長(zhǎng)度方向上設(shè)置多處 的基于上述滴下機(jī)構(gòu)62的抗蝕劑的補(bǔ)給位置。
圖7是示出上述液面高度控制機(jī)構(gòu)的第二實(shí)施方式的概略剖面圖。另 外，在圖7中，對(duì)與上述圖5相同的位置標(biāo)注相同的符號(hào)。
本實(shí)施方式的液面高度控制機(jī)構(gòu)是在對(duì)被涂布面涂布涂布液的過程 中， 一邊向上述液槽內(nèi)壓出抗蝕劑來進(jìn)行補(bǔ)給， 一邊控制液槽內(nèi)的液面高 度的機(jī)構(gòu)。
在圖7所示的結(jié)構(gòu)中，配置有抗蝕劑的壓出機(jī)構(gòu)64，其具有通過液槽 20的側(cè)壁開口部63與液槽20相連的補(bǔ)給管70。
在本實(shí)施方式中，可以進(jìn)行控制使得在涂布中利用上述抗蝕劑的壓出 機(jī)構(gòu)64將抗蝕劑補(bǔ)給到液槽20內(nèi)，同時(shí)將液槽20內(nèi)的抗蝕劑的液面控 制在一定高度，因此，可以降低在基板面內(nèi)涂布開始時(shí)和涂布結(jié)束時(shí)的涂 布膜厚的偏差不均，可以提高基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性。
在涂布中抗蝕劑的補(bǔ)給量是與通過一次涂布而消耗的液槽20內(nèi)的抗 蝕劑劑量大致相同的量，但是優(yōu)選考慮預(yù)先針對(duì)各種大小的基板設(shè)定的抗 蝕劑的涂布量，預(yù)先設(shè)定基于上述壓出機(jī)構(gòu)64的抗蝕劑的補(bǔ)給量(壓出 量)。還可以連續(xù)實(shí)施基于上述壓出機(jī)構(gòu)64的抗蝕劑的補(bǔ)給，另外也可
16以在可進(jìn)行控制的范圍間歇實(shí)施補(bǔ)給，以將液面高度控制為一定。另外， 在本實(shí)施方式中，為了使在液槽20的長(zhǎng)度方向(橫向?qū)挾确较?上的液 面高度盡可能均勻，更優(yōu)選不只是在一處，而是在液槽20的長(zhǎng)度方向上 設(shè)置多處的基于上述壓出機(jī)構(gòu)64的抗蝕劑的補(bǔ)給位置。
圖8是示出上述液面高度控制機(jī)構(gòu)的第三實(shí)施方式的概略剖面圖。另 外，在圖8中，與上述圖5相同的位置標(biāo)注相同符號(hào)。
本實(shí)施方式的液面高度控制機(jī)構(gòu)是在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的過程 中，將上述液槽內(nèi)的抗蝕劑提升上去，來控制液槽內(nèi)的液面高度的機(jī)構(gòu)。
圖8所不的結(jié)構(gòu)中，通過液槽20的側(cè)壁開口部65與液槽20相連的 連通U字管66被安裝成倒U字狀。
在本實(shí)施方式中，涂布中從上述連通U字管66的開口側(cè)插入提升部 件67，通過提升液槽20內(nèi)的抗蝕劑，可以將液槽20內(nèi)的抗蝕劑的液面控 制在一定高度。因此，可以減小基板面內(nèi)涂布開始時(shí)和涂布結(jié)束時(shí)的涂布 膜厚的偏差，可以提高基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性。作為從上述連通U 字管66的開口側(cè)插入提升部件67的具體方法，合適的方法有在連通U字 管內(nèi)推頂起以保持氣密性的方式制作的汽缸狀的固體的方法，或?qū)刮g劑 或其它的不揮發(fā)性液體施加壓力的方法等。
在本實(shí)施方式中，預(yù)先針對(duì)每個(gè)基板的大小，通過設(shè)定涂布中因液槽 20內(nèi)的抗蝕劑的消耗而引起的液面高度的下降量，考慮了設(shè)定的液面高度 的下降量之后，優(yōu)選預(yù)先設(shè)定基于上述提升部件67的液槽20內(nèi)的抗蝕劑 的提升量(提升何種程度)。可以連續(xù)實(shí)施液槽20內(nèi)的抗蝕劑的提升， 另外也可以在可控制的范圍內(nèi)間歇實(shí)施以使液面高度一定。另外，在本實(shí) 施方式中，為了盡可能使液槽20的長(zhǎng)度方向(橫寬方向)上的液面高度 均勻，優(yōu)選將抗蝕劑的提升位置不設(shè)置在一個(gè)位置，而優(yōu)選在液槽20的 長(zhǎng)度方向上將其設(shè)置在多個(gè)位置上。
圖9是示出上述液面高度控制機(jī)構(gòu)的第四實(shí)施方式的概略剖面圖。另 外，在圖9中，對(duì)于與上述圖5相同的位置標(biāo)注相同的符號(hào)。
根據(jù)本實(shí)施方式的液面高度控制機(jī)構(gòu)，與上述的第三實(shí)施方式相同， 是一種在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，提升上述液槽內(nèi)的抗蝕劑來控 制液槽內(nèi)的液面高度的機(jī)構(gòu)。在圖9所示的結(jié)構(gòu)中，通過在液槽20的側(cè)壁上設(shè)置的插入部69，設(shè) 置在液槽20內(nèi)插脫自如的抗蝕劑提升機(jī)構(gòu)68。該提升機(jī)構(gòu)68具有插入到 液槽20內(nèi)，提升抗蝕劑，可以對(duì)液面高度進(jìn)行控制使其上升的程度的形 狀、大小等。其材質(zhì)只要能夠起到本發(fā)明的效果就不特別限定。
在本實(shí)施方式中，在涂布中，通過將上述提升機(jī)構(gòu)68插入液槽20內(nèi)， 提升液槽20內(nèi)的抗蝕劑，可以將液槽20內(nèi)的抗蝕劑的液面控制在一定高 度，由此，可以減小基板面內(nèi)涂布開始時(shí)和涂布結(jié)束時(shí)的涂布膜厚的偏差， 可以提高基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性。
在本實(shí)施方式中，預(yù)先針對(duì)每個(gè)基板的大小，通過設(shè)定涂布中液槽20 內(nèi)的抗蝕劑的消耗引起的液面高度的下降量，考慮了設(shè)定的液面高度的下 降量之后，優(yōu)選預(yù)先設(shè)定上述提升機(jī)構(gòu)68的插入量(插入速度等)?；?者可以一邊用傳感器檢測(cè)涂布中的液槽內(nèi)的液面高度， 一邊調(diào)節(jié)提升機(jī)構(gòu) 68的插入量。可以連續(xù)實(shí)施液槽20內(nèi)的抗蝕劑的提升，另外也可以在可 控制的范圍內(nèi)間歇實(shí)施以使液面高度一定。另外，為了盡可能均勻地控制 液槽20的長(zhǎng)度方向(橫寬方向)上的液面高度，上述抗蝕劑的提升機(jī)構(gòu) 68優(yōu)選在液槽20的長(zhǎng)度方向上設(shè)置成與液槽的橫向?qū)挾却笾孪嗤潭鹊?寬度。
根據(jù)以上說明的本發(fā)明的涂布裝置，可以適當(dāng)實(shí)施在本發(fā)明的掩模坯 件制造方法中的抗蝕劑膜的形成工序。即，在使用本發(fā)明的涂布裝置在掩 模坯件基板表面上形成光致抗蝕劑等涂布膜時(shí)，由于具有在對(duì)基板表面涂 布涂布液的涂布中，將液槽內(nèi)的涂布液的液面高度控制在一定高度的液面 高度控制機(jī)構(gòu)，所以可以使在基板面內(nèi)的涂布膜厚的偏差減小，可以提高 基板面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性。在基板尺寸是大尺寸的情況下，涂布液消 耗引起的面內(nèi)的膜厚的傾斜度大，根據(jù)本發(fā)明，由于可以更有效提高基板 面內(nèi)的涂布膜厚的均勻性，所以本發(fā)明的涂布裝置特別適合大型尺寸的帶 抗蝕劑膜的掩模坯件的制造。
接著，說明抑制液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面高度的變動(dòng)的方法、手段的具 體實(shí)施方式。
本發(fā)明的涂布裝置的特征在于具有液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)，其在對(duì) 被涂布面涂布涂布液的過程中，抑制上述液槽內(nèi)的涂布液的液面高度的變動(dòng)。
圖10是示出該液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)的一實(shí)施方式的概略剖面圖。 根據(jù)本實(shí)施方式的液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)，是一種在對(duì)被涂布面涂布涂布 液的過程中利用與上述液槽連通的緩沖槽來抑制液槽內(nèi)的液面高度的變 動(dòng)的機(jī)構(gòu)。另外，在圖10中，對(duì)于與上述圖5相同的位置標(biāo)注相同的符 號(hào)。
在圖IO所示的結(jié)構(gòu)中，設(shè)有不同于液槽20的收容涂布液(在此是液
狀抗蝕劑)21的緩沖槽80，通過連接液槽20的側(cè)壁開口部82和緩沖槽 80的側(cè)壁開口部83的連通管81，將液槽20和緩沖槽80連通起來。該緩 沖槽80收容抗蝕劑，且通過與液槽20連通，在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑的 過程中，可以起到緩和、抑制隨著液槽20內(nèi)的抗蝕劑的消耗引起的液面 下降的作用，并且緩沖槽80是考慮了液槽20的形狀、大小(液面面積) 等，而具有上述作用的程度的形狀、大小(液面面積)等的結(jié)構(gòu)。特別地， 優(yōu)選根據(jù)涂布的基板的最大尺寸、必要時(shí)的抗蝕劑膜厚的均勻性，來決定 緩沖槽80和液槽20的液面面積的總和。 接著，說明該涂布機(jī)構(gòu)2的動(dòng)作。
(1) 在一次涂布結(jié)束后，使液槽20下降到規(guī)定位置，另外使噴嘴22 浸漬在液槽20中的涂布液21 (液狀抗蝕劑)中(是圖4所示的狀態(tài)，是 所謂的液槽20和噴嘴2 2的位置的初始狀態(tài))。
(2) 在下一次涂布前，在噴嘴22浸漬在液槽20中的涂布液21中的 狀態(tài)下，使噴嘴22和液槽20上升到規(guī)定位置，在此僅使噴嘴22突出， 使噴嘴22前端的涂布液接觸在被涂布面上(掩模坯件基板的被涂布面)。 然后，在維持接觸的狀態(tài)下，根據(jù)所希望的涂布膜厚使噴嘴22 (和/或液 槽20)下降規(guī)定量，適當(dāng)調(diào)整噴嘴22和被涂布面的涂布間隙G。然后， 通過使基板(被涂布面)和噴嘴22相對(duì)移動(dòng)(在本實(shí)施方式中僅使基板 移動(dòng))，開始涂布。
本來在涂布中由于消耗液槽20內(nèi)的抗蝕劑，所以液槽20內(nèi)的液面高 度逐漸下降，但是在本實(shí)施方式中，通過上述緩沖槽80的緩沖作用，可 以有效抑制液槽20內(nèi)的抗蝕劑的液面(高度)的下降。因此，可以減小 在基板面內(nèi)涂布開始時(shí)和涂布結(jié)束時(shí)的涂布膜厚的偏差，可以提高基板內(nèi)的涂布膜厚的均勻性。
另外，在涂布時(shí)的氣流不亂流，且不與可動(dòng)部分干涉的范圍，當(dāng)將液 槽20的形狀換成液面面積變得更大的形狀來實(shí)施時(shí)，可以得到更大的效 果。
(3)這樣，在一次涂布結(jié)束時(shí)，再次從上述(1)的工序?qū)嵤?。然后?通過以上的涂布工序，可以得到在基板上形成有均勻抗蝕劑膜的掩模坯 件。
根據(jù)以上說明的本發(fā)明的涂布裝置，可以適當(dāng)實(shí)施本發(fā)明的掩模坯件 幼法"生卡、、/土出的;tv^免IB貧:H^ c^丁虔日n 古/擊田"7lr^HB的、、A:frr華罷7t彌古苗
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坯件基板表面上形成光致抗蝕劑等涂布膜時(shí)，在對(duì)基板表面涂布涂布液的 涂布中，由于具有抑制液槽內(nèi)的涂布液的液面高度變動(dòng)的液面高度變動(dòng)抑 制機(jī)構(gòu)，所以可以使基板面內(nèi)的涂布膜厚的偏差降低，可以提高基板面內(nèi) 的涂布膜厚的均勻性。在基板尺寸是大尺寸時(shí)，因涂布液消耗引起的面內(nèi) 膜厚的傾斜度大，根據(jù)本發(fā)明，由于可以更有效地提高基板面內(nèi)的涂布膜 厚的均勻性，所以本發(fā)明的涂布裝置特別適合大型尺寸的帶抗蝕劑膜的掩 模坯件的制造。
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權(quán)利要求
1、一種掩模坯件的制造方法，其包括如下工序使從收容有液狀的抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜，其特征在于，在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中進(jìn)行控制，以使上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面高度一定。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模坯件的制造方法，其特征在于-在向上述液槽內(nèi)補(bǔ)充抗蝕劑的同時(shí)，控制液面高度。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模坯件的制造方法，其特征在于 提升上述液槽內(nèi)的抗蝕劑來控制液面高度。
4、 一種涂布裝置，其特征在于-該涂布裝置具有-噴嘴，其包括與前端開口部連通的間隙，經(jīng)過上述間隙將涂布液導(dǎo)向 上述前端開口部；液槽，其收容涂布液，通過使上述噴嘴的至少一部分浸漬在上述涂布液中而將涂布液供應(yīng)給上述噴嘴；噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)，其使上述噴嘴的上述前端開口部接近基板的被涂 布面，使被導(dǎo)向上述前端開口部的涂布液接觸到上述基板的被涂布面；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在通過上述噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)使上述噴嘴的上述前端開 口部接近基板的被涂布面的狀態(tài)下，使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)；以 及控制機(jī)構(gòu)，其控制上述噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)和上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，上述液槽具有液面高度控制機(jī)構(gòu)，在對(duì)上述被涂布面涂布涂布液的過程中，該液面高度控制機(jī)構(gòu)進(jìn)行控制以使上述液槽內(nèi)的涂布液的液面高度一定。
5、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布裝置，其特征在于 上述液面高度控制機(jī)構(gòu)是一邊向上述液槽內(nèi)補(bǔ)充涂布液， 一邊控制液面高度的機(jī)構(gòu)。
6、 根據(jù)權(quán)利要求4所述的涂布裝置，其特征在于上述液面高度控制機(jī)構(gòu)是提升上述液槽內(nèi)的涂布液來控制液面高度 的機(jī)構(gòu)。
7、 一種掩模坯件的制造方法，其特征在于，涂布液是液狀的抗蝕劑， 并且包括如下工序在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上 使用權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的涂布裝置涂布上述涂布液，形成抗蝕 劑膜。
8、 一種掩模坯件的制造方法，其包括如下工序使從收容有液狀的 抗蝕劑的液槽通過噴嘴到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形 成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使上述基板和上述噴嘴相對(duì) 移動(dòng)，在上述被涂布面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜，其特征在于，在對(duì)上述被涂布面涂布抗蝕劑的過程中，抑制上述液槽內(nèi)的抗蝕劑的 液面高度的變動(dòng)。
9、 根據(jù)權(quán)利要求8所述的掩模坯件的制造方法，其特征在于 配置與上述液槽連通并收容抗蝕劑的緩沖槽，抑制上述液槽內(nèi)的液面下降。
10、 一種涂布裝置，其特征在于， 該涂布裝置具有噴嘴，其包括與前端開口部連通的間隙，經(jīng)過上述間隙將涂布液導(dǎo)向上述前端開口部；液槽，其收容涂布液，通過使上述噴嘴的至少一部分浸漬在上述涂布液中而將涂布液供應(yīng)給上述噴嘴；噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)，其使上述噴嘴的上述前端開口部接近基板的被涂布面，使被導(dǎo)向上述前端開口部的涂布液接觸到上述基板的被涂布面；移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其在通過上述噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)使上述噴嘴的上述前端開 口部接近基板的被涂布面的狀態(tài)下，使上述基板和上述噴嘴相對(duì)移動(dòng)；以 及控制機(jī)構(gòu)，其控制上述噴嘴接觸/分離機(jī)構(gòu)和上述移動(dòng)機(jī)構(gòu)，其中，上述液槽具有液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)，在向上述被涂布面涂布 涂布液的過程中，該液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)抑制上述液槽內(nèi)的涂布液的液 面高度的變動(dòng)。
11、 根據(jù)權(quán)利要求10所述的涂布裝置，其特征在于 上述液面高度變動(dòng)抑制機(jī)構(gòu)是設(shè)有與上述液槽連通并收容涂布液的緩沖槽的機(jī)構(gòu)。
12、 一種掩模坯件的制造方法，其特征在于，涂布液是液狀的抗蝕劑， 并且包括如下工序在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面 上，使用權(quán)利要求10或11所述的涂布裝置涂布上述涂布液，形成抗蝕劑 膜。
全文摘要
一種掩模坯件的制造方法及涂布裝置，其包括使從收容有液狀抗蝕劑(21)的液槽(20)通過噴嘴(22)到達(dá)噴嘴前端開口部的抗蝕劑接觸在具有用于形成轉(zhuǎn)印圖案的薄膜的基板的被涂布面上，通過使基板和噴嘴相對(duì)移動(dòng)，在被涂布面上涂布抗蝕劑來形成抗蝕劑膜的工序。在該抗蝕劑膜的形成工序中，在對(duì)被涂布面涂布抗蝕劑(21)的過程中，一邊向上述液槽(20)內(nèi)補(bǔ)充抗蝕劑，一邊進(jìn)行控制使得液槽內(nèi)的抗蝕劑的液面在一定高度。
文檔編號(hào)G03F1/68GK101470343SQ20081017783
公開日2009年7月1日 申請(qǐng)日期2008年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月29日
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