專利名稱：雙面鍍膜低輻射玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及低輻射玻璃制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及ー種雙面鍍膜低輻射玻璃，以及制備該雙面鍍膜低輻射玻璃的方法。
背景技術(shù)：
低輻射鍍膜玻璃也叫做Low-E玻璃，是指表面鍍上擁有極低表面輻射率的金屬或其他化合物組成的多層膜層的特種玻璃。Low-E玻璃是種綠色、節(jié)能、環(huán)保的玻璃產(chǎn)品。普通玻璃的表面輻射率在0. 84左右，Low-E玻璃的表面輻射率在0. 25以下。這種不到頭發(fā)絲百分之一厚度的低輻射膜層對遠(yuǎn)紅外熱輻射的反射率很高，能將80%以上的遠(yuǎn)紅外熱輻射反射回去，而普通透明浮法玻璃、吸熱玻璃的遠(yuǎn)紅外反射率僅在12%左右，所以Low-E玻璃具有良好的阻隔熱輻射透過的作用。目前常用的Low-E玻璃大概包括以下兩種，第一種在玻璃基體一面鍍制的ー層功能膜層，例如，中國專利文獻(xiàn)CN 202226780 U公開“ー種AZO光伏玻璃”，其是在普通或超白浮法玻璃基片的表面覆蓋AZO透明導(dǎo)電薄膜，導(dǎo)電薄膜厚80 800nm。使用該光伏玻璃的太陽能電池具有高導(dǎo)電性、高透過、霧度可控、可光刻的特點(diǎn)，并根據(jù)使用要求，對AZO膜的組成和各項(xiàng)性能進(jìn)行設(shè)計(jì)，使獲得的AZO薄膜具有良好的耐老化能力，滿足太陽能薄膜電池的使用要求。但是這種單層鍍膜玻璃的熱學(xué)性能不高，即u值不夠高，玻璃的隔絕紅外波段熱輻射的能力也很低；第ニ種在玻璃基體一面鍍制的復(fù)合層功能膜層，例如，中國專利文獻(xiàn)CN 102092960 A公開ー種“低輻射玻璃”，其從下往上依次包括玻璃基底、第一介質(zhì)層、第一阻擋層、過渡層、金屬層和第二阻擋層，作為優(yōu)化還可在第二阻擋層上鍍第二介質(zhì)層，過渡層促進(jìn)金屬層的生長使其盡快長成連續(xù)的結(jié)構(gòu)，使得玻璃可有高的紅外反射率且有高的可見 光透過率，而阻擋層充分保護(hù)金屬層使其發(fā)揮高紅外反射率的特性。這種玻璃具有以下缺陷1、膜層的層數(shù)多，以至于在生產(chǎn)此玻璃時(shí)需要經(jīng)過多次鍍膜エ序才能完成生產(chǎn)，生產(chǎn)過程復(fù)雜，輔助エ序繁多，生產(chǎn)難度高以及次品率高；2、膜層的層數(shù)多必然會降低整個(gè)鍍膜玻璃的透光性，因此透光性會因薄膜層數(shù)的增加而降低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的ー個(gè)目的，在于提供ー種雙面鍍膜低輻射玻璃，其熱學(xué)性能高，獲得的U值較高，并且也具有較強(qiáng)的隔絕紅外波段熱輻射的能力。本發(fā)明的ー個(gè)目的，在于提供ー種雙面鍍膜低輻射玻璃，其可見光透過率可達(dá)85%以上，紅外線透過率可在40%以下。本發(fā)明的另ー個(gè)目的，在于提供ー種雙面鍍膜低輻射玻璃的制作方法，通過采用磁控濺射鍍膜方法對玻璃基體進(jìn)行低輻射隔熱層的鍍制，使得玻璃基體兩側(cè)的薄膜更加穩(wěn)定可靠，整個(gè)制作エ藝簡単，輔助エ序少，生產(chǎn)難度低，合格率高，并且使生產(chǎn)出來的玻璃具有較高的熱學(xué)性能，較強(qiáng)的隔絕紅外波段熱輻射的能力、較高的透光率以及較低的紅外線透過率。
為達(dá)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案ー種雙面鍍膜低輻射玻璃，包括玻璃基體，所述玻璃基體的兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層。作為雙面鍍膜低輻射玻璃的一種優(yōu)選方案，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜是ー種光學(xué)透明導(dǎo)電薄膜，因其在可見光區(qū)透光性能非常好，所以被廣泛應(yīng)用于汽車或飛機(jī)的擋風(fēng)玻璃、平面液晶顯示器等。AZO薄膜因其原料豐富、價(jià)格低廉、材料無毒、易于摻雜和制備溫度低等諸多優(yōu)點(diǎn)而被認(rèn)為是最具發(fā)展?jié)摿Φ耐该鲗?dǎo)電薄膜之一。制備AZO薄膜的方法主要有磁控濺射法、脈沖激光沉積法、化學(xué)汽相沉積法、真空反應(yīng)蒸發(fā)法和溶膠-凝膠法等。其中磁控濺射法最為成熟，并已形成商業(yè)化生產(chǎn)。AZO膜的主要成分是ZnO，其禁帶寬度為3. 37eV，是ー種透光性較好的材料。純ZnO薄膜是本征半導(dǎo)體，在一定溫度下，總有ー些電子獲得足夠的能量，從價(jià)帶躍遷到導(dǎo)帶，成為導(dǎo)帶的自由電子，同時(shí)價(jià)帶出現(xiàn)等數(shù)量的空穴，但由這種激發(fā)產(chǎn)生的平衡載流子的數(shù)量很少，所以純ZnO薄膜的導(dǎo)電性很差，幾乎不導(dǎo)電。在ZnO薄膜中摻入淺能級雜質(zhì)III族元素Al, A Iャ離子，能級位于半導(dǎo)體禁帯，且靠近導(dǎo)帶底。Al的原子半徑與格點(diǎn)的Zn原子半徑相近，它將占據(jù)晶格格點(diǎn)，與周圍元素形成共價(jià)鍵。Al的價(jià)電子數(shù)比Zn多ー個(gè)，出現(xiàn)了弱束縛的電子，這個(gè)多余的電子只需要很少一點(diǎn)能量，就可以擺脫束縛并成為在ZnO薄膜中作共有化運(yùn)動(dòng)的自由電子，也就是成為導(dǎo)帶中的電子。由于AZO薄膜導(dǎo)電的非平衡載流子主要是電子，所以AZO薄膜為II型半導(dǎo)體。由于Al原子向?qū)峁╇娮?，所以Al原子為施主雜質(zhì)。AZO膜的電子載流子濃度為IO18 102°cnT3，電子遷移率為7 102cm2 / V S，室溫電阻率為KT1-KT4Q -Cm0電學(xué)穩(wěn)定性高，在室溫下放置一年以上仍然保持穩(wěn)定。由于AZO膜的禁帶寬度大于可見光子能量(3.1eV)，在可見光照射下不會引起本征激發(fā)，所以它對整個(gè)可見光是透明的?？梢姽鈪^(qū)的透射率高達(dá)80% 90 %，一定程度的Al摻雜對膜的透射率影響不大。作為ー種寬禁帶半導(dǎo)體，在AZO薄膜導(dǎo)帶上有相當(dāng)高的自由電子濃度，高濃度電子將引起可見光和紅外區(qū)電磁輻射的吸收。優(yōu)選的，所述低輻射隔熱層的厚度為0. 5 ii m 20 ii m。更加優(yōu)選的，所述低輻射隔熱層的厚度為2 ii m。優(yōu)選的，所述低輻射隔熱層的隔熱率u值為1. 5 3. 7ff/m2 K。更加優(yōu)選的，所述低輻射隔熱層的隔熱率u值為3W/m2 K。優(yōu)選的，所述玻璃基體為鋼化玻璃、浮法玻璃、噴砂玻璃、壓花玻璃、夾絲玻璃、中空玻璃、夾層玻璃、熱彎玻璃、防弾玻璃中的任意ー種。
其中，鋼化玻璃就是將普通退火玻璃先切割成要求尺寸，然后加熱到接近軟化點(diǎn)的700度左右，再進(jìn)行快速均勻的冷卻而得到(通常5 6mm的玻璃在700度高溫下加熱240秒左右，降溫150秒左右。8 IOmm玻璃在700度高溫下加熱500秒左右，降溫300秒左右?？傊?，根據(jù)玻璃厚度不同，選擇加熱降溫的時(shí)間也不同)。鋼化處理后玻璃表面形成均勻壓應(yīng)力，而內(nèi)部則形成張應(yīng)力，使玻璃的抗彎和抗沖擊強(qiáng)度得以提高，其強(qiáng)度約是普通退火玻璃的四倍以上。已鋼化處理好的鋼化玻璃，不能再作任何加工或受破損，否則就會“粉身碎骨”。鋼化玻璃具有以下優(yōu)點(diǎn)1、強(qiáng)度較之普通玻璃提高數(shù)倍，抗彎；2、使用安全，其承載能力増大改善了易碎性質(zhì)，即使鋼化玻璃破壞也呈無銳角的小碎片，對人體的傷害極大地降低了 ；3、鋼化玻璃的耐急冷急熱性質(zhì)較之普通玻璃有3 5倍的提高，一般可承受250度以上的溫差變化，對防止熱炸裂有明顯的效果。浮法玻璃是用海沙、石英砂巖粉、純堿、白云石等原料配制，經(jīng)熔窯高溫熔融，玻璃液從池窯連續(xù)流至并浮在金屬液面上，攤成厚度均勻平整、經(jīng)火焰拋光的玻璃帯，冷卻硬化后脫離金屬液，再經(jīng)退火切割而成的透明無色平板玻璃。浮法生產(chǎn)的成型過程是在通入保護(hù)氣體的錫槽中完成的。浮法玻璃應(yīng)用廣泛，分為著色玻璃、浮法銀鏡、浮法白玻/汽車擋風(fēng)級、浮法白玻/各類深加工級、浮法白玻/掃描儀級、浮法白玻/鍍膜級、浮法白玻/制鏡級。其中超白浮法玻璃具有廣泛的用途及廣闊的市場前景，主要應(yīng)用在高檔建筑、高檔玻璃加工和太陽能光電幕墻領(lǐng)域以及高檔玻璃家具、裝飾用玻璃、仿水晶制品、燈具玻璃、精密電子行業(yè)、特種建筑等。噴砂玻璃包括噴花玻璃和砂雕玻璃，它是經(jīng)自動(dòng)水平噴砂機(jī)或立式噴砂機(jī)在玻璃上加工成水平或凹雕圖案的玻璃產(chǎn)品，也可在圖案上加上色彩稱之謂“噴繪玻璃”，或與電腦刻花機(jī)配合使用，深雕淺刻，形成光彩奪目、栩栩如生的藝術(shù)精品。噴砂玻璃用高科技工藝使平面玻璃的表面造成侵蝕，從而形成半透明的霧面效果，具有一種朦朧的美感。性能上基本上與磨砂玻璃相似，不同的是改磨砂為噴砂。在居室的裝修中，主要用在表現(xiàn)界定區(qū)域卻互不封閉的地方，如在餐廳與客廳之間，可用噴砂玻璃制成一道精美的屏風(fēng)。壓花玻璃又稱花紋玻璃或滾花玻璃，是采用壓延方法制造的ー種平板玻璃，制造エ藝分為單輥法和雙輥法。單輥法是將玻璃液澆注到壓延成型臺上，臺面可以用鑄鐵或鑄鋼制成，臺面或軋輥刻有花紋，軋輥在玻璃液面碾壓，制成的壓花玻璃再送入退火窯。雙輥法生產(chǎn)壓花玻璃又分為半連續(xù)壓延和連續(xù)壓延兩種エ藝，玻璃液通過水冷的ー對軋輥，隨輥?zhàn)愚D(zhuǎn)動(dòng)向前拉引至退火窯，一般下輥表面有凹凸花紋，上輥是拋光輥，從而制成單面有圖案的壓花玻璃。壓花玻璃的理化性能基本與普通透明平板玻璃相同，僅在光學(xué)上具有透光不透明的特點(diǎn)，可使光線柔和，并具有陷私的屏護(hù)作用和一定的裝飾效果。壓花玻璃適用于建筑的室內(nèi)間隔，衛(wèi)生間門窗及需要要又需要阻斷視線的各種場合。夾絲玻璃也稱防碎玻璃和鋼絲玻璃。在壓延生產(chǎn)エ藝過程中是將絲網(wǎng)壓入半液態(tài)玻璃帶中而成型的ー種特殊玻璃。優(yōu)點(diǎn)是較普通玻璃強(qiáng)度高，玻璃遭受沖擊或溫度劇變吋，使其破而不缺，裂而不散，避免棱角的小塊碎片飛出傷人，如火災(zāi)蔓延，夾絲玻璃受熱炸裂時(shí)，仍能保持固定狀態(tài)，起到隔絕火勢的作用，故又稱防火玻璃。缺點(diǎn)是在生產(chǎn)過程中，絲網(wǎng)受高溫輻射容易氧化，玻璃表面有可能出現(xiàn)“銹斑” 一祥的黃色和氣泡。夾絲玻璃常用干天窗、天棚頂蓋，以及易受震動(dòng)的門窗上。中空玻璃是ー種良好的隔熱、隔音、美觀適用、并可降低建筑物自重的新型建筑材料，它是用兩片(或三片)玻璃，使用高強(qiáng)度高氣密性復(fù)合粘結(jié)劑，將玻璃片與內(nèi)含干燥劑的鋁合金框架粘結(jié)，制成的高效能隔音隔熱玻璃。中空玻璃多種性能優(yōu)越于普通雙層玻璃，因此得到了世界各國的認(rèn)可，中空玻璃是將兩片或多片玻璃以有效支撐均勻隔開并周邊粘結(jié)密封，使玻璃層間形成有干燥氣體空間的玻璃制品。其主要材料是玻璃、鋁間隔條、彎角栓、丁基橡膠、聚硫膠、干燥劑。夾層玻璃是由兩層或幾層玻璃片間夾嵌透明的塑料薄片，經(jīng)熱壓黏合而成的ー種安全玻璃。此種玻璃經(jīng)較大的沖擊和較劇烈的震動(dòng)，僅現(xiàn)裂紋，不致粉碎。熱彎玻璃是由平板玻璃加熱軟化在模具中成型，再經(jīng)退火制成的曲面玻璃。熱彎玻璃一般在電爐中進(jìn)行加工。熱彎爐有連續(xù)式與間歇式兩種，連續(xù)熱彎爐一般有5 6個(gè)室，11 13個(gè)エ位，大約幾十分鐘可以出ー塊成品。間歇式熱彎爐一般只有ー個(gè)室，升溫成型、退火均在ー個(gè)室內(nèi)完成，加工周期需數(shù)小時(shí)以至一、二十小時(shí)，適合制作小批量特大型熱彎玻璃。防弾玻璃是由玻璃(或有機(jī)玻璃)和優(yōu)質(zhì)工程塑料經(jīng)特殊加工得到的一種復(fù)合型材料，它通常是透明的材料，譬如PVB/聚碳酸酯纖維熱塑性塑料(一般為カ顯樹脂。它具有普通玻璃的外觀和傳送光的行為，對小型武器的射擊提供一定的保護(hù)。進(jìn)ー步的，此雙面鍍膜低輻射玻璃的可見光透過率可達(dá)85%以上，紅外線透過率在40%以下?！N如上述所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟a、鍍膜前準(zhǔn)備；將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；步驟b、第一面鍍膜；在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面設(shè)置ー套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣，氣壓為0.1 0. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 lOw/cm2，沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟C、第一次冷卻；第一面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出第一面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟d、第一次清洗以及烘干；將第一面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干;步驟e、第二面鍍膜；將第一面鍍膜的玻璃基體翻面后再次送入磁控濺射裝置中，使玻璃基體的第二面正對磁控濺射頭，抽取磁控濺射裝置內(nèi)的真空至5E_3Pa，開啟磁控濺射裝置對玻璃基體第ニ面進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣，氣壓為0.1 0. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 10w/cm2，沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟f、第二次冷卻；第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟g、第二次清洗以及烘干；將雙面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。優(yōu)選的，步驟b和步驟d中的エ藝參數(shù)優(yōu)選為濺射氣體氬氣的氣壓為0. 6Pa，加熱溫度為220°C，濺射功率為6w/cm2，沉積時(shí)間為90s。作為雙面鍍膜低輻 射玻璃的制備方法的一種優(yōu)選方案，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。優(yōu)選的，所述低輻射隔熱層的厚度為0. 5 ii m 20 ii m，隔熱率u值為1. 5 3. 7W/m2 K。ー種如上述所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，包括以下步驟步驟a、鍍膜前準(zhǔn)備；將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；步驟b、雙面同時(shí)鍍膜；在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面和第二面分別設(shè)置一套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面和第二面同時(shí)進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣，氣壓為0.1 0. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 IOw/cm2,沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟c、冷卻；玻璃基體的第一面和第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟d、清洗以及烘干；將雙面鍍膜的 玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。優(yōu)選的，步驟b中的エ藝參數(shù)優(yōu)選為濺射氣體氬氣的氣壓為0. 8Pa，加熱溫度為240°C，濺射功率為8w/cm2，沉積時(shí)間為95s。作為雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法的一種優(yōu)選方案，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。對比現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的有益效果為1、通過在玻璃基板兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層，可以使鍍膜玻璃具有較高的熱學(xué)性能，較強(qiáng)的隔絕紅外波段熱輻射的能力；2、通過將低輻射隔熱層采用AZO薄膜，可以運(yùn)用AZO薄膜自身的特性，在提高熱學(xué)性能和隔絕紅外波段熱輻射的能力的同吋，提高鍍膜玻璃的可見光透過率和降低鍍膜玻璃的紅外線透過率；3、通過采用磁控濺射鍍膜方法對玻璃基體進(jìn)行低輻射隔熱層的鍍制，使得玻璃基體兩側(cè)的薄膜更加穩(wěn)定可靠，并且整個(gè)制作エ藝簡単，輔助エ序少，生產(chǎn)難度低，合格率聞;4、通過玻璃基體上下兩面對應(yīng)設(shè)置兩套磁控濺射頭，可以使玻璃基體一次鍍制完兩面的薄膜，在保證了薄膜穩(wěn)定性的同時(shí)，提高了生產(chǎn)效率，減少了生產(chǎn)的輔助エ序，節(jié)約了生產(chǎn)的成本。


圖1為本發(fā)明所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、玻璃基體；2、低輻射隔熱層。
具體實(shí)施例方式如圖1所示，此實(shí)施例中所述的雙面鍍膜低輻射玻璃，包括玻璃基體1，玻璃基體I的兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層2，本實(shí)施例中，低輻射隔熱層2為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。低輻射隔熱層2的厚度為2 U m,且低輻射隔熱層2的隔熱率u值為3W/m2 K。本實(shí)施例中，玻璃基體I選用鋼化玻璃。此雙面鍍膜低輻射玻璃的可見光透過率可達(dá)85%以上，紅外線透過率在40%以下。雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，包括以下步驟第一歩、鍍膜前準(zhǔn)備，將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；第二步、第一面鍍膜，在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面設(shè)置ー套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面進(jìn)行磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜，濺射氣體為氬氣，氣壓為0. 6Pa，加熱溫度為220°C，濺射功率為6w/cm2，沉積時(shí)間為90s ；第三步、第一次冷卻，第一面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜，取出第一面鍍膜的玻璃基體，冷卻；第四步、第一次清洗以及烘干，將第一面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干；第五步、第二面鍍膜，將第一面鍍膜的玻璃基體翻面后再次送入磁控濺射裝置中，使玻璃基體的第二面正對磁控濺射頭，抽取磁控濺射裝置內(nèi)的真空至5E_3Pa，開啟磁控濺射裝置對玻璃基體第二面進(jìn)行磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜，濺射氣體為氬氣，氣壓為0. 6Pa，加熱溫度為220°C，濺射功率為6w/cm2，沉積時(shí)間為90s ；第六步、第二次冷卻，第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；第七步、第二次清洗以及烘干，將雙面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。為了加快鍍膜的速度，還可以采用下列制備方法對玻璃基板鍍膜第一歩、鍍膜前準(zhǔn)備，將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；第二步、雙面同時(shí)鍍膜，在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面和第二面分別設(shè)置ー套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面和第二面同時(shí)進(jìn)行磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜，濺射氣體為氬氣，氣壓為0. 8Pa，加熱溫度為240°C，濺射功率為8w/cm2，沉積時(shí)間為95s ；第三歩、冷卻，玻璃基體的第一面和第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；第四步、清洗以及烘干，將雙面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本發(fā)明的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本發(fā)明的原理，而不能以任何方式解釋為對本發(fā)明保護(hù)范圍的限制?；诖颂幍慕忉?，本領(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本發(fā)明的其它具體實(shí)施方式

，這些方式都將落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種雙面鍍膜低輻射玻璃，其特征在于，包括玻璃基體，所述玻璃基體的兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙面鍍膜低輻射玻璃，其特征在于，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面鍍膜低輻射玻璃，其特征在于，所述低輻射隔熱層的厚度為O. 5 μ m 20 μ m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面鍍膜低輻射玻璃，其特征在于，所述低輻射隔熱層的隔熱率u值為1. 5 3. 7ff/m2 · K。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的雙面鍍膜低輻射玻璃，其特征在于，所述玻璃基體為鋼化玻璃、浮法玻璃、噴砂玻璃、壓花玻璃、夾絲玻璃、中空玻璃、夾層玻璃、熱彎玻璃、防彈玻璃中的任意一種。
6.一種如權(quán)利要求1至5任一所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，包括以下步驟步驟a、鍍膜前準(zhǔn)備；將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；步驟b、第一面鍍膜；在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面設(shè)置一套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣， 氣壓為O.1 O. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 lOw/cm2，沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟C、第一次冷卻；第一面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出第一面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟d、第一次清洗以及烘干；將第一面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干； 步驟e、第二面鍍膜；將第一面鍍膜的玻璃基體翻面后再次送入磁控濺射裝置中，使玻璃基體的第二面正對磁控濺射頭，抽取磁控濺射裝置內(nèi)的真空至5E_3Pa，開啟磁控濺射裝置對玻璃基體第二面進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣，氣壓為O.1 O. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 10w/cm2，沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟f、第二次冷卻；第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟g、第二次清洗以及烘干；將雙面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，所述低輻射隔熱層的厚度為O. 5 μ m 20 μ m，隔熱率u值為1. 5 3. 7ff/m2 · K。
9.一種如權(quán)利要求1至5任一所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，包括以下步驟步驟a、鍍膜前準(zhǔn)備；將玻璃基體經(jīng)過超聲波清洗，烘干后送入磁控濺射裝置；步驟b、雙面同時(shí)鍍膜；在磁控濺射裝置內(nèi)對應(yīng)玻璃基體的第一面和第二面分別設(shè)置一套磁控濺射頭，對磁控濺射裝置抽取真空至5E_3Pa，對玻璃基體的第一面和第二面同時(shí)進(jìn)行磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，濺射氣體為氬氣，氣壓為O.1 O. 9Pa，加熱溫度為200 250°C，濺射功率為5 IOw/cm2,沉積時(shí)間為85s IOOs ；步驟C、冷卻；玻璃基體的第一面和第二面鍍膜完成后，停止磁控濺射鍍制低輻射隔熱層，取出雙面鍍膜的玻璃基體，冷卻；步驟d、清洗以及烘干；將雙面鍍膜的玻璃基體送入清洗機(jī)，進(jìn)行清洗，清洗完成后送入烘干機(jī)進(jìn)行烘干，完成玻璃基體鍍膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的雙面鍍膜低輻射玻璃的制備方法，其特征在于，所述低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。
全文摘要
本發(fā)明公開一種雙面鍍膜低輻射玻璃，包括玻璃基體，玻璃基體的兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層，低輻射隔熱層為摻鋁氧化鋅(AZO)薄膜層。通過在玻璃基板兩側(cè)均設(shè)置低輻射隔熱層，可以使鍍膜玻璃具有較高的熱學(xué)性能，較強(qiáng)的隔絕紅外波段熱輻射的能力；通過將低輻射隔熱層采用AZO薄膜，可以運(yùn)用AZO薄膜自身的特性，在提高熱學(xué)性能和隔絕紅外波段熱輻射能力的同時(shí)，提高鍍膜玻璃的可見光透過率和降低鍍膜玻璃的紅外線透過率。
文檔編號B32B9/04GK103029379SQ201210531
公開日2013年4月10日 申請日期2012年12月10日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月10日
發(fā)明者趙瑋, 陳宇 申請人:廣東志成冠軍集團(tuán)有限公司