減反膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了減反膜玻璃，其包括玻璃基體，該減反膜玻璃還包括形成于該玻璃基體表面的四層減反膜，該四層減反膜由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜依次層疊形成；在該四層減反膜中，最靠近該玻璃基體表面的為高折射率介質(zhì)膜，遠(yuǎn)離該玻璃基體表面的最外層為低折射率介質(zhì)膜。上述減反膜玻璃具有易于規(guī)模生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】
減反膜玻璃
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及特種玻璃制備領(lǐng)域，特別是涉及一種減反膜玻璃。
【背景技術(shù)】
[0002] 眾所周知光在兩種介質(zhì)的界面上會(huì)發(fā)生反射現(xiàn)象，當(dāng)光垂直照射到未鍍膜的玻璃 表面時(shí)，其反射光約占到入射光的8%。在很多光學(xué)元件的應(yīng)用中，其表面的反射不僅影響光 學(xué)元件的通光能量，而且這些反射光還會(huì)在儀器中形成雜散光，從而影響光學(xué)儀器的成像 質(zhì)量。為了解決這些問題，通常在光學(xué)元件的表面鍍上一定厚度的單層或多層薄膜，目的是 為了減少元件表面的反射光，這樣的光學(xué)膜就是減反膜(Anti-reflection film)。
[0003] 減反膜的主要作用是減少或消除光學(xué)元件表面的反射光，從而增加這些元件的透 光量。
[0004] 減反膜玻璃是利用等厚干涉的原理:從同一點(diǎn)發(fā)出的光，在光學(xué)元件不同位置的 反射光線會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象，當(dāng)干涉相消時(shí)反射光線會(huì)減少或消失。
[0005] 光在雙層膜中的反射示意圖如圖2所示：
[0006] 其中no是空氣的折射率，m是薄膜1的折射率，n2是薄膜2的折射率，ng是鍍膜基體 的折射率。當(dāng)入射光照射到空氣與薄膜1的界面上時(shí)會(huì)產(chǎn)生反射光?和折射光，折射光到達(dá) 薄膜1與薄膜2的界面上也會(huì)產(chǎn)生反射，并且該反射光在薄膜1與空氣的界面折射出去形成 元件的反射光?，同理在薄膜2與基體介質(zhì)的表面反射的光學(xué)折射出元件后形成反射痛， 這三束反射光形成相干干涉滿足一定條件時(shí)會(huì)使得反射光量降低或減少，如當(dāng)滿足條件
，可在中心波長實(shí)現(xiàn)反射率為0。
[0007] 為了能在更寬的波長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)減反射，人們通常在光學(xué)元件上鍍多層減反膜來 實(shí)現(xiàn)。當(dāng)前市場上的多層減反膜很多，如宜昌南玻顯示器件有限公司設(shè)計(jì)的減反膜（申請(qǐng)?zhí)?201410816930.4)，它的結(jié)構(gòu)為 Si〇2/Nb2〇5/Si〇2/Nb2〇5/Si〇2/Nb2〇5/Si〇2/Nb2〇5/Si02/Si3N4， 這種減反膜具有單面全波段平均反射率低、硬度高，適合后續(xù)加工的特征。張家港康得新光 電材料有限公司設(shè)計(jì)的減反膜（申請(qǐng)?zhí)?01410042064.8)在介質(zhì)層中增加導(dǎo)電金屬層和抗 氧化金屬層，在工藝上實(shí)現(xiàn)卷繞鍍的方法。
[0008] 對(duì)于目前眾多的減反膜及其制備方法，存在著膜層層數(shù)多，生產(chǎn)工藝復(fù)雜，生產(chǎn)原 料消耗多，成本高等問題。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0009] 基于此，本實(shí)用新型的目的在于提供一種新的減反膜玻璃。
[0010] -種減反膜玻璃，其包括玻璃基體，該減反膜玻璃還包括形成于該玻璃基體表面 的四層減反膜，該四層減反膜由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜依次層疊形成;在該四 層減反膜中，最靠近該玻璃基體表面的為高折射率介質(zhì)膜，遠(yuǎn)離該玻璃基體表面的最外層 為低折射率介質(zhì)膜。
[0011] 該四層減反膜為依次形成在該玻璃基體表面的第一高折射率介質(zhì)膜、第一低折射 率介質(zhì)膜、第二高折射率介質(zhì)膜及第二低折射率介質(zhì)膜。
[0012] 所述的第一高折射率介質(zhì)膜材料為氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為5~30nm。
[0013] 所述的第一低折射率介質(zhì)膜材料為氧化硅，其厚度為20~60nm。
[0014] 所述的第二高折射率介質(zhì)膜材料為氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為20~130nm。
[0015] 所述的第二低折射率介質(zhì)膜材料為氧化硅，其厚度為70~150nm。
[0016] 上述減反膜玻璃在有效降低反射率的基礎(chǔ)上降低了膜層數(shù)量，而且保證在全角度 反射色呈中性，在生產(chǎn)上大大提高了制作效率，為在傳統(tǒng)的磁控濺射生產(chǎn)線上大面積、大規(guī) 模生產(chǎn)減反膜玻璃提供可能。
【附圖說明】
[0017] 圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施方式的減反膜玻璃的剖面示意圖；
[0018] 圖2為光在雙層膜中反射的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019] 為了便于理解本實(shí)用新型，下面對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行更全面的描述。但是，本實(shí)用新 型可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn)，并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地，提供這些實(shí)施例 的目的是使對(duì)本實(shí)用新型的公開內(nèi)容的理解更加透徹全面。
[0020] 如圖1所示的一實(shí)施方式的減反膜玻璃的剖面示意圖，其包括依次層疊的如下結(jié) 構(gòu):玻璃基體10、第一高折射率介質(zhì)膜20、第一低折射率介質(zhì)膜30、第二高折射率介質(zhì)膜40、 第二低折射率介質(zhì)膜50。第一高折射率介質(zhì)膜20、第一低折射率介質(zhì)膜30、第二高折射率介 質(zhì)膜40及第二低折射率介質(zhì)膜50構(gòu)成四層減反膜。四層減反膜中的各層介質(zhì)膜的折射率及 厚度可搭配來滿足相干干涉條件
[0021] 具體來說，第一高折射率介質(zhì)膜20和第二高折射率介質(zhì)膜40材料選擇相同，第一 低折射率介質(zhì)膜30和第二低折射率介質(zhì)膜材料50選擇相同。
[0022] 玻璃基體10可以為0.5mm以上厚的鈉鈣普通平板無色玻璃或低鐵超白平板玻璃。 [0023]第一高折射率介質(zhì)膜20可為氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為5~30nm。
[0024]第一低折射率介質(zhì)膜30可為氧化硅，其厚度為20~60nm。
[0025]第二高折射率介質(zhì)膜40可為氮化硅、氧化鈦或氧化鈮，其厚度為20~130nm。
[0026] 第二低折射率介質(zhì)膜50可為氧化硅，其厚度為70~150nm。
[0027] 通過控制減反膜各層介質(zhì)膜的折射率及厚度搭配來滿足相干干涉條件，從而達(dá)到 降低反射率到小于5%，減反膜玻璃全角度(從0°到180°)的反射色a*值介于(_3，1)，反射色 b*值介于(_3，1)。
[0028] 本實(shí)用新型還提供一種上述減反膜玻璃的制備方法，其包括如下步驟:首先、清洗 玻璃基體10，干燥后放置進(jìn)入磁控濺射區(qū)；接著，用中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極濺射沉積第一高折 射率介質(zhì)層20;接著，用中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極濺射沉積第一低折射率介質(zhì)層30;接著，用中 頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極濺射沉積第二高折射率介質(zhì)層40;然后，用中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極濺射沉 積第二低折射率介質(zhì)層50;從而形成上述減反膜玻璃。其中，上述中頻電源加旋轉(zhuǎn)陰極濺射 可以是在氬氧或氬氮氛圍中進(jìn)行
[0029] 上述減反膜玻璃在有效降低反射率的基礎(chǔ)上降低了膜層數(shù)量，而且保證在全角度 反射色呈中性，在生產(chǎn)上大大提高了制作效率，為在傳統(tǒng)的磁控濺射生產(chǎn)線上大面積、大規(guī) 模生產(chǎn)減反膜玻璃提供可能。
[0030] 以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上 的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟 悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi) 容做出些許更動(dòng)或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案內(nèi) 容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍 屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種減反膜玻璃，其包括玻璃基體，其特征在于，該減反膜玻璃還包括形成于該玻璃 基體表面的四層減反膜，該四層減反膜由高折射率介質(zhì)膜和低折射率介質(zhì)膜依次層疊形 成;在該四層減反膜中，最靠近該玻璃基體表面的為高折射率介質(zhì)膜，遠(yuǎn)離該玻璃基體表面 的最外層為低折射率介質(zhì)膜。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的減反膜玻璃，其特征在于，該四層減反膜為依次形成在該玻璃 基體表面的第一高折射率介質(zhì)膜、第一低折射率介質(zhì)膜、第二高折射率介質(zhì)膜及第二低折 射率介質(zhì)膜。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第一高折射率介質(zhì)膜材料為 氮化娃、氧化鈦或氧化銀，其厚度為5~30nm。4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第一低折射率介質(zhì)膜材料為 氧化娃，其厚度為20~60nm〇5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第二高折射率介質(zhì)膜材料為 氮化娃、氧化鈦或氧化銀，其厚度為20~130nm。6. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的減反膜玻璃，其特征在于，所述的第二低折射率介質(zhì)膜材料為 氧化娃，其厚度為70~150nm〇
【文檔編號(hào)】C03C17/34GK205501124SQ201620103368
【公開日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年2月2日
【發(fā)明人】蘇華, 于思遠(yuǎn)
【申請(qǐng)人】深圳新晶泉技術(shù)有限公司