一種低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃及生產(chǎn)方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及玻璃制品領(lǐng)域，具體涉及一種低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃及生產(chǎn)方法。
【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃(Low-E玻璃)可以在不顯著降低可見光透過率的同時(shí)，顯著降低由于熱福射產(chǎn)生的室內(nèi)外熱量交換，冬季可對室內(nèi)暖氣及室內(nèi)物體散發(fā)的熱福射，可以像熱反射鏡一樣將絕大部分反射回室內(nèi)，保證室內(nèi)熱量不向室外散失，從而節(jié)約取暖費(fèi)用。夏季可以阻止室外地面、建筑物發(fā)出的熱輻射進(jìn)入室內(nèi)，節(jié)約空調(diào)制冷費(fèi)用。Low-E玻璃的可見光反射率一般在11%以下，與普通白玻相近，低于普通陽光控制鍍膜玻璃的可見光反射率，可避免造成反射光污染。
[0003]現(xiàn)有技術(shù)中，離線Low-E玻璃膜系基本結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次包括第一介質(zhì)層、低輻射層和外層介質(zhì)層，第一層介質(zhì)膜:一般是金屬氧化物薄膜(Ti0X、Sn0、Zn0X等)或類似的絕緣膜，用來提高銀與玻璃表面的附著力，同時(shí)兼有調(diào)節(jié)膜系光學(xué)性能和顏色的作用；外層介質(zhì)膜:也是金屬氧化物膜或類似的絕緣膜，它既是減反射膜也是保護(hù)膜。在可見光和近紅外太陽能光譜中起減反射作用，以提高此波長范圍內(nèi)的太陽能透射比，同時(shí)保護(hù)銀膜，提高膜系的物化性能。另外，在銀膜與外層介質(zhì)膜之間通常加入很薄的一層阻擋層，其作用是防止銀膜受侵蝕。阻擋層一般選用N1-Cr的低價(jià)化合物，可以有效的提高膜層的化學(xué)和機(jī)械穩(wěn)定性。
[0004]但是位于外層的介質(zhì)層膜層不夠堅(jiān)硬，實(shí)際使用中經(jīng)常會造成劃傷，從而影響其內(nèi)側(cè)的低輻射層。因此，有必要對現(xiàn)有技術(shù)中的離線Low-E玻璃膜系結(jié)構(gòu)進(jìn)行改進(jìn)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種能有效防止劃傷、玻璃表面反射率低的低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板，玻璃基板的主表面上層疊設(shè)置有若干層濺射層，若干層濺射層自玻璃基板向外依次為第一介質(zhì)層、第一保護(hù)層、至少一個(gè)低輻射層和第二保護(hù)層組成的功能單元、第二介質(zhì)層和介質(zhì)保護(hù)層，介質(zhì)保護(hù)層的材質(zhì)為以硅鋯合金為靶材在氬氮混合氣氛中真空磁控濺射所得的氮化硅鋯。
[0007]氮化硅鋯的介質(zhì)保護(hù)層非常堅(jiān)硬，氮化硅具有優(yōu)良的機(jī)械性能，氮化鋯的抗腐蝕性強(qiáng)，且可使玻璃表面更光滑，氮化硅鋯兼具兩者優(yōu)點(diǎn)，可以對第二介質(zhì)層形成有效的防護(hù)，防止其劃傷以致影響內(nèi)側(cè)功能層的使用效果，而且氮化硅鋯具有較高的折射率，作為最外層的濺射層，使入射光發(fā)生折射的能力強(qiáng)，可見光透過率高。
[0008]為了兼顧介質(zhì)保護(hù)層的機(jī)械性能和折射率，優(yōu)選的技術(shù)方案為，硅鋯合金中硅含量為20?80%。
[0009]優(yōu)選的技術(shù)方案為，介質(zhì)保護(hù)層的厚度為2?20nm。
[0010]優(yōu)選的技術(shù)方案為，若干層濺射層還包含至少一層低反射率介質(zhì)層，低反射率介質(zhì)層的材質(zhì)為以鋅錫合金為靶材在氬氧混合氣氛中真空磁控濺射所得的氧化鋅錫，低反射率介質(zhì)層相鄰設(shè)置在低輻射層的內(nèi)側(cè)，低反射率介質(zhì)層的厚度為1?20nm。增加低反射率介質(zhì)層的鍍膜玻璃前后對比發(fā)現(xiàn)，玻璃表面反射率有所降低，同時(shí)可提高可見光的透射率。
[0011]優(yōu)選的技術(shù)方案為，鍍膜玻璃中含有一個(gè)功能單元，低反射率介質(zhì)層設(shè)置在第一保護(hù)層與相鄰的功能單元中的低輻射層之間。
[0012]優(yōu)選的技術(shù)方案為，鍍膜玻璃中含有至少兩個(gè)功能單元，低反射率介質(zhì)層設(shè)置在第一保護(hù)層與相鄰的功能單元中的低輻射層之間和/或相鄰的功能單元中第二保護(hù)層與外側(cè)的低輻射層之間。
[0013]現(xiàn)有技術(shù)中的鍍膜玻璃主要包括單層低輻射層和雙層低輻射層的，將低反射率介質(zhì)層加入上述的兩種鍍膜玻璃中均能一定程度上降低玻璃表面反射率，提高可見光的透射率。
[0014]優(yōu)選的技術(shù)方案為，鋅錫合金中錫的含量為55?80%。
[0015]本發(fā)明的另一目的還在于提供一種適于制造上述鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法，其特征在于，包括以下步驟:
51:對待鍍膜的玻璃基板進(jìn)行清洗干燥；
52:與真空過渡；
53:按照濺射層排列順序，自玻璃基板向外依次真空磁控濺射形成各濺射層，其中，介質(zhì)保護(hù)層以硅鋯合金為靶材，在氬氮混合氣氛中真空磁控濺射，氬氮混合比例為1: (1.5?
3)，濺射氣壓為30?50Pa，濺射功率為10kw。
[0016]其中，低反射率介質(zhì)層的材質(zhì)為以鋅錫合金為靶材，在氬氧混合氣氛中真空磁控派射所得的氧化鋅錫，氬氧混合比例為1: (1.5?3)，氬氧混合比例為1: (1.5?3)，派射氣壓為30?50Pa，濺射功率為20 kw*2。
[0017]本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和有益效果在于:
本發(fā)明通過在現(xiàn)有技術(shù)中位于鍍膜玻璃外層的介質(zhì)層表面派射氮化娃錯(cuò)材質(zhì)的介質(zhì)保護(hù)層，利用該介質(zhì)層優(yōu)良機(jī)械性能，對內(nèi)側(cè)的各濺射層形成有效保護(hù)；氮化硅鋯表面光滑，有助于提高鍍膜玻璃的手感和視覺效果；此外，介質(zhì)保護(hù)層還具有較高的折射率，可提高電介質(zhì)層對可見光的透過性，從而保證鍍膜玻璃的透明。
【附圖說明】
[0018]圖1是本發(fā)明低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3本發(fā)明低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃實(shí)施例3結(jié)構(gòu)示意圖；
圖4本發(fā)明低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃實(shí)施例4結(jié)構(gòu)示意圖；
圖5本發(fā)明低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃實(shí)施例5結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]圖中:1、玻璃基板；2、第一介質(zhì)層；3、第一保護(hù)層；4、低輻射層；5、第二保護(hù)層；6、第二介質(zhì)層；7、介質(zhì)保護(hù)層；8、低反射率介質(zhì)層。
【具體實(shí)施方式】
[0020]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步描述。以下實(shí)施例僅用于更加清楚地說明本發(fā)明的技術(shù)方案，而不能以此來限制本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0021]實(shí)施例1
如圖1所示，實(shí)施例1低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板1，玻璃基板1的主表面上層疊設(shè)置有若干層濺射層，若干層濺射層自玻璃基板1向外依次為第一介質(zhì)層2、第一保護(hù)層3、一個(gè)低輻射層4和第二保護(hù)層5組成的功能單元、第二介質(zhì)層6和介質(zhì)保護(hù)層7，介質(zhì)保護(hù)層7的材質(zhì)為以娃錯(cuò)合金為革E1材在氬氮混合氣氛中真空磁控濺射所得的氮化硅鋯。
[0022]硅鋯合金中硅含量為10% ;介質(zhì)保護(hù)層7的厚度為lnm。
[0023]實(shí)施例1的低反射耐高溫可鋼化耐磨的鍍膜玻璃橫截面的結(jié)構(gòu)自玻璃基板1向外依次為玻璃基板1、第一介質(zhì)層2、第一保護(hù)層3、低輻射層4、第二保護(hù)層5、第二介質(zhì)層6、介質(zhì)保護(hù)層7。
[0024]濺射采用設(shè)備為:自組裝22陰極鍍膜線。本地真空度5*10?6 mbar,工作壓力為 5*10 ?3mbar。
[0025]各層的材質(zhì)及濺射工藝步驟如下:
51:對待鍍膜的玻璃基板1進(jìn)行清洗干燥；
52:與真空過渡；
53:濺射形成各膜層，具體為:
第一介質(zhì)層2選用常規(guī)介質(zhì)氮化硅，膜層厚度為25nm左右。介質(zhì)層氮化硅制備方法為:靶材采用SiAl靶，一般采用的SiAl靶中硅鋁比例為90/10，濺射氣氛為氬氮混合氣氛，濺射功率為30kw*3，氬氣和氮?dú)獾耐ㄈ肓髁勘壤秊?00SCCM:900SCCM ；
第一保護(hù)層3選用高吸收金屬保護(hù)層，膜層厚度為5nm左右，具體材質(zhì)選用鎳鉻合金，即以鎳鉻比例為50/50的鎳鉻合金為靶材，濺射氣氛為氬氣氛，濺射功率5kw，濺射氬氣通入流量為1400 SCCM ；