單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型有關(guān)于一種單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片表面從底層向上依次鍍有氮化硅膜層、鉻膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層以及氮化硅膜層。本實(shí)用新型的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃輻射率低、耐磨性好，在鋼化加工過程中性能穩(wěn)定，鋼化前后透過率變化小。
【專利說明】單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種低輻射鍍膜玻璃，特別是涉及一種含有Cr薄膜的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。

【背景技術(shù)】
[0002]低輻射鍍膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉積一層金屬銀作為功能層，對太陽光中的近紅外線和生活環(huán)境中的遠(yuǎn)紅外線起反射作用，從而降低玻璃對紅外線的吸收率和輻射率，所以稱之為低輻射鍍膜玻璃。此種玻璃既可用于家庭窗戶，也可用于商店、寫字樓和高檔賓館的玻璃幕墻及其它需要的場所。夏天它可以有效阻止太陽光中的近紅外線進(jìn)入室內(nèi)，避免室內(nèi)溫度升高，節(jié)約空調(diào)費(fèi)用；冬天它可阻止室內(nèi)暖氣等產(chǎn)生的遠(yuǎn)紅外線逸出室夕卜，保持室內(nèi)溫度，節(jié)約取暖費(fèi)用?？射摶洼椛溴兡げＡ侵杆兡硬牧峡沙惺懿Ａт摶に囘^程且鋼化后其性能不發(fā)生明顯的變化。
[0003]可鋼化低輻射鍍膜玻璃的優(yōu)點(diǎn)是可極大地釋放低輻射鍍膜玻璃生產(chǎn)設(shè)備的產(chǎn)能，利于異地加工。現(xiàn)在市場上有單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，也有雙銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。所用的犧牲層薄膜材料通常都是純金屬NiCr。在玻璃鋼化過程中，NiCr薄膜被氧化，從而保護(hù)功能層銀層不被氧化。NiCr薄膜被氧化后，玻璃的透過率會發(fā)生較大變化。
[0004]有鑒于上述現(xiàn)有的可鋼化低輻射鍍膜玻璃存在的問題，本發(fā)明人基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實(shí)務(wù)經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學(xué)理的運(yùn)用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型結(jié)構(gòu)的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，能夠解決現(xiàn)有的可鋼化低輻射鍍膜玻璃存在的問題，使其更具有實(shí)用性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進(jìn)后，終于創(chuàng)設(shè)出確具實(shí)用價值的本實(shí)用新型。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本實(shí)用新型的目的是提供一種以含有鉻的薄膜作為犧牲層的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，所要解決的技術(shù)問題是利用鉻金屬性能穩(wěn)定、不易氧化的特性，通過在氮化硅膜層和鎳鉻膜層間嵌入鉻膜，共同保護(hù)銀膜不被氧化，以使含有鉻薄膜的低輻射鍍膜產(chǎn)品具有膜層性能穩(wěn)定、鋼化前后透過率變化小的特點(diǎn)。
[0006]本實(shí)用新型的目的是采用以下的技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的。本實(shí)用新型提供一種單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，在玻璃基片表面從底層向上依次鍍有氮化硅膜層、鉻膜層、鎳鉻膜層、銀膜層、鎳鉻膜層以及氮化硅膜層。
[0007]本實(shí)用新型的目的還可采用以下技術(shù)措施進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)。
[0008]較佳的，前述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的氮化硅膜層的厚度為35?50納米。
[0009]較佳的，前述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的鉻膜層的厚度為3?5納米。
[0010]較佳的，前述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的鎳鉻膜層的厚度為3?6納米。
[0011]較佳的，前述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其中所述的銀膜層的厚度為10納米。
[0012]本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點(diǎn)和有益效果。借由上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃至少具有下列優(yōu)點(diǎn)及有益效果:本實(shí)用新型的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃具有輻射率低、耐磨性好、在鋼化加工過程中性能穩(wěn)定，鋼化前后透過率變化小的特點(diǎn)。
[0013]上述說明僅是本實(shí)用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實(shí)用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實(shí)施，并且為了讓本實(shí)用新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實(shí)施例，并配合附圖，詳細(xì)說明如下。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0014]圖1是本實(shí)用新型的具體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0015]【主要元件符號說明】
[0016]1:玻璃基片 2:氮化硅膜層
[0017]3:鉻膜層4:鎳鉻膜層
[0018]5:銀膜層6:鎳鉻膜層
[0019]7:氮化硅膜層

【具體實(shí)施方式】
[0020]為更進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及功效，以下結(jié)合附圖及較佳實(shí)施例，對依據(jù)本實(shí)用新型提出的一種單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃的【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說明如后。
[0021]如圖1所示，本實(shí)用新型的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃包括:玻璃基片1，在玻璃基片表面從底層向上依次鍍制氮化硅(Si3N4)膜層2、鉻(Cr)膜層3、鎳鉻(NiCr)膜層4、銀(Ag)膜層5、鎳鉻(NiCr)膜層6以及氮化硅(Si3N4)膜層7，從而構(gòu)成六層膜結(jié)構(gòu)的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
[0022]本實(shí)用新型是在高真空環(huán)境下，用磁控濺射鍍膜機(jī)在浮法玻璃表面上鍍制六層納米材料膜的方法，通過精確控制每層膜的厚度和化合物比例來得到設(shè)計的折射率和消光系數(shù)，實(shí)現(xiàn)對太陽光譜的控制，而生產(chǎn)出的一種低輻射率、低遮陽系數(shù)的可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃，可提高其在鋼化過程中的性能穩(wěn)定性。
[0023]本實(shí)用新型的可鋼化單銀低輻射鍍膜玻璃是在工廠鍍膜機(jī)上按如下方法完成:首先鍍膜室抽真空至本底真空度5 X 10 _ 4Pa以下，充入工藝氣體(氬氣、氮?dú)?、氧?，使鍍膜室內(nèi)工藝氣體壓力穩(wěn)定在2.5 X 10 _ 1Pa左右，接通濺射電源，靶材開始濺射，玻璃經(jīng)清洗機(jī)清洗合格后進(jìn)入真空室，經(jīng)過靶材時，靶材原子或其化合物就會沉積到玻璃表面。第一個靶革巴材為娃招，工藝氣體為IS氣和氮?dú)?，將氮化?Si3N4)薄膜沉積到玻璃表面為第一層膜，厚度35至50納米；第二個靶靶材為金屬鉻(Cr)，工藝氣體為氬氣，將純金屬Cr薄膜沉積到氮化硅表面為第二層膜，厚度3至5納米；第三個靶靶材為金屬鎳鉻(NiCr)，工藝氣體為氬氣，將純金屬NiCr薄膜沉積到Cr表面為第三層膜，厚度3至6納米；第四個靶靶材為金屬銀(Ag)，工藝氣體為氬氣，將純金屬銀薄膜沉積到NiCr表面為第四層膜，厚度10納米；第五個祀祀材為金屬鎳鉻(NiCr),工藝氣體為IS氣,將純金屬NiCr薄膜沉積到銀表面為第五層膜，厚度3至6納米；第六個靶靶材為硅鋁，工藝氣體為氬氣和氮?dú)?，將氮化?Si3N4)薄膜沉積到NiCr表面為第六層膜，厚度35至50納米。
[0024]第一層氮化硅膜會增加膜與玻璃的結(jié)合力，第二層鉻膜會提高產(chǎn)品鋼化過程的穩(wěn)定性，第三層和第五層的鎳鉻膜主要起到保護(hù)銀層不被氧化的作用，第四層銀膜主要起降低玻璃輻射率的作用，第六層氮化硅膜采用納米陶瓷材料，克服了金屬材料易氧化、褪色等缺點(diǎn)，有效地提高了膜層的隔熱性能、耐劃傷性能、耐腐蝕性能、耐高溫性能。
[0025]以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對本實(shí)用新型作任何形式上的限制，雖然本實(shí)用新型已以較佳實(shí)施例揭露如上，然而并非用以限定本實(shí)用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同變化的等效實(shí)施例，但凡是未脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對以上實(shí)施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片(I)，其特征在于:在玻璃基片(I)表面從底層向上依次鍍有氮化硅膜層(2)、鉻膜層(3)、鎳鉻膜層(4)、銀膜層(5)、鎳鉻膜層(6)以及氮化硅膜層(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的氮化硅膜層⑵的厚度為35?50納米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的鉻膜層(3)的厚度為3?5納米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的鎳鉻膜層(4)的厚度為3?6納米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的銀膜層(5)的厚度為10納米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的鎳鉻膜層(6)的厚度為3?6納米。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單銀可鋼化低輻射鍍膜玻璃，其特征在于:所述的氮化硅膜層(7)的厚度為35?50納米。
【文檔編號】B32B15/04GK204149614SQ201420468659
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2014年8月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月19日
【發(fā)明者】白留森, 孟怡敏, 董明, 潘其真 申請人:洛陽新晶潤工程玻璃有限公司