一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃及其制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于玻璃技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃及其制備 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 低輻射鍍膜玻璃被證明是當(dāng)今最好的建筑節(jié)能玻璃。通過在普通玻璃表面鍍低輻 射膜而改善其性能，有效限制紅外光透過，充分降低玻璃兩側(cè)的熱交換，使其與普通玻璃和 傳統(tǒng)鍍膜玻璃相比，具有優(yōu)良的節(jié)能性能、光學(xué)性能和環(huán)保性能。低輻射鍍膜玻璃己被廣泛 應(yīng)用于世界各地的建筑中，特別是經(jīng)濟(jì)和科學(xué)技術(shù)比較發(fā)達(dá)的國家和地區(qū)。低輻射鍍膜本 身隨著研發(fā)的深入也在進(jìn)行著更新?lián)Q代，不僅滿足建筑設(shè)計潮流審美的需要，而且節(jié)能性 也得到進(jìn)一步提高。其中，三銀低輻射鍍膜玻璃因?yàn)槠渚哂懈偷募t外線透過率、輻射率和 傳熱系數(shù)，使其更節(jié)能，從而被廣泛應(yīng)用。
[0003] 但是，三銀低輻射鍍膜玻璃因膜層結(jié)構(gòu)復(fù)雜，在鋼化過程中容易產(chǎn)生鋼化后顏色 不穩(wěn)定、有色道、膜層擦拭實(shí)驗(yàn)不合格等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃， 該玻璃膜層能夠經(jīng)受700°C的高溫鋼化，鋼化后顏色穩(wěn)定，膜層鋼化后無外觀缺陷。
[0005] 本發(fā)明的目的之二在于提供所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的制備方法。
[0006] -種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，所述可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu) 為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù)合介質(zhì)層/第二銀層/第二保 護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì)層/氧化鋯膜。
[0007]較佳地，所述第一復(fù)合介質(zhì)層的厚度為20~50nm、第一銀層的厚度為5~15nm、第 一保護(hù)層的厚度為1~l-l〇nm、第二復(fù)合介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第二銀層的厚度為5~ 15nm、第二保護(hù)層的厚度為1~10nm、第三復(fù)合介質(zhì)層的厚度為55~llOnm、第三銀層的厚度 為5~15nm、第三保護(hù)層的厚度為1~10nm、第四復(fù)合介質(zhì)層的厚度為35~70nm、氧化錯膜的 厚度為3~10nm。厚度在一定的范圍內(nèi)，可起到減少摩擦，提升抗劃傷性能。太厚的話，表面 就過于粗糙，反而起到相反的效果。此膜層能夠有效增加膜系的抗劃傷性能，提高產(chǎn)品的可 處理加工特性，減少膜面劃傷等缺陷。
[0008] 較佳地，所述第一復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅和ΑΖ0;所述氮化硅的厚度為10 ~25nm、所述氧化鋅的厚度為5~15nm、所述ΑΖ0的厚度為5~10nm。較佳地，所述第一保護(hù) 層、第二保護(hù)層和第三保護(hù)層為鎳鉻層。
[0009] 較佳地，所述第二復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅和ΑΖ0,所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 ΑΖ0的厚度為5~10nm〇
[0010] 較佳地，所述第三復(fù)合介質(zhì)層包括氮化硅、氧化鋅錫、氧化鋅、ΑΖ0,所述氮化硅的 厚度為20~40nm、所述氧化鋅錫的厚度為20~40nm、所述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述 AZO的厚度為5~10nm〇
[0011] 較佳地，第四復(fù)合介質(zhì)層包括ΑΖ0、氧化鋅和氮化娃，所述ΑΖ0的厚度為5~10nm、所 述氧化鋅的厚度為10~20nm、所述氮化娃的厚度為20~40nm。制備所述可鋼化的三銀低福 射鍍膜玻璃，具體為:玻璃基片清洗一磁控濺射鍍膜一切割一磨邊一鋼化；
[0012] 其中，
[0013] 1)、底部SiN的N2量要較少;例如，氮化硅的基礎(chǔ)配比為，氬氣:氮?dú)?1000:900(單 位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮?dú)?1000:700，以形成致密的結(jié)構(gòu)，能夠增加 跟玻璃基片的結(jié)合力。
[0014] 2)、中間層SiN與上下的氧化物介質(zhì)層接觸的介面處通入少量的〇2,形成SiOxNy結(jié) 構(gòu)，與上下兩層的氧化物介質(zhì)層之間的結(jié)合力更好。例如，第二復(fù)合介質(zhì)層中，氮化硅的下 一層是氧化鋅錫，則在靠近氧化鋅錫的那層氮化硅將氣氛配比改為，氬氣：氮?dú)猓貉鯕? 1000 :900 : 50(單位：SCCM)，這里指的是兩層之間的介面處，形成SiOxNy的厚度一般為1~ 5nm〇
[0015] 3)、頂部Si_^N2量要多，形成應(yīng)力小的稍疏松結(jié)構(gòu)。例如，氮化硅的基礎(chǔ)配比為， 氬氣:氮?dú)?1000:900(單位:SCCM)，底部氮化硅氣氛配比則為，氬氣:氮?dú)?800:1100。 [0016] 4)、ZnSn0、ZnA10膜應(yīng)按化學(xué)計量比或者過氧工藝濺射以減少應(yīng)力。
[0017] 5)、頂部保護(hù)層Zr02高功率富02派射，以形成納米微晶粗糙的表面，表面粗糙則接 觸面小，摩擦系數(shù)小，抗劃傷性能強(qiáng)。Zr靶功率為60~100千瓦，富〇2濺射，例如Ar: 〇2 = 500: 1200,氧氣較多。
[0018] 6)、對于Ag膜的種子層ΖηΑΙΟ等，用高功率60~100千瓦、低Ar、富02的氣氛，容易得 到柱狀的晶體結(jié)構(gòu)，有利于Ag膜的生長。
[0019] 本發(fā)明的結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層/第一銀層/第一保護(hù)層/第二復(fù)合介 質(zhì)層/第二銀層/第二保護(hù)層/第三復(fù)合介質(zhì)層/第三銀層/第三保護(hù)層/第四復(fù)合介質(zhì)層/氧 化鋯膜;本發(fā)明不僅能有效提升膜層抗劃傷性能，而且膜層能夠經(jīng)受700°C的高溫鋼化，鋼 化后顏色穩(wěn)定，膜層鋼化后無外觀缺陷，并通過鋼化溫度敏感性實(shí)驗(yàn)、鋼化延時實(shí)驗(yàn)、不同 厚度玻璃基片鋼化實(shí)驗(yàn)、不同厚度玻璃基片彎鋼化實(shí)驗(yàn)。
【附圖說明】
[0020] 圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021] 具體的實(shí)施方式
[0022] 下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明，以助于本領(lǐng)域技術(shù)人員理 解本發(fā)明。
[0023] 實(shí)施例1
[0024]見圖1，一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片1/第一復(fù)合介質(zhì)層 21 [氮化娃（厚度10nm)、氧化鋅（5腦）、420(10腦）]/第一銀層31(1511111)/鎳絡(luò)41(111111)/第二 復(fù)合介質(zhì)層22 [氮化娃（20nm)、氧化鋅錫(40nm)、氧化鋅（10nm)、AZ0(5nm)]第二銀層32 (15nm)/鎳絡(luò)42(lnm)/第三復(fù)合介質(zhì)層23 [氮化娃(20nm)、氧化鋅錫(20nm)、氧化鋅（10nm)、 AZ0(10nm)]/第三銀層33(5nm)/鎳鉻43(10nm)/第四復(fù)合介質(zhì)層24[AZ0(5nm)、氧化鋅 (20nm)、氮化娃（20nm) ]/ZrOx5( lOnm)。
[0025] 實(shí)施例2
[0026] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度25nm)、氧化鋅（15nm)、AZ0(5nm) ]/第一銀層(5nm)/鎳絡(luò)（10nm)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮 化娃（40nm)、氧化鋅錫（20nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(10nm)]第二銀層（5nm)/鎳絡(luò)（10nm)/第 三復(fù)合介質(zhì)層[氮化娃（40nm)、氧化鋅錫（40nm)、氧化鋅（20nm)、AZ0(5nm) ]/第三銀層 (15nm)/鎳鉻（lnm)/第四復(fù)合介質(zhì)層[AZO(lOnm)、氧化鋅（10nm)、氮化硅（40nm)]/Zr0x (3nm)〇
[0027] 實(shí)施例3
[0028] 一種可鋼化的三銀低輻射鍍膜玻璃，結(jié)構(gòu)為:玻璃基片/第一復(fù)合介質(zhì)層[氮化硅 (厚度15nm)、氧化鋅(8]1111)、420(811111)]/第一銀層(811111)/鎳絡(luò)(311111)/第二復(fù)合介質(zhì)層[氮化 娃