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一種應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的自動(dòng)傳片裝置及控制方法_2

文檔序號(hào):8529320閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)。
[0020]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
【具體實(shí)施方式】
[0021]實(shí)施例
[0022]如圖1-3所示,一種應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的自動(dòng)傳片裝置,該自動(dòng)傳片裝置包括加熱盤(pán)組件8、傳片腔4及固定于反應(yīng)腔I下方的支架9。所述支架9與升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10固定。加熱盤(pán)組件8設(shè)于升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10上,并安裝在反應(yīng)腔I內(nèi)部。所述加熱盤(pán)組件8在沉積反應(yīng)時(shí)用于承載托盤(pán)2。在傳片腔4中安裝有直線運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)5,直線運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)5上安裝傳送槳6,傳片槳6用來(lái)在傳片過(guò)程中承載托盤(pán)2進(jìn)行取送操作。在反應(yīng)腔I與傳片腔4之間設(shè)有傳片腔門(mén)3,通過(guò)傳片門(mén)控制氣缸7實(shí)現(xiàn)控制傳片腔門(mén)3的開(kāi)啟與關(guān)閉,實(shí)現(xiàn)傳片路徑的開(kāi)通與切斷。并在傳片完成后關(guān)閉,以保證腔室的熱量不在短時(shí)間內(nèi)損失,并能實(shí)現(xiàn)在反應(yīng)腔真空條件下進(jìn)行傳片。
[0023]如圖4所示,本發(fā)明自動(dòng)傳片的控制方法:在沉積反應(yīng)進(jìn)行前,需要先進(jìn)行送片操作。送片操作前需要通過(guò)傳片門(mén)控制氣缸7來(lái)控制傳片腔門(mén)3開(kāi)啟,使傳片腔4與反應(yīng)腔I聯(lián)通。此時(shí),升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10將加熱盤(pán)組件8移動(dòng)到準(zhǔn)備位置,進(jìn)行傳片前準(zhǔn)備,如未到達(dá)指定位置前進(jìn)行傳片,則會(huì)造成碰撞等損害元器件的風(fēng)險(xiǎn)。當(dāng)傳片條件滿(mǎn)足后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)5帶動(dòng)傳片槳6進(jìn)行伸展,將承載著多片小尺寸晶圓的托盤(pán)2送入傳片腔4中,有位置信號(hào)檢測(cè)傳感器進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)傳片槳6到達(dá)指定的傳片位置后,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10托舉加熱盤(pán)組件8到達(dá)傳片位置進(jìn)行托盤(pán)2的交接動(dòng)作,同樣有位置傳感器進(jìn)行信號(hào)的檢測(cè)及反饋,以確保傳片的安全性、準(zhǔn)確性及避免傳片時(shí)發(fā)生碰撞的危險(xiǎn)。加熱盤(pán)組件8上升至傳片位置后會(huì)將托盤(pán)2托起,此時(shí)托盤(pán)2將落在加熱盤(pán)組件8上,并與傳片槳6脫離,完成托盤(pán)2從傳片槳6至加熱盤(pán)組件8交接片動(dòng)作。交接片完成后直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)5帶動(dòng)傳片槳6返回傳片腔4中,位置信號(hào)傳感器檢測(cè)到傳片槳6完全返回傳片腔4后,傳片門(mén)控制氣缸7控制傳片腔門(mén)3關(guān)閉。與此同時(shí),升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件8及托盤(pán)2向上運(yùn)動(dòng)至工藝位置,并進(jìn)行沉積反應(yīng)。
[0024]當(dāng)沉積反應(yīng)完成后,需要進(jìn)行取片操作,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件8及托盤(pán)2運(yùn)動(dòng)至傳片位置。當(dāng)位置信號(hào)滿(mǎn)足后傳片腔門(mén)控制氣缸7控制傳片腔門(mén)3開(kāi)啟,傳片腔門(mén)3完全開(kāi)啟后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)5帶動(dòng)傳片槳6進(jìn)行伸展從傳片腔4進(jìn)入反應(yīng)腔I中,并運(yùn)動(dòng)至傳片位置。當(dāng)傳感器信號(hào)滿(mǎn)足后,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)10繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件8及托盤(pán)2向下運(yùn)動(dòng)至準(zhǔn)備位置,在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中托盤(pán)2將停留在傳片槳6上,從而完成取片的交接。加熱盤(pán)組件8到達(dá)準(zhǔn)備位置后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)5帶動(dòng)傳片槳6及承載著沉積完成后晶圓的托盤(pán)2返回傳片腔4中,位置信號(hào)傳感器檢測(cè)到傳片槳6完全返回傳片腔4后,傳片門(mén)控制氣缸7控制傳片腔門(mén)3關(guān)閉。至此,整個(gè)取片過(guò)程結(jié)束。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的自動(dòng)傳片裝置,其特征在于:包括加熱盤(pán)組件、傳片腔及固定于反應(yīng)腔下方的支架,所述支架與升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)固定;所述加熱盤(pán)組件設(shè)于升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)上,并安裝在反應(yīng)腔內(nèi)部;所述加熱盤(pán)組件在沉積反應(yīng)時(shí)用于承載托盤(pán),在傳片腔中安裝有直線運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu),直線運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)上安裝傳送槳,傳片槳用來(lái)在傳片過(guò)程中承載托盤(pán)進(jìn)行取送操作,在反應(yīng)腔與傳片腔之間設(shè)有傳片腔門(mén),通過(guò)傳片門(mén)控制氣缸進(jìn)而控制傳片腔門(mén)的開(kāi)啟與關(guān)閉,實(shí)現(xiàn)傳片路徑的開(kāi)通與切斷。
2.采用如權(quán)利要求1所述的自動(dòng)傳片裝置的控制方法,其特征在于: (1)在沉積反應(yīng)進(jìn)行前,需要先進(jìn)行送片操作,送片操作前需要通過(guò)傳片門(mén)控制氣缸來(lái)控制傳片腔門(mén)開(kāi)啟,使傳片腔與反應(yīng)腔聯(lián)通,此時(shí),升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)將加熱盤(pán)組件移動(dòng)到準(zhǔn)備位置,進(jìn)行傳片前準(zhǔn)備,當(dāng)傳片條件滿(mǎn)足后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)傳片槳進(jìn)行伸展,將承載著多片小尺寸晶圓的托盤(pán)送入傳片腔中,有位置信號(hào)檢測(cè)傳感器進(jìn)行檢測(cè),當(dāng)傳片槳到達(dá)指定的傳片位置后,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)托舉加熱盤(pán)組件到達(dá)傳片位置進(jìn)行托盤(pán)的交接動(dòng)作,同樣有位置傳感器進(jìn)行信號(hào)的檢測(cè)及反饋,加熱盤(pán)組件上升至傳片位置后會(huì)將托盤(pán)托起,此時(shí)托盤(pán)將落在加熱盤(pán)組件上,并與傳片槳脫離,完成托盤(pán)從傳片槳至加熱盤(pán)組件交接片動(dòng)作,交接片完成后直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)傳片槳返回傳片腔中,位置信號(hào)傳感器檢測(cè)到傳片槳完全返回傳片腔后,傳片門(mén)控制氣缸控制傳片腔門(mén)關(guān)閉,與此同時(shí),升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件及托盤(pán)向上運(yùn)動(dòng)至工藝位置,并進(jìn)行沉積反應(yīng); (2)當(dāng)沉積反應(yīng)完成后,需要進(jìn)行取片操作,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件及托盤(pán)運(yùn)動(dòng)至傳片位置,當(dāng)位置信號(hào)滿(mǎn)足后,傳片門(mén)控制氣缸來(lái)控制傳片腔門(mén)開(kāi)啟,傳片腔門(mén)完全開(kāi)啟后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)傳片槳進(jìn)行伸展從傳片腔進(jìn)入反應(yīng)腔中,并運(yùn)動(dòng)至傳片位置,當(dāng)傳感器信號(hào)滿(mǎn)足后,升降運(yùn)動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)繼續(xù)托舉加熱盤(pán)組件及托盤(pán)向下運(yùn)動(dòng)至準(zhǔn)備位置,在運(yùn)動(dòng)過(guò)程中托盤(pán)將停留在傳片槳上,從而完成取片的交接,加熱盤(pán)組件到達(dá)準(zhǔn)備位置后,直線運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)傳片槳及承載著沉積完成后晶圓的托盤(pán)返回傳片腔中,位置信號(hào)傳感器檢測(cè)到傳片槳完全返回傳片腔后,傳片門(mén)控制氣缸便控制傳片腔門(mén)關(guān)閉,至此,整個(gè)取片過(guò)程結(jié)束。
【專(zhuān)利摘要】一種應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備的自動(dòng)傳片裝置及控制方法,主要解決現(xiàn)有的手動(dòng)傳片裝置效率較低,傳片精度差以及使用機(jī)械手承載托盤(pán)的自動(dòng)傳片方式存在的機(jī)械手剛性差,壽命低及傳片精度不夠好的問(wèn)題。該裝置在反應(yīng)腔與傳片腔之間設(shè)有傳片腔門(mén),通過(guò)傳片門(mén)控制氣缸進(jìn)而控制傳片腔門(mén)的開(kāi)啟與關(guān)閉,實(shí)現(xiàn)傳片路徑的開(kāi)通與切斷??刂品椒ㄊ抢弥本€運(yùn)動(dòng)方式動(dòng)作的傳片槳及可執(zhí)行升降運(yùn)動(dòng)的加熱基座,通過(guò)與其對(duì)應(yīng)的傳片邏輯,達(dá)到對(duì)承載多晶圓托盤(pán)的自動(dòng)傳片。本發(fā)明可提高沉積設(shè)備及工藝氣體的利用率,傳片精度高??蓮V泛應(yīng)用于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制造技術(shù)領(lǐng)域。
【IPC分類(lèi)】H01L21-677
【公開(kāi)號(hào)】CN104851831
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510162058
【發(fā)明人】陳英男, 鄭英杰, 袁赫
【申請(qǐng)人】沈陽(yáng)拓荊科技有限公司
【公開(kāi)日】2015年8月19日
【申請(qǐng)日】2015年4月8日
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