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半導體器件及其形成方法與流程

文檔序號:12725171閱讀:來源:國知局
技術總結
本發(fā)明的實施例提供了一種半導體器件,包括:襯底;在襯底上設置的多個鰭結構;在多個鰭結構的每個上設置的多個第一應變材料;在多個第一應變材料的每個上分別形成的多個覆蓋層,其中,至少兩個覆蓋層彼此連接;在彼此連接的至少兩個覆蓋層上設置第二應變材料。本發(fā)明的實施例還提供了一種用于制造半導體器件的方法。

技術研發(fā)人員:張智強;宋學昌;李昆穆;游明華
受保護的技術使用者:臺灣積體電路制造股份有限公司
文檔號碼:201610953747
技術研發(fā)日:2016.10.27
技術公布日:2017.06.20

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