專利名稱：一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明公開了一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，屬于永磁磁康復(fù)、磁治療設(shè)備 領(lǐng)域，特別適合在磁座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等設(shè)備上應(yīng)用。
背景技術(shù)：
已有的用于永磁磁康復(fù)、磁治療設(shè)備中的永磁磁源，結(jié)構(gòu)或是圓柱，或是立方體。 而磁座墊、磁坐椅、磁床墊等設(shè)備都是以扁平面結(jié)構(gòu)為主，因而已有技術(shù)的圓柱，或立 方體結(jié)構(gòu)的永磁磁源都不適合于用在需要配用外形扁平的磁源的磁座墊、磁坐椅、磁床 墊等設(shè)備上。并且，目前的圓柱、或立方體結(jié)構(gòu)的永磁磁源用到磁康復(fù)、磁治療設(shè)備中， 其永磁材料利用率不高，設(shè)備笨重，成本高；在需要產(chǎn)生同樣工作磁場(chǎng)(場(chǎng)區(qū)范圍，其 中的場(chǎng)強(qiáng)均相同)的情況下，已有的圓柱、或立方體磁源用料多，體積大。所以用于磁 座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等設(shè)備上的永磁磁源需要徹底更新。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其具有適于用在磁座 墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等扁平形的結(jié)構(gòu)體中，且磁源利用率高、體積小、 成本低，能在所用設(shè)備指定方向側(cè)的足夠大范圍內(nèi)產(chǎn)生滿足要求的磁場(chǎng)。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的 一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，它是由N條 永磁棱柱拼裝而成的一個(gè)基本平板，基本平板的一面上部區(qū)域是強(qiáng)磁場(chǎng)，基本平板的另 一面上部區(qū)域是弱磁場(chǎng)；
其中，永磁棱柱是奇數(shù)條，可以是五條、七條、九條永磁棱柱；
永磁棱柱的磁化方向矢量都處在永磁棱柱的橫斷面內(nèi)；
基本平板中的永磁棱柱從左邊排向右邊，各永磁棱柱的磁化方向矢量從左邊向右， 依次逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度；旋轉(zhuǎn)角度可以是30 50度；
基本平板中的永磁棱柱根數(shù)為9，起始永磁棱柱的磁化方向與最末一根的磁化方向 取為水平方向，從左指向右方；基本平板中的永磁棱柱根數(shù)為7，起始永磁磁柱的磁化 方向取為45度，最末一根的磁化方向取為-45度，從左指向右方；基本平板中的永磁 棱柱根數(shù)為5，起始永磁磁柱的磁化方向取為90，最末一根的磁化方向取為-90度；永磁棱柱的橫斷面是矩形或正方形，N條永磁棱柱拼裝而成基本平板，永磁棱柱的 橫斷面矩形的寬度A在5毫米至500毫米之間，永磁棱柱的橫斷面矩形的厚度在5毫 米至500毫米之間，永磁棱柱的長度C，在0.2—1倍的N+A的數(shù)值間；
具體可以是永磁棱柱的橫斷面矩形的寬度A、厚度B具體可以是5毫米、10毫 米、15毫米、20毫米、25毫米、30毫米、35毫米、40毫米、45毫米、50毫米、55 毫米、60毫米、65毫米、70毫米、75毫米、80毫米、95毫米、100毫米、115毫米、 120毫米、125毫米、130毫米、135毫米、140毫米、145毫米、150毫米、155毫米、 160毫米、165毫米、170毫米、175毫米、180毫米、185毫米、190毫米、195毫米、 200毫米、205毫米、210毫米、215毫米、220毫米、225毫米、230毫米、235毫米、 240毫米、245毫米、250毫米、255毫米、260毫米、265毫米、270毫米、275毫米、 280毫米、295毫米、300毫米、315毫米、320毫米、325毫米、330毫米、335毫米、 340毫米、345毫米、350毫米、355毫米、360毫米、365毫米、370毫米、375毫米、 380毫米、385毫米、390毫米、395毫米、400毫米、405毫米、410毫米、415毫米、 420毫米、425毫米、430毫米、435毫米、440毫米、445毫米、450毫米、455毫米、 460毫米、465毫米、470毫米、475毫米、480毫米、495毫米、500毫米，永磁棱柱 的長度C，在0.2—1倍的N*A的數(shù)值間；
平板式永磁磁源由兩塊、三塊、四塊、五塊、六塊、M塊基本平板拼裝形成一個(gè) 平板；
基本平板固定在底座內(nèi)，在垂直底座的位置上接有水平旋轉(zhuǎn)裝置，或是基本平板放 置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是由于本發(fā)明所述的平板式永磁磁源，是由多條橫斷面為矩形的永 磁棱柱并排拼裝而成的一個(gè)平板結(jié)構(gòu)，而且，只在平板正面前方產(chǎn)生磁場(chǎng)，反面前方磁 場(chǎng)很弱，所以，非常適于用在磁座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等需要扁平形磁 源的結(jié)構(gòu)體中，在需要產(chǎn)生同樣工作磁場(chǎng)(場(chǎng)區(qū)范圍，其中的場(chǎng)強(qiáng)均相同)的情況下， 與已有的圓柱，或是立方體磁源相比，具有磁源利用率高，用料少，體積小，工藝簡單， 成本低的優(yōu)點(diǎn)；
以上優(yōu)點(diǎn)之所以能夠?qū)崿F(xiàn)，首先是本發(fā)明所述的平板式永磁磁源系由多條橫斷面為 矩形的永磁棱柱并排拼裝而成，因此，保證了所述磁源形狀為一塊平板，其次，其多條 永磁棱柱各條的磁化方向矢量都處在各條永磁棱柱的橫斷面內(nèi)，且一排永磁棱柱的磁化方向矢量從左邊向右，依次逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度，由此確保了平板式永磁磁源正面前方 是強(qiáng)磁場(chǎng)，反面前方是弱磁場(chǎng)；再其次，棱柱的根數(shù)、各棱柱的磁化方向、各棱柱截面 積大小、各棱柱的長短，都可優(yōu)化調(diào)整，保證永磁材料有高利用率；
由于本發(fā)明所述平板式永磁磁源可以是由多塊基本平板拼裝而成，每塊基本平板又 可以是由條數(shù)不等、尺寸不同的永磁棱柱拼裝而成，這樣形成的不同磁源能夠安裝到不 同設(shè)備上，不同設(shè)備對(duì)場(chǎng)區(qū)大小、場(chǎng)區(qū)強(qiáng)弱要求不同，由基本平板拼裝的平板磁源能夠 滿足不同要求，能夠在設(shè)備靶區(qū)內(nèi)產(chǎn)生所需要強(qiáng)度的磁場(chǎng)。


圖1是本發(fā)明所述的平板式永磁磁源中的基本平板結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是本發(fā)明所述的平板式永磁磁源(多塊拼裝的較大面積磁源)示意圖； 圖3是本發(fā)明所述的平板式永磁磁源中基本平板的一條永磁棱柱結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面通過附圖結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明所述結(jié)構(gòu)做進(jìn)一步詳細(xì)說明 實(shí)施例1:
一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，如圖1、 2、 3所示，它是由截面為矩形(含 正方形)的N條永磁棱柱1拼裝而成的一個(gè)薄正方形或矩形磁板，即基本平板2;
各永磁棱柱1可以是通過厭氧膠粘接成一體，形成基本平板2，置于底座3中固定； 所述基本平板2可以按照磁座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等設(shè)備對(duì)向病人 曝磁區(qū)域大小的具體要求作四方連續(xù)(含二方連續(xù))式拼裝，形成面積大小不同的平板 形永磁磁源(以下稱為平板磁源)，如圖2所示，此平板磁源便在其正面的前方，營造
出一層有效厚度足夠厚，籠罩面積也足夠大的磁場(chǎng)，此磁場(chǎng)即為對(duì)病人實(shí)施磁康復(fù)或磁 治療所需要的磁場(chǎng)，所述平板磁源的背面前方磁場(chǎng)則很弱。由于有限的永磁材料有重點(diǎn) 地在平板磁源正前方營造磁場(chǎng)，而不是如已有技術(shù)那樣使磁場(chǎng)四周彌漫，因而永磁材料
的利用率高；如果使所述平板磁源繞垂直于其背面并位于背面面積中心的軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，平 板磁源前方的磁場(chǎng)中的每一點(diǎn)處的磁場(chǎng)便隨時(shí)間變化，這樣，便形成旋磁裝置。 具體可以是
如圖3所示，永磁棱柱1截面積為A*B,永磁棱柱長為C，集成一塊基本平板2的 永磁棱柱數(shù)目N可以是5、或7、或9等奇數(shù)條，集成后的磁板厚為B,寬為N*A，長 則為C;永磁棱柱1均由永磁材料制成，永磁棱柱1的磁化方向矢量按規(guī)定都處在永磁棱柱 1的橫斷面內(nèi)，所述矢量與基本平板的寬度方向所成的夾角各永磁棱柱均不相同；
基本平板2中的永磁棱柱1從左邊排頭向右邊，各永磁棱柱的磁化方向矢量，依次 逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度；
如基本平板2水平放置，正面朝上，所含永磁棱柱1從左邊排向右邊，則各永磁 棱柱l的磁化方向矢量，依次逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)30 50度，可以是旋轉(zhuǎn)30度、或33度、或 35度、或37度、或39度、或41度、或43度、或45度、或47度、或49度、或50 度，等中間的任一角度，當(dāng)一塊基本平板根數(shù)為9時(shí)，起始永磁棱柱1磁化方向與最末 一根的磁化方向應(yīng)取為水平方向，從左指向右方；當(dāng)永磁棱柱數(shù)1為7時(shí)，所述起始永 磁磁柱l的磁化方向應(yīng)取為45度，最末一根的磁化方向取為-45度；當(dāng)棱柱數(shù)為5時(shí)， 所述起始永磁磁柱1的磁化方向應(yīng)取為90度，最末一根的磁化方向取為-90度。
需要基本平板2在其正面前方產(chǎn)生較強(qiáng)磁場(chǎng)時(shí)，永磁棱柱1應(yīng)選取較多組成根數(shù)， 例如9根；所需磁場(chǎng)中等時(shí)，選用7根；所需磁場(chǎng)一般要求時(shí)，選用5根。
基本平板2的長度C，應(yīng)在0.2—1倍WA的數(shù)值間選??；A和B的取值范圍為 5毫米至500毫米之間；
永磁棱柱1的橫斷面矩形的寬度A、厚度B具體可以是5毫米、10毫米、15毫米、 20毫米、25毫米、30毫米、35毫米、40毫米、45毫米、50毫米、55毫米、60毫米、 65毫米、70毫米、75毫米、80毫米、95毫米、100毫米、115毫米、120毫米、125 毫米、130毫米、135毫米、140毫米、145毫米、150毫米、155毫米、160毫米、165 毫米、170毫米、175毫米、180毫米、185毫米、190毫米、195毫米、200毫米、205 毫米、210毫米、215毫米、220亳米、225毫米、230毫米、235毫米、240毫米、245 毫米、250毫米、255毫米、260毫米、265毫米、270毫米、275毫米、280毫米、295 毫米、300毫米、315毫米、320毫米、325毫米、330毫米、335毫米、340毫米、345 毫米、350毫米、355毫米、360毫米、365毫米、370毫米、375毫米、380毫米、385 毫米、390毫米、395毫米、400毫米、405毫米、410毫米、415毫米、420毫米、425 毫米、430毫米、435毫米、440毫米、445毫米、450毫米、455毫米、460毫米、465 毫米、470毫米、475毫米、480毫米、495毫米、500毫米，永磁棱柱1的長度C,在 0.2—1倍的NfA的數(shù)值間。
為了適應(yīng)磁座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等設(shè)備對(duì)向病人曝磁區(qū)域大小的具體要求，可以以基本平板2作為基礎(chǔ)作四方連續(xù)(含二方連續(xù))式拼裝，形成面積大 小不同的平板形永磁磁源(以下稱為平板磁源)，此平板磁源便在其正面的前方，營造 出一層有效厚度足夠厚，籠罩面積也足夠大的磁場(chǎng)，此磁場(chǎng)即為對(duì)病人實(shí)施磁康復(fù)或磁 治療所需要的磁場(chǎng)。
本發(fā)明所述技術(shù)方案的平板磁源外形為薄平板狀，極適合于安裝到磁座墊、磁坐椅、 磁床墊、磁治療裝置上，還可以是平板磁源2固定放置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上，或底座3下部接 旋轉(zhuǎn)電機(jī)，以確保平板磁源2能夠旋轉(zhuǎn)，產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)；
如所述平板磁源安裝到磁坐椅上，繞垂直于磁坐椅背面并位于背面面積中心的軸 旋轉(zhuǎn)時(shí)，平板磁源前方的磁場(chǎng)中的每一點(diǎn)處的磁場(chǎng)便隨時(shí)間變化，這樣，就能形成旋磁 磁場(chǎng)；
所述平板磁源安裝到磁床墊上，繞垂直于磁床墊上方并位于床墊面積中心的軸旋轉(zhuǎn) 時(shí)，同樣，平板磁源前方的磁場(chǎng)中的每一點(diǎn)處的磁場(chǎng)便隨時(shí)間變化，這樣，就能形成旋 磁磁場(chǎng)；
所述平板磁源安裝到磁座墊、磁治療裝置上繞垂直于其軸旋轉(zhuǎn)時(shí)，同樣，平板磁源 前方的磁場(chǎng)中的每一點(diǎn)處的磁場(chǎng)便隨時(shí)間變化。
權(quán)利要求
1、一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是它是由N條永磁棱柱(1)拼裝而成的一個(gè)基本平板(2)，基本平板(2)的一面上部區(qū)域是強(qiáng)磁場(chǎng)(3)，基本平板(2)的另一面上部區(qū)域是弱磁場(chǎng)(4)。
2、 如權(quán)利要求1所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)是奇數(shù)條，可以是五條、七條、九條永磁棱柱。
3、 如權(quán)利要求1或2所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)的磁化方向矢量都處在永磁棱柱(1)的橫斷面內(nèi)。
4、 如權(quán)利要求3所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)中的永磁棱柱(1)從左邊排向右邊，各永磁棱柱(1)的磁化方向矢量從左邊向右，依次逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)一個(gè)角度。
5、 如權(quán)利要求4所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)上的永磁棱柱(1)從左邊排向右邊，各永磁棱柱(1)的磁化方 向矢量，依次逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)30 50度。
6、 如權(quán)利要求5所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)中的永磁棱柱根數(shù)為9，起始永磁棱柱(1)的磁化方向與最末一 根的磁化方向取為水平方向，從左指向右方；基本平板(2)中的永磁棱柱(1) 根數(shù)為7，起始永磁磁柱(1)的磁化方向取為45度，最末一根的磁化方向取為 -45度，從左指向右方；基本平板(2)中的永磁棱柱(1)根數(shù)為5，起始永磁 磁柱(1)的磁化方向取為90，最末一根的磁化方向取為-90度。
7、 如權(quán)利要求1或2或3或4或5或6所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式 永磁磁源，其特征是永磁棱柱(1)的橫斷面是矩形或正方形，N條永磁棱柱(1)拼裝而成基本平板(2)，永磁棱柱(1)的橫斷面矩形的寬度A在5毫米 至500毫米之間，永磁棱柱(1)的橫斷面矩形的厚度在5毫米至500毫米之間， 永磁棱柱(1)的長度C，在0.2—1倍的WA的數(shù)值間。
8、 如權(quán)利要求7所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是 永磁棱柱(1)的橫斷面矩形的寬度A、厚度B具體可以是5毫米、IO毫米、15 毫米、20毫米、25毫米、30毫米、35毫米、40毫米、45毫米、50毫米、55毫米、60毫米、65毫米、70毫米、75毫米、80毫米、95毫米、100毫米、115 毫米、120毫米、125毫米、130毫米、135毫米、140毫米、145毫米、150毫 米、155毫米、160毫米、165毫米、170毫米、175毫米、180毫米、185毫米、 190毫米、195毫米、200毫米、205毫米、210毫米、215毫米、220毫米、225 毫米、230毫米、235毫米、240毫米、245毫米、250毫米、255毫米、260毫 米、265毫米、270毫米、275毫米、280毫米、295毫米、300毫米、315毫米、 320毫米、325毫米、330毫米、335毫米、340毫米、345毫米、350毫米、355 毫米、360毫米、365毫米、370毫米、375毫米、380毫米、385毫米、3卯毫 米、395毫米、400毫米、_ 405毫米、410毫米、415毫米、420毫米、425毫米、 430毫米、435毫米、440毫米、445毫米、450毫米、455毫米、460毫米、465 毫米、470毫米、475毫米、480毫米、495毫米、500毫米，永磁棱柱(1)的 長度C，在0.2—1倍的N+A的數(shù)值間。
9、 如權(quán)利要求l或2或3或4或5或6或7或8所述的一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng) 的平板式永磁磁源，其特征是平板式永磁磁源由兩塊、三塊、四塊、五塊、六 塊、M塊基本平板(2)拼裝形成一個(gè)平板。
10、 如權(quán)利要求l或2或3或4或5或6或7或8或9所述的一種產(chǎn)生單側(cè) 磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，其特征是基本平板(2)固定在底座(3)內(nèi)，在垂直 底座(3)的位置上接有水平旋轉(zhuǎn)裝置，或是基本平板(2)放置在旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種產(chǎn)生單側(cè)磁場(chǎng)的平板式永磁磁源，屬于永磁磁康復(fù)、磁治療設(shè)備領(lǐng)域，它是由N條永磁棱柱拼裝而成的一個(gè)基本平板，基本平板的一面上部區(qū)域是強(qiáng)磁場(chǎng)，基本平板的另一面上部區(qū)域是弱磁場(chǎng)，與已有技術(shù)相比，具有適于用在磁座墊、磁坐椅、磁床墊、臨床用磁療床等扁平形的結(jié)構(gòu)體中，且磁源利用率高、體積小、成本低，能在所用設(shè)備指定方向側(cè)的足夠大范圍內(nèi)產(chǎn)生滿足要求的磁場(chǎng)的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)H01F41/02GK101436457SQ20071017730
公開日2009年5月20日 申請(qǐng)日期2007年11月14日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月14日
發(fā)明者胡振華 申請(qǐng)人:北京瑪格涅磁應(yīng)用技術(shù)有限責(zé)任公司;胡振華