本發(fā)明是有關(guān)于一種存儲器電路及其操作方法,且特別是有關(guān)于一種具有金屬位線的預(yù)充電的存儲器電路及其操作方法。
背景技術(shù):
存儲器裝置于各種電子元件中已逐漸普及。在存儲器裝置中,多個群組的存儲單元(例如是存儲器串行)耦接于預(yù)充電至一預(yù)定電壓電平的多個金屬位線中所對應(yīng)的金屬位線??赏ㄟ^施加一選擇電壓于存儲單元并感測對應(yīng)的金屬位在線的電流,以感測在存儲器串行中的存儲單元的儲存數(shù)據(jù)。然而,由于存儲單元的密度逐漸增加、較小的存儲單元電流及金屬位線的大量負荷,預(yù)充電金屬位線所需的時間變得更長。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
根據(jù)本發(fā)明的一實施例,存儲器電路包括一預(yù)充電單元以及一感測單元。預(yù)充電單元用于在一預(yù)充電時期的期間,充電金屬位線。感測單元用于在預(yù)充電時期的期間,感測一存儲單元的一狀態(tài),存儲單元耦接于金屬位線。
根據(jù)本發(fā)明的另一實施例,操作一存儲器電路的方法包括:在一預(yù)充電時期的期間,通過一預(yù)充電單元對一金屬位線進行充電;以及在預(yù)充電時期的期間,通過一感測單元對耦接于該金屬位線的一存儲器的一狀態(tài)進行感測。
根據(jù)本發(fā)明的又一實施例,存儲器系統(tǒng)包括一存儲器陣列以及一存儲器控制器。存儲器陣列包括多個金屬位線,金屬位線分別耦接于對應(yīng)的多個存儲單元串行。存儲器控制器耦接于存儲器陣列,提供信號于存儲器陣列,用于:在一預(yù)充電時期的期間,對一金屬位線進行充電;及在該預(yù)充電時期的期間,對耦接于該金屬位線的存儲單元的一狀態(tài)進行感測。
所附圖式合并于本申請中并構(gòu)成本申請的一部分。所附圖式繪示所揭露的實施例,并與實施方式共同說明所揭露的實施例。
附圖說明
圖1繪示根據(jù)一所示實施例的存儲器芯片的框圖。
圖2繪示根據(jù)一所示實施例的圖1所示的存儲器芯片的多個部分的簡化電路圖。
圖3繪示根據(jù)一所示實施例的存儲器電路的電路圖。
圖4繪示根據(jù)一所示實施例的用于產(chǎn)生一流入電壓(sink voltage)的流入電流鏡電路(sink current mirror circuit)的電路圖。
圖5繪示根據(jù)一比較例的于圖3所示的多個節(jié)點的多個信號與電壓的時間圖。
圖6繪示根據(jù)一所示實施例的于圖3所示的多個節(jié)點的多個信號與電壓的時序圖。
圖7繪示根據(jù)一所示實施例的金屬位線的預(yù)充電時期的長度與感測電流之間的關(guān)系圖。
圖8繪示比較例以及圖3所示的存儲器電路的預(yù)充電特性的圖。
【符號說明】
100:存儲器芯片
110:存儲器陣列
120:Y-選擇譯碼器
130:頁緩沖器
140:字線驅(qū)動器
150:存儲器控制器
300:存儲器電路
310:存儲器串行
320:Y-選擇單元
330:流入單元
340:預(yù)充電單元
350:感測單元
400:電路 410:電流源
BL1、DL、DLB、INV、SEN:節(jié)點
BLC:位線夾止信號
BLOCK_0、BLOCK_1、...、BLOCK_N-1、BLOCK_N:區(qū)塊
BLS:位線選擇信號
CSL:共同源極線
D:輸出緩沖器
GSL:接地選擇線信號
hvt:高閾值電壓
Icell:理想感測電流
INV1、INV2:反向器
Isense:感測電流
Isink:源電流
lvt:低閾值電壓
MBL、MBL_0、MBL_1、MBL_2、MBL_3、MBL_4、MBL_5、...、MBL_M-5、MBL_M-4、MBL_M-3、MBL_M-2、MBL_M-1、MBL_M:金屬位線
MC0、MC1、MC2、MC3、MC4、MC5:存儲單元
MN1、MN2、MN3、MN4、MN5、MN6、MN7、MN8:NMOS晶體管
MP1、MP2、MP3、MP4、MP5:PMOS晶體管
PDL、PDLB、SPOS、STB、STBS:控制信號
PB_0、PB_1、PB_2、PB_3、PB_4、PB_5...、PM_M-5、PM_M-4、PM_M-3、PM_M-2、PM_M-1、PM_M:頁緩沖器單元
pass:通信號
Power:預(yù)充電控制信號
SSL:串行選擇線信號
SW:串行選擇開關(guān)
SWG:接地選擇開關(guān)
t1、t2、t3、t21、t22、t23、t24:時間
WL、WL0、WL1、WL2、WL3、WL4、WL5:字線信號
WL[a:b]、WL[c:d]、WL[m:n]、字線WL[p:q]:字線
WL_unit_0、WL_unit_1、...、WL_unit_N-1、WL_unit_N:字線驅(qū)動單元
Vdd:電源電壓
VDL、VDLB、VMBL、VSEN:電壓
Vsink:流入電壓
Y_sel_0、Y_sel_1、Y_sel_2、Y_sel_3、Y_sel_4、Y_sel_5、...、Y_sel_M-5、Y_sel_M-4、Y_sel_M-3、Y_sel_M-2、Y_sel_M-1、Y_sel_M:Y選擇單元
具體實施方式
元件符號將用以詳細描述本案實施例,作為范例繪示于所附圖式中。所有圖式中將盡可能使用相同的元件符號表示相同或類似的部分。
圖1繪示根據(jù)一所示實施例的存儲器芯片100的方塊圖。存儲器芯片100包括一存儲器陣列110、一Y-選擇譯碼器120、一頁緩沖器130、一字線驅(qū)動器140及一存儲器控制器150。存儲器陣列110包括成列(row)及成排(column)所配置的多個存儲單元。Y-選擇譯碼器120存取(access)存儲單元陣列110中所選的成排的存儲單元。頁緩沖器130儲存欲編程至存儲器陣列110的數(shù)據(jù)、或由存儲單元陣列110所讀取的數(shù)據(jù)。字線驅(qū)動器140存取存儲單元陣列110中所選的成列的存儲單元。存儲器控制器150產(chǎn)生并施加多種控制信號至存儲器陣列110、Y-選擇譯碼器120、頁緩沖器130及字線驅(qū)動器140。
圖2繪示根據(jù)一所示實施例的圖1所示的存儲器芯片100的多個部分的簡化電路圖。存儲器陣列110包括N+1個區(qū)塊BLOCK_0、BLOCK_1、...、BLOCK_N-1、及BLOCK_N的存儲單元,其中N是等于或大于1的自然數(shù)。各個區(qū)塊BLOCK_0、BLOCK_1、...、BLOCK_N-1、及BLOCK_N包括結(jié)構(gòu)實質(zhì)上相同的一列存儲單元。存儲器陣列110亦包括M條金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M-1、及MBL_M,其中M是大于1的自然數(shù)。各條金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M-1、及MBL_M耦接于一排存儲單元。共同源極線CSL在各個區(qū)塊BLOCK_0、BLOCK_1、...、BLOCK_N-1、及BLOCK_N中耦接于存儲單元。
Y-選擇譯碼器120包括M+1個Y選擇單元Y_sel_0、Y_sel_1、...、Y_sel_M-1、及Y_sel_M,其中M是等于或大于1的自然數(shù)。各個Y選擇單元Y_sel_0、Y_sel_1、...、Y_sel_M-1、及Y_sel_M耦接于其中一條對應(yīng)的金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M-1、及MBL_M。Y選擇單元Y_sel_0、Y_sel_1、...、Y_sel_M-1、及Y_sel_M具有實質(zhì)上相同的電路結(jié)構(gòu)。頁緩沖器130包括M+1個頁緩沖器單元PB_0、PB_1、...、PM_M-1、及PM_M,各個頁緩沖器單元耦接于其中一個對應(yīng)的Y選擇單元Y_sel_0、Y_sel_1、...、Y_sel_M-1、及Y_sel_M。頁緩沖器單元PB_0、PB_1、...、PM_M-1、及PM_M具有實質(zhì)上相同的電路結(jié)構(gòu)。字線驅(qū)動器140包括字線驅(qū)動單元WL_unit_0、WL_unit_1、...、WL_unit_N-1、及WL_unit_N,各個字線驅(qū)動單元分別在對應(yīng)的區(qū)塊BLOCK_0、BLOCK_1、...、BLOCK_N-1、及BLOCK_N中耦接于多條字線。例如,在區(qū)塊BLOCK_0中,字線驅(qū)動單元WL_unit_0是耦接于字線WL[a:b]。在區(qū)塊BLOCK_1中,字線驅(qū)動單元WL_unit_1是耦接于字線WL[c:d]。在區(qū)塊BLOCK_N-1中,字線驅(qū)動單元WL_unit_N-1是耦接于字線WL[m:n]。在區(qū)塊BLOCK_N中,字線驅(qū)動單元WL_unit_N是耦接于字線WL[p:q]。
圖3繪示根據(jù)一所示實施例的存儲器電路300的電路圖。如圖3所示,存儲器電路300包括一存儲器串行310、一Y-選擇單元320、一流入單元330、一預(yù)充電單元340及一感測單元350。存儲器串行310對應(yīng)于圖2所示的存儲單元陣列110中的一排存儲單元。Y-選擇單元320對應(yīng)于圖2所示的其中一個Y-選擇單元Y_sel_0、Y_sel_1、...、Y_sel_M-1、及Y_sel_M。流入單元330、預(yù)充電單元340及感測單元350構(gòu)成其中一個圖2所示的頁緩沖器單元PB_0、PB_1、...、PM_M-1、及PM_M。字線連接于字線驅(qū)動器140。
如圖3所示,存儲器串行310包括耦接于金屬位線MBL與共同源極線CSL之間的多個(例如是圖3所示的6個)存儲單元MC0、MC1、...、MC5、一串行選擇開關(guān)SW、及一接地選擇開關(guān)SWG。圖3的金屬位線MBL對應(yīng)于圖2所示的其中一條金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M-1、及MBL_M。圖3所示的字線(亦即字線信號WL0、WL1、...、WL5所分別對應(yīng)的字線)對應(yīng)于其中一些圖2所示的字線WL[a:q]。多個存儲單元MC0、MC1、...、MC5串聯(lián)耦接于串行選擇開關(guān)SW及接地選擇開關(guān)SWG之間。多個存儲單元MC0、MC1、...、MC5是作為個別具有可編程的閾值電壓的金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管(MOStransistor)。各個存儲單元MC0、MC1、...、MC5包括一柵極電極,耦接于對應(yīng)的其中一條字線,以分別接收對應(yīng)的字線信號WL0、WL1、...、WL5。串行選擇開關(guān)SW是作為N型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管(NMOStransistor),包括一漏極電極、一源極電極及一柵極電極,其中漏極電極耦接于金屬位線MBL,源極電極耦接于存儲單元MC0,柵極電極耦接以接收串行選擇線信號SSL。接地選擇線SWG是作為N型金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管,包括一漏極電極、一源極電極及一柵極電極,其中漏極電極耦接于存儲單元MC5,源極電極耦接于共同源極線CSL,以接收共同源極線CSL的信號,柵極電極耦接以接收接地選擇線信號GSL。
Y-選擇單元320包括一第一NMOS晶體管MN1。第一NMOS晶體管MN1包括一漏極電極,一源極電極及一柵極電極,其中漏極電極耦接于一節(jié)點BL1,源極電極耦接于一金屬位線MBL,柵極電極耦接以接收一位線選擇信號BLS。位線選擇信號BLS是用以控制金屬位線MBL是否電性絕緣于流入單元330、預(yù)充電單元340及感測單元350。
流入單元330包括第二NMOS晶體管MN2及第三NMOS晶體管MN3,第二NMOS晶體管MN2及第三NMOS晶體管MN3是串聯(lián)耦接于節(jié)點BL1及參考電壓(例如是接地)之間。第二NMOS晶體管MN2包括一漏極電極、一源極電極及一柵極電極,其中漏極電及耦接于節(jié)點BL1,源極電極耦接于第三NMOS晶體管MN3的漏極電極,柵極電極耦接以接收于感測單元350中的節(jié)點DLB的電壓VDLB。第三NMOS晶體管MN3包括一漏極電極、一源極電極及一柵極電極,其中漏極電極耦接于第二NMOS晶體管MN2的源極電極,源極電極接地,柵極電極耦接以接收一流入電壓Vsink,Vsink具有一預(yù)定的電壓電平。
預(yù)充電單元340包括一第一P型MOS(PMOS)晶體管MP1及一第四NMOS晶體管MN4。第一PMOS晶體管MP1包括一源極電極,一漏極電極及一柵極電極,其中源極電極耦接以接收一電源電壓Vdd,漏極電極耦接于一感測節(jié)點SEN,柵極電極耦接以接收一預(yù)充電控制信號Power。第四NMOS晶體管MN4包括一漏極電極、一源極電極及一柵極電極,其中漏極電極耦接于一感測節(jié)點SEN,源極電極耦接于節(jié)點BL1,柵極電極耦接以接收一位線夾止信號(bit line clamp signal)BLC。
感測單元350包括第五NMOS晶體管MN5、第六NMOS晶體管MN6與第七NMOS晶體管MN7,第二PMOS晶體管MP2與第三PMOS晶體管MP3,以及閂鎖器(latch)352。第五NMOS晶體管MN5包括一漏極電極、一源極電極、及一柵極電極,其中漏極電極耦接于感測節(jié)點SEN,源極電極耦接于反向器節(jié)點(inverter node),柵極電極耦接以接收一通信號pass。閂鎖器352包括第一反向器INV1與第二反向器INV2,第一反向器INV1及第二反向器INV2交叉耦接于節(jié)點DL與節(jié)點DLB之間。第一反向器INV1包括輸入節(jié)點、輸出節(jié)點、及控制節(jié)點,其中輸入節(jié)點耦接于節(jié)點DL,輸出節(jié)點耦接于節(jié)點DLB,控制節(jié)點耦接以接收一控制信號SPOS。第二反向器INV2包括一輸入節(jié)點、一輸出節(jié)點及一控制節(jié)點,其中輸入節(jié)點耦接于節(jié)點DLB,輸出節(jié)點耦接于節(jié)點DL,控制節(jié)點耦接以接收一控制信號STBS。第六NMOS晶體管MN6耦接于節(jié)點DLB及反向器節(jié)點INV之間,且包括耦接以接收一控制信號PDLB的柵極電極。第七NMOS晶體管MN7耦接于節(jié)點DL及反向器節(jié)點INV之間,且包括耦接以接收一控制信號PDL的柵極電極。第二PMOS晶體管MP2包括一源極電極、一漏極電極、及一柵極電極,其中源極電極被耦接以接收電源電壓Vdd,漏極電極耦接于第三PMOS晶體管MP3的源極電極,柵極電極耦接以接收一感測控制信號STB。第三PMOS晶體管MP3包括一源極電極、一漏極電極及一柵極電極,其中源極電極耦接于第二PMOS晶體管MP2的漏極電極,漏極電極耦接于反向器節(jié)點INV,柵極電極耦接于感測節(jié)點SEN。
圖4繪示根據(jù)一所示實施例的用于產(chǎn)生圖3所示的一流入電壓(sink voltage)的流入電流鏡電路(sink current mirror circuit)(下文中以「電路400」表示)的電路圖。如圖4所示,電路400包括一電流源410、第四PMOS晶體管MP4與第五PMOS晶體管MP5、第八NMOS晶體管MN8、及輸出緩沖器D。
電流源410耦接于PMOS晶體管MP4及參考電壓(例如是接地)之間。電流源410產(chǎn)生可調(diào)整電流電平的一源電流Isink。第四PMOS晶體管MP4包括一源極電極、一漏極電極、及一柵極電極,其中源極電極耦接以接收電源電壓Vdd,漏極電極耦接于電流源410,柵極電極耦接于其漏極電極。第五PMOS晶體管MP5包括一源極電極、一漏極電極、及一柵極電極,其中源極電極耦接以接收電源電壓Vdd,漏極電極耦接于第八NMOS晶體管MN8,柵極電極耦接于第四PMOS晶體管MP4的柵極電極。第八NMOS晶體管MN8包括一漏極電極、一源極電極、及一柵極電極,漏極電極耦接于第五PMOS晶體管MP5的漏極電極,源極電極接地,柵極電極耦接于其的漏極電極。輸出緩沖器D包括第一終端及第二終端,第一終端耦接于第八NMOS晶體管MN8的柵極電極,第二終端耦接于輸出的流入電壓Vsink。流入電壓Vsink被施加至電路300的第三NMOS晶體管MN3的柵極電極,如圖3所示。
圖5繪示根據(jù)一比較例的于圖3所示的多個節(jié)點的多個信號與電壓的時間圖。存儲器控制器150產(chǎn)生并控制多個控制信號的施加。
如圖5所示,時間t1之前,位線選擇信號BLS是被設(shè)定為低電壓,以關(guān)閉第一NMOS晶體管MN1。因此,Y-選擇單元320無法作用,且金屬位線MBL是與流入單元330、預(yù)充電單元340、及感測單元350絕緣(isolate)。在MBL預(yù)充電之前,金屬位線MBL是被設(shè)定一參考電壓(例如是接地),且金屬位線MBL上的電壓VMBL是0伏特(V)。預(yù)充電控制信號Power被設(shè)定為高電壓,以關(guān)閉第一PMOS晶體管MP1。位線夾止信號BLC被設(shè)定為低電壓,以關(guān)閉第四NMOS晶體管MN4。因此,預(yù)充電單元340是無法作用,且電源電壓Vdd不會施加至預(yù)充電單元340的感測節(jié)點SEN。因此,于感測節(jié)點SEN的電壓VSEN以及于節(jié)點BLI的電壓VBLI是為0V。流入電壓Vsink是被設(shè)定為低電壓。因此,流入單元330是無法作用。感測控制信號STB被設(shè)定為高電壓,以關(guān)閉第二PMOS晶體管MP2,且通信號pass被設(shè)定為低電壓,以關(guān)閉第五NMOS晶體管MN5。因此,感測單元350是無法作用。
在時間t1,串行選擇線信號SSL被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài)(transition),以開啟串行選擇開關(guān)SW。接地選擇線信號GSL被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟接地選擇開關(guān)SWG。各個字線信號WL0、WL1、...、WL5被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài)。雖然圖5所示的字線信號WL0、WL1、...、WL5具有相同的低及高電壓電平,但字線信號WL0、WL1、...、WL5的電壓電平也可彼此不同。例如,對應(yīng)于所選的存儲單元(例如是MC3)的字線的信號被配置為所選擇字線電壓Vselect的轉(zhuǎn)態(tài),而對應(yīng)于剩余的存儲單元(例如是MC0、MC1、MC2、MC4、MC5)的字線的信號被配置為導(dǎo)通字線電壓Vpass的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟剩余的存儲單元。
此外,在時間t1,預(yù)充電控制信號Power被配置為由高電壓至低電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟第一PMOS晶體管MP1。位線夾止信號BLC被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟第四NMOS晶體管MN4。位線選擇信號BLS被配置為維持在低電壓,以關(guān)閉第一NMOS晶體管MN1。因此,預(yù)充電單元340是能夠作用。由于第一NMOS晶體管MN1是關(guān)閉,金屬位線MBL是絕緣于預(yù)充電單元340。由于來自電源電壓Vdd的充電,因此,在感測節(jié)電SEN的電壓VSEN增加至高電壓。
在時間t2,位線選擇信號BLS被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟第一NMOS晶體管MN1。預(yù)充電控制信號Power維持在低電壓,且位線夾止信號BLC維持在高電壓。因此,預(yù)充電電流沿著由電源電壓Vdd、第一PMOS晶體管MP1、第四NMOS晶體管MN4、及第一NMOS晶體管MN1的路徑流動,以充電金屬位線MBL。因此,在金屬位線MBL的電壓VMBL是逐漸增加。
在時間t3,于金屬位線MBL的電壓VMBL是達到一電平,使得單元(cell)電流被設(shè)定(set to)至一默認目標。此單元電流表示在感測期間流過所選的存儲單元的感測電流。
MBL預(yù)充電時期的持續(xù)時間是有關(guān)于金屬位線的負載(亦即是電阻及電容),以及流過金屬位線MBL的感測電流。較小的感測電流及較大的金屬位線負載增加MBL預(yù)充電時期的持續(xù)時間。此外,請參照圖2,當耦接于其中一些金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M的所選的存儲單元具有低閾值電壓,而耦接于其他金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M的所選的存儲單元具有高閾值電壓時,金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M的充電電流是不同。因此,金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M的MBL預(yù)充電時期的持續(xù)時間是不同。不合意地,由于金屬位線之間的寄生電容,其中一條金屬位線MBL_0、MBL_1、...、MBL_M可能受到鄰近的金屬位線的充電電流的影響。
圖6繪示根據(jù)本發(fā)明的一所示實施例的于圖3所示的多個節(jié)點的多個信號與電壓的時序圖。存儲器控制器150產(chǎn)生并控制多個控制信號的施加。在所示實施例時間t2之前及當時的信號及電壓是與圖5所示的比較例相同。因此,其之詳細描述是不提供。
在所示實施例中,MBL預(yù)充電時期的期間(亦即是當金屬位線MBL的電壓VMBL逐漸增加時),預(yù)充電控制信號Power被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以在時間t21關(guān)閉第一PMOS晶體管MP1。位線夾止信號BLC被配置為維持在高電壓,以開啟第四NMOS晶體管MN4。在此時,于感測節(jié)點SEN的電壓VSEN是有關(guān)于在時間t21流過金屬位線及所選的存儲單元(例如是MC3)的電流,此表示存儲單元MC3在MBL預(yù)充電時期的期間的狀態(tài)。若電流高于閾值電流的電平,存儲單元MC3的閾值電壓在時間t22呈現(xiàn)為低閾值電壓(lvt)。亦即,在MBL預(yù)充電時期的期間,存儲單元MC3呈現(xiàn)為lvt單元。流過MBL寄生電容以及存儲單元MC3的電流是流過由感測節(jié)點SEN、第四NMOS晶體管MN4、第一NMOS晶體管MN1所定義的電流路徑。因此,于感測節(jié)點的電壓VSEN逐漸降低,于圖6中標記為「lvt」。另一方面,若流過存儲單元MC3的電流是低于閾值電流電平,存儲單元MC3的閾值電壓在時間t22是呈現(xiàn)為高閾值電壓(hvt)。亦即,在MBL預(yù)充電時期的期間,存儲單元MC3呈現(xiàn)為hvt單元。因此,在感測節(jié)點SEN的電壓VSEN在高電壓之下維持實質(zhì)上相同,在圖6中標記為「hvt」。
在時間t22,預(yù)充電控制信號Power維持在高電壓。感測控制信號STB被配置為由高電壓至低電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟第二PMOS晶體管MP2。控制信號PDL被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟第七NMOS晶體管MN7??刂菩盘朣TBS被配置為由高電壓至低電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以關(guān)閉第二反向器INV2的接地路徑,可能另外使用MP2及MP3創(chuàng)造一DC電流路徑。因此,感測單元350能夠部分在感測節(jié)點SEN感測電壓VSEN。此時,節(jié)點DL的電壓VDL及節(jié)點DLB的電壓VDLB是有關(guān)于感測節(jié)點SEN的電壓VSEN,依序有關(guān)于流過所選的存儲單元的電流,亦即,所選的存儲單元的狀態(tài)。若存儲單元MC3的閾值電壓在MBL預(yù)充電時間的期間成為「lvt」,電壓VSEN的電壓電平下降至足以開啟第三PMOS晶體管MP3,因而使反向器節(jié)點INV的電壓VINV轉(zhuǎn)態(tài)至一高電壓。因此,在時間t23,節(jié)點DL的電壓VDL轉(zhuǎn)態(tài)至一高電壓(于圖6中標記為「lvt」),且在節(jié)點DLB的電壓VDLB轉(zhuǎn)態(tài)至一低電壓(于圖6中標記為「lvt」)。另一方面,若在MBL預(yù)充電時間的期間,存儲單元MC3的閾值電壓成為「hvt」,電壓VSEN維持在高電壓,第三PMOS晶體管MP3維持在關(guān)閉,因此在反向器節(jié)點INV的電壓VINV維持在低電壓。因此,在時間t23,節(jié)點DL的電壓VDL維持在一低電壓(于圖6中標記為「hvt」),且在節(jié)點DLB的電壓VDLB維持在一高電壓(于圖6中標記為「hvt」)。
在時間t24,預(yù)充電控制信號Power被配置為由高電壓至低電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以開啟PMOS晶體管MP1。位線夾止信號BLC是配置以維持在高電壓,以開啟第四NMOS晶體管MN4。因此,預(yù)充電單元340開啟,且金屬位線MBL的預(yù)充電重新開始。感測控制信號STB被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以關(guān)閉第二PMOS晶體管MP2。控制信號PDL被配置為由高電壓至低電壓的轉(zhuǎn)態(tài),以關(guān)閉第七NMOS晶體管MN7??刂菩盘朣TBS被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài)。因此,感測單元350是無法作用。此時,流入電壓Vsink被配置為由低電壓至高電壓的轉(zhuǎn)態(tài)。例如,通過開啟電路400的電流源410,流入電壓Vsink可由低電壓轉(zhuǎn)態(tài)至高電壓。因此,流入單元330能夠作用或無法作用是取決于節(jié)點DLB的電壓VDLB(施加至流入單元330的第二NMOS晶體管MN2)。若于節(jié)點DLB的電壓VDLB是低電壓(亦即存儲單元MC3的閾值電壓成為「lvt」),第二NMOS晶體管MN2是關(guān)閉。因此,流入單元330是無法作用且無法傳導(dǎo)任何的流入電流。另一方面,若節(jié)點DLB的電壓是高電壓(VDLB)(亦即,存儲單元MC3的閾值電壓成為「hvt」),第二NMOS晶體管MN2是開啟。因此,流入單元330是開啟,以傳導(dǎo)一流入電流。流入電流幫助縮短金屬位線MBL的預(yù)充電時間。
在預(yù)充電時期的期間以及當預(yù)充電單元340開啟時,若所選的存儲單元(例如是MC3)的閾值電壓呈現(xiàn)為高閾值電壓,沒有電流或者是小電流流動于第四NMOS晶體管的源極電極與金屬位線MBL之間。因此,相較于所選的存儲單元MC3的閾值電壓呈現(xiàn)為低閾值電壓,且其中第四NMOS晶體管MN4是大幅被開啟的情況而言,第四NMOS晶體管被微弱地開啟。因此,由于第四NMOS晶體管MN4是被微弱地開啟,金屬位線MLB的充電率是相對低。在本發(fā)明的實施例中,當感測單元350偵測到所選存儲單元(例如是MC3)的閾值電壓呈現(xiàn)為高閾值電壓,流入單元330是被開啟,以將流入電流由第四NMOS晶體管MN4的源極電極傳導(dǎo)至接地。因此,第四NMOS晶體管MN4被大幅地開啟。因此,由于第四NMOS晶體管MN4被大幅開啟,金屬位線MBL的充電率變?yōu)橄鄬焖佟?/p>
在一些實施例中,一感測時期(未繪示)接續(xù)在MBL預(yù)充電時期之后。在感測時期的期間,流入單元330仍無法作用,預(yù)充電單元340的第一PMOS晶體管MP1是關(guān)閉,預(yù)充電單元340的第四NMOS晶體管MN4維持開啟,且感測單元350能夠作用,以根據(jù)感測節(jié)點SEN的電壓VSEN感測儲存于所選存儲單元(例如是MC3)的數(shù)據(jù)。若所選的存儲單元(例如是MC3)在MBL預(yù)充電時期的期間被判斷為hvt單元,在感測時期的期間,流入電流將不會影響感測結(jié)果。此時,若所選存儲單元(例如是MC3)具有低閾值電壓,存儲單元MC3是被開啟,且產(chǎn)生感測電流Isense。感測電流Isense是由金屬位線MBL穿過存儲單元MC3流至共同源極線CSL。因此,在感測節(jié)點SEN的電壓VSEN是逐漸下降至一低電壓。另一方面,在感測時期的期間,若存儲單元MC3具有高閾值電壓,存儲單元MC3是被關(guān)閉,且無法產(chǎn)生感測電流。因此,感測節(jié)點SEN的電壓VSEN維持在高電壓。在此方式中,通過感測節(jié)點SEN的電壓VSEN,感測單元350能夠在感測時期決定儲存于所選存儲單元中的數(shù)據(jù)。
圖7繪示根據(jù)一所示實施例的MBL的預(yù)充電時期(下文中表示為「MBL預(yù)充電時間」)的長度與流過所選的存儲單元(例如是MC3)的感測電流Isense之間的關(guān)系圖。在圖7中,橫坐標710代表MBL預(yù)充電時間,縱坐標720代表感測電流Isense。如圖7所示,當MBL預(yù)充電時間由0逐漸增加,感測電流Isense是逐漸朝向流過存儲單元MC3的一理想感測電流Icell增加。當存儲單元MC3的柵極、源極及漏極偏壓已在設(shè)定時間之內(nèi)設(shè)定時,理想感測電流Icell表示流過存儲單元MC3的感測電流。預(yù)充電時間愈長,理想感測電流Icell與感測電流Isense之間的差異愈小。
圖8繪示比較例的存儲器電路以及存儲器電路300的預(yù)充電特性的圖。除了比較例的存儲器電路不包括流入單元330,且在預(yù)充電時期的期間,其感測單元沒有感測所選的存儲單元的狀態(tài)之外,比較例的存儲單元類似于存儲器電路300。除了由于比較例的存儲器電路不包括流入單元330故沒有施加流入電壓Vsink之外,施加至比較例的存儲器電路的控制信號是類似于圖5所示。
在圖8中,橫坐標810代表以納安培(nA)為單位的理想感測電流Icell及感測電流Isense之間的差異Icell-Isense,且縱坐標820代表任意單位(arbitrary unit,a.u.)的MBL預(yù)充電時間。曲線830代表比較例的存儲器電路的差異Icell-Isense。曲線840代表存儲器電路300的差異Icell-Isense。如圖8所示,差異Icell-Isense愈小,所需的MBL預(yù)充電時間愈長。此外,為了獲得相同的差異Icell-Isense,相較于比較例的存儲單元,存儲器電路300需要較短的MBL預(yù)充電時間。
如同上述,根據(jù)本發(fā)明的所示實施例的存儲器電路300包括感測單元350及流入單元330,感測單元350用于在預(yù)充電時期的期間感測所選的存儲單元的狀態(tài),流入單元330用于在基于所選的存儲單元的感測狀態(tài)之下提供一流入電流。因此,MBL預(yù)充電時間可被縮短,且存儲器芯片可被更快速地操作。
此外,在預(yù)充電時期的期間,當多條金屬位線是被同時充電時,可通過其個別的感測單元辨識出(亦即是篩選出)具有較小充電電流的金屬位線,且在預(yù)充電時期的期間,流入電流是提供至具有較小充電電流的各條金屬位線。在此情況下,由儲存于存儲器中的數(shù)據(jù)的差異所造成的多條金屬位線之間的預(yù)充電時間差異可受到補償,因此能夠維持預(yù)充電時間的一致性,且儲存于存儲單元中的數(shù)據(jù)能夠更準確地受到感測。
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